制备OLED显示器件的方法、OLED显示器件和OLED显示设备技术

本发明专利技术公开了一种制备OLED显示器件的方法，包括：在基板上形成像素界定层以界定多个像素区，在每个像素区内通过喷墨打印形成有机膜层，根据有机膜层的表面形状在像素区内确定至少一个待补偿区域；将蒸镀源、掩模板的开口和像素区对准，所述掩模板的各开口与各待补偿区域的位置分别对应；通过所述蒸镀源在所述待补偿区域蒸镀电子功能层的同时对像素区内的有机膜层进行表面形状补偿。本发明专利技术还公开了一种OLED显示器件和OLED显示设备。通过本发明专利技术的方案，能够有效地提高像素区内成膜均一性，改善显示性能。

Method for preparing OLED display device, OLED display device and OLED display device

The invention discloses a method for preparing a OLED display device, including: forming a pixel delimiting layer on a substrate to define a plurality of pixel areas, forming an organic film by inkjet printing within each pixel area, determining at least one compensation area in the pixel area according to the surface shape of the organic film layer, and steaming the source and mask the template. The opening and pixel area alignment, each opening of the mask is corresponding to the position of each compensation region, and the surface shape of the organic film in the pixel area is compensated at the same time by vaporing the electronic functional layer by the evaporation source in the compensation area. The invention also discloses a OLED display device and a OLED display device. Through the proposal of the invention, the uniformity of film formation in the pixel area can be effectively improved and the display performance can be improved.

【技术实现步骤摘要】
制备OLED显示器件的方法、OLED显示器件和OLED显示设备
本专利技术涉及显示
，特别涉及一种制备OLED显示器件。
技术介绍
OLED(有机电致发光器件)相对于LCD具有自发光、反应快、视角广、亮度高、色彩艳、轻薄等优点，被认为是下一代显示技术。OLED薄膜沉积方法主要有真空蒸镀和溶液制程两种，真空蒸镀适用于有机小分子，其成膜均匀、技术相对成熟、但是设备投资大、材料利用率低、大尺寸产品掩模对位精度低；溶液制程包括旋涂、喷墨打印、喷嘴涂覆法等，适用于聚合物材料和可溶性小分子，其特点是设备成本低，在大规模、大尺寸生产上优势突出。其中，喷墨打印技术能有效的将溶液精准的喷墨到像素区中，形成有机薄膜。但是其最大的难点是有机溶液在像素区内难以形成厚度均一的有机薄膜。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术实施例提出一种能够对喷墨打印的像素区有机膜的厚度进行补偿的制备方法。为此，本专利技术提供的制备OLED显示器件的方法包括：在基板上形成像素界定层以界定多个像素区，在每个像素区内通过喷墨打印形成有机膜层，根据有机膜层的表面形状在像素区内确定至少一个待补偿区域；将蒸镀源、掩模板的开口和像素区对准，所述掩模板的各开口与各待补偿区域的位置分别对应；通过所述蒸镀源在所述待补偿区域蒸镀电子功能层的同时对像素区内的有机膜层进行表面形状补偿。作为优选，所述方法还包括：根据蒸镀源与像素界定层之间的距离以及待补偿区域的尺寸，确定所述开口的尺寸以及掩模板距蒸镀源的距离。作为优选，掩模板的开口尺寸小于待补偿区域的尺寸，所述方法还包括：将所述掩模板的位置调整为使得第一比例与第二比例之间的比率等于或接近1，所述第一比例为蒸镀源距掩模板的距离和开口的尺寸之间的比例，所述第二比例为蒸镀源距像素界定层的距离和待补偿区域的尺寸之间的比例。作为优选，根据像素界定层的材料确定所述有机膜层的表面形状。作为优选，所述像素界定层由亲液材料形成，在各像素区内的所述有机膜层表面确定对应于整个像素区的待补偿区域。作为优选，所述像素界定层由疏液材料形成，在各像素区内的所述有机膜层表面确定共同对应于整个像素区的至少两个待补偿区域。作为优选，所述电子功能层为电子注入层或电子传输层。作为优选，所述电子传输层中掺杂有金属锂。本专利技术实施例还提供了一种OLED显示器件，其使用上述任一种制备OLED显示器件的方法制备形成。本专利技术实施例还提供了一种OLED显示设备，其包括使用如上述任一种制备OLED显示器件的方法制备形成的OLED显示器件。通过本专利技术实施例的方案，能够有效地提高像素区内成膜均一性，改善OLED显示器件的光学性能，进而提高OLED显示设备的显示效果。附图说明图1为本专利技术的制备OLED显示器件的方法的一个实施例的示意性流程图；图2A-2D为图1所示实施例实施过程中的器件结构侧视图；图3为本专利技术的制备OLED显示器件的方法的一个实施例的示意性比例图；图4A-4C为本专利技术的制备OLED显示器件的方法的另一个实施例的示意性器件结构侧视图。具体实施方式下面参照附图对本专利技术实施例进行详细说明。图1为本专利技术的制备OLED显示器件的方法的一个实施例的示意性流程图；图2A-2D为图1所示实施例实施过程中的器件结构侧视图。如图1和图2A-2D所示，本专利技术实施例的制备OLED显示器件的方法包括：S101、在基板上形成像素界定层以界定多个像素区；本专利技术实施例中在例如玻璃基板或TFT基板的基板10上通过例如光刻胶或喷墨打印的方式形成网格状的像素界定层20。图2A示出其中一个网格的侧视图，如图2A所示的每个网格为像素界定层20所界定的像素区(也称像素Bank)。在基板10上可以预先形成对应每个像素区的ITO电极，用作每个像素区的阳极。S102、在每个像素区内通过喷墨打印形成有机膜层；如图2B所示，每个像素区内可以通过喷墨打印形成有机膜层30，例如HIL(空穴注入层)、HTL(空穴传输层)和EML(发光材料层)等有机膜层30。本专利技术一些实施例中可以通过喷墨打印形成其中部分或全部有机膜层30，打印完成后像素区内有机膜层30的表层例如为EML。S103、根据有机膜层表面形状在像素区内确定至少一个待补偿区域；根据像素界定层为亲液材料或疏液材料，在像素区内通过喷墨打印形成的有机膜层表面形状不同。亲液的像素界定层界定的像素区内容易形成边缘厚中间薄的有机膜层，疏液的像素界定层界定的像素区内容易形成中间厚边缘薄的有机膜层。本专利技术实施例中为了补偿有机膜层的表面形状，根据有机膜层的表面形状特点，在像素区内确定一个以上待补偿区域，并根据确定的待补偿区域的位置，在蒸镀用的掩模板40上形成与各个待补偿区域的位置分别对应的开口41(参见图2C)。S104、将蒸镀源、掩模板的开口和像素区对准，掩模板的各开口与各待补偿区域的位置分别对应；如图2C所示，将在S103中形成了开口41的掩模板40布置在像素区下方，使得掩模板40上形成的开口41与像素区内的各待补偿区域相应地对准。在掩模板40下方与各开口41对准的位置布置蒸镀源50，从而蒸镀源50的蒸镀口、掩模板40的开口41与像素界定层20界定的像素区内的待补偿区域对准。S105、通过所述蒸镀源在所述待补偿区域蒸镀电子功能层的同时对像素区内的有机膜层进行表面形状补偿。经过蒸镀补偿后，形成如图2D所示的像素区，其中，通过蒸镀源50在像素区内有机膜层30表面形成的电子功能层60补偿了有机膜层30的表面形状，两者产生形状互补的效果，使得像素区表面平整，并且用于进行形状补偿的电子功能层60本身也是像素区的构成部分，实现了在形成电子功能层的同时对像素区内有机膜30的表面进行形状补偿。通过本专利技术实施例的制备OLED显示器件的方法，通过蒸镀工艺在正常形成像素区电子功能层的同时实现了对像素区内通过喷墨打印形成的有机膜层的表面形状补偿，有效地提高了像素区整体功能层的均一性，提高了OLED显示器件的光学性能，从而增强了显示设备的显示效果。图3为本专利技术的制备OLED显示器件的方法的一个实施例的示意性比例图。下面参照图3对本专利技术的一些实施例进行说明。在本专利技术实施例中，设蒸镀源50与基板10之间的距离固定，并以80ppi像素为例。80ppi像素尺寸是158μm×52μm，图3中的侧视图示出的像素区尺寸为像素的长边158μm。目前喷墨打印的像素区有机膜层边缘与中间的厚度差最大为20nm，经本专利技术实施例的方法对像素区内有机膜层的表面形状进行蒸镀补偿形成蒸镀补偿层(即蒸镀形成的电子功能层)后，像素区内有机膜层最薄处(即蒸镀补偿层最厚处)至少增加10nm，使得补偿后像素区内中间厚度和边缘厚度差值小于等于10nm且单个像素区内有机膜层上形成的蒸镀补偿层的表面积至少达到该像素区总面积的80％，就属于对显示器件的性能而言可接受的范围。为此，在本专利技术实施例中，如图3所示，当使得掩模板40上的开口41的半宽度L、掩模板40到蒸镀源50的距离d、蒸镀源50到像素界定层20的距离b和待补偿区域(图3中像素区包括一个待补偿区域)的半宽度c满足第一比例d/L与第二比例b/c之间的比率等于或接近1的条件时，可以较好地实现对像素区内有机膜层的蒸镀补偿。例如，在本专利技术一个实施例的制备方法还可以包括如下步骤：在掩模板40上确定与各个待本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制备OLED显示器件的方法，包括：在基板上形成像素界定层以界定多个像素区，在每个像素区内通过喷墨打印形成有机膜层，根据有机膜层的表面形状在像素区内确定至少一个待补偿区域；将蒸镀源、掩模板的开口和像素区对准，所述掩模板的各所述开口与各待补偿区域的位置分别对应；通过所述蒸镀源在所述待补偿区域蒸镀电子功能层的同时对所述像素区内的所述有机膜层进行表面形状补偿。

【技术特征摘要】
1.一种制备OLED显示器件的方法，包括：在基板上形成像素界定层以界定多个像素区，在每个像素区内通过喷墨打印形成有机膜层，根据有机膜层的表面形状在像素区内确定至少一个待补偿区域；将蒸镀源、掩模板的开口和像素区对准，所述掩模板的各所述开口与各待补偿区域的位置分别对应；通过所述蒸镀源在所述待补偿区域蒸镀电子功能层的同时对所述像素区内的所述有机膜层进行表面形状补偿。2.如权利要求1所述的方法，还包括：根据蒸镀源与像素界定层之间的距离以及待补偿区域的尺寸，确定所述开口的尺寸以及掩模板距蒸镀源的距离。3.如权利要求1所述的方法，其中，掩模板的开口尺寸小于待补偿区域的尺寸，所述方法还包括：将所述掩模板的位置调整为使得蒸镀源距掩模板的距离和所述开口的尺寸之间的第一比例，与蒸镀源距像素界定层的距离和所述待补偿区域的尺寸之间的第二比例间的比率等于或接近...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡春静，吴长晏，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11