激光装置管理系统制造方法及图纸

本公开提供一种激光装置管理系统，其可以具备：服务器，以存储第一信息、第二信息和第三信息的方式构成，第一信息以通过第一访问权限可以进行访问的方式受到访问限制，第二信息以通过第二访问权限可以进行访问的方式受到访问限制，第三信息以通过第一访问权限和第二访问权限的双方可以进行访问的方式受到访问限制；以及激光装置，包括激光输出部和控制部，激光输出部向进行晶片曝光的曝光装置输出脉冲激光束，控制部进行将第一信息、第二信息和第三信息保存在服务器中的控制。第二信息包括互相建立对应的曝光装置的晶片曝光关联信息与激光装置的激光控制关联信息。

Laser device management system

The present disclosure provides a laser device management system, which can be equipped with a server, which is made up of first information, second information, and third information, and the first information is restricted by access through the first access authority, and second information can be accessed through the access of second access. The third information is restricted by access to both the first access rights and the second access rights, and the laser device, including the laser output unit and the control unit. The laser output unit outputs the pulse laser beam to the exposure device for the wafer exposure, and the control unit will be the first. The control of information, second information, and third information is stored in the server. The second information includes the correlation information of the wafer exposure corresponding to the corresponding exposure device and the laser control correlation information of the laser device.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】激光装置管理系统
本公开涉及一种激光装置管理系统。
技术介绍
随着半导体集成电路的微细化、高集成化，在半导体曝光装置中，对分辨力提出了更高的要求(在下文中，将半导体曝光装置仅称为“曝光装置”)。因此，正在推进从曝光用光源输出的光的短波长化。在曝光用光源中，使用气体激光装置来代替以往的水银灯。现在，作为曝光用的气体激光装置，使用输出波长为248nm的紫外线的KrF准分子激光装置、以及输出波长约为193.4nm的紫外线的ArF准分子激光装置。作为现在的曝光技术，如下的液浸曝光已被投入实际使用：通过将曝光装置侧的投影透镜与晶片之间的间隙用液体充满，来改变该间隙的折射率，从而使曝光用光源的外观波长短波长化。在将ArF准分子激光装置作为曝光用光源使用、且进行液浸曝光的情况下，对晶片照射水中的波长为134nm的紫外光。该技术称为ArF液浸曝光。ArF液浸曝光也被称为ArF液浸光刻。因为KrF、ArF准分子激光装置的自然振荡的频谱线宽度约为350～400pm、比较宽，所以由曝光装置侧的投影透镜缩小投影在晶片上的激光束(紫外线光)产生色差，分辨力降低。为此，有必要使从气体激光装置输出的激光束的频谱线本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种激光装置管理系统，具备：服务器，以存储第一信息、第二信息和第三信息的方式构成，所述第一信息以通过第一访问权限可以进行访问的方式受到访问限制，所述第二信息以通过第二访问权限可以进行访问的方式受到访问限制，所述第三信息以通过所述第一访问权限和所述第二访问权限的双方可以进行访问的方式受到访问限制；以及激光装置，包括激光输出部和控制部，所述激光输出部向进行晶片曝光的曝光装置输出脉冲激光束，所述控制部进行将所述第一信息、所述第二信息和所述第三信息保存在所述服务器中的控制，所述第二信息包括互相建立对应的所述曝光装置的晶片曝光关联信息与所述激光装置的激光控制关联信息。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种激光装置管理系统，具备：服务器，以存储第一信息、第二信息和第三信息的方式构成，所述第一信息以通过第一访问权限可以进行访问的方式受到访问限制，所述第二信息以通过第二访问权限可以进行访问的方式受到访问限制，所述第三信息以通过所述第一访问权限和所述第二访问权限的双方可以进行访问的方式受到访问限制；以及激光装置，包括激光输出部和控制部，所述激光输出部向进行晶片曝光的曝光装置输出脉冲激光束，所述控制部进行将所述第一信息、所述第二信息和所述第三信息保存在所述服务器中的控制，所述第二信息包括互相建立对应的所述曝光装置的晶片曝光关联信息与所述激光装置的激光控制关联信息。2.根据权利要求1所述的激光装置管理系统，其中，所述第一信息包括关于所述激光装置的控制的控制参数的数据。3.根据权利要求2所述的激光装置管理系统，其中，所述激光输出部包括被供给激光气体的激光腔室，所述控制参数包括：关于所述脉冲激光束的脉冲能量的控制的能量控制参数，关于所述脉冲激光束的波长的控制的频谱控制参数，以及关于所述激光气体的控制的气体控制参数中的至少1个。4.根据权利要求1所述的激光装置管理系统，其中，所述第三信息包括关于所述激光装置的记录数据。5.根据权利要求4所述的激光装置管理系统，其中，所述记录数据包括...

【专利技术属性】
技术研发人员：峰岸裕司，五十岚豊，太田毅，
申请(专利权)人：极光先进雷射株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP