抗杂散光干扰的近背向散射光测量系统技术方案

本发明专利技术属于光学测量技术领域，具体涉及一种抗杂散光干扰的近背向散射光测量系统。该测量系统包括取样装置和测量装置，取样装置包括球状真空靶室和成像镜头，球状真空靶室内设置有靶点和带有打靶激光通道的漫反射板，漫反射板附着于球状真空靶室内壁上；球状真空靶室的球壁上设置有测量窗口；打靶激光入射靶点产生的近背向散射光沿打靶反方向散射后由漫反射板产生漫反射，漫反射光穿透测量窗口后再通过成像镜头进入测量装置；成像镜头将漫反射板成像于一次像面，一次像面所在的平面上设置有隔离屏，隔离屏带有多个通光孔。本发明专利技术通过设置隔离屏，排除了靶室内壁散射的杂光进入诊断光路的可能性，起到了杂散光屏蔽的效果。

Near backscatter light measurement system against stray light interference

The invention belongs to the field of optical measuring technology, in particular to a near backscattered light measuring system for stray light interference. The measuring system includes a sampling device and a measuring device. The sampling device includes a spherical vacuum target chamber and an imaging lens. A spherical target chamber is set with a target and a diffuse reflection plate with a target laser channel. The diffuse reflector is attached to the inner wall of a spherical vacuum target chamber; a measuring window is set on the ball wall of a spherical vacuum target chamber; a target is set on the target. The near backscattered light generated by the laser incident target is scattered by the diffuse reflection plate after the target is scattered along the target direction. The diffuse reflection light penetrates the measuring window and then enters the measuring device through the imaging lens. The imaging lens takes the diffuse reflection plate into a image surface, and a isolation screen is set on a flat surface at which the image is located. A plurality of light holes. By setting the isolation screen, the invention eliminates the possibility of stray light scattering from the target wall to enter the diagnostic light path, and has the effect of stray light shielding.

【技术实现步骤摘要】
抗杂散光干扰的近背向散射光测量系统
本专利技术属于光学测量
，具体涉及一种抗杂散光干扰的近背向散射光测量系统。
技术介绍
激光核聚变是目前普遍采用的一种人工可控核聚变，它在民用和军事上都具有十分重大的研究意义：为人类探索一种取之不尽的清洁核能源；用来研制“干净”(无放射污染)的核武器、发展高能激光武器；部分替代核实验。因此，激光核聚变受到世界各核大国的高度重视，从20世纪70年代后半叶开始，俄、美、日、法、中、英等国相继开始高功率激光驱动器的研制。美国在此领域的研究处于领先地位，并于2009年正式建成包含192路的超大型激光驱动装置“NIF”；法国正在建设的MLF包含240路激光；日本也在酝酿建造大型激光驱动器，并计划在2015-2020年间完成可应用于发电的基础技术研究。中国也建立了一系列的激光驱动装置(星光系列、神光系列等)，2015年完成建设的国内最大的激光驱动装置“神光－Ⅲ”包含48路激光。然而，美国NIF在2010年的点火没有成功，这在世界范围引起了较大的震惊。NIF随后的研究发现，原来在较小规模激光驱动器上验证的理论模型在NIF上不再适用，NIF打靶激光的背向散射份本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种抗杂散光干扰的近背向散射光测量系统，包括取样装置和测量装置，其特征在于：所述取样装置包括球状真空靶室和成像镜头，所述球状真空靶室内设置有靶点和带有打靶激光通道的漫反射板，所述漫反射板附着于球状真空靶室内壁上；所述球状真空靶室的球壁上设置有测量窗口；打靶激光入射靶点产生的近背向散射光沿打靶反方向散射后由漫反射板产生漫反射，漫反射光穿透测量窗口后再通过成像镜头进入测量装置；所述成像镜头将漫反射板成像于一次像面，一次像面所在的平面上设置有隔离屏，所述隔离屏带有多个通光孔。

【技术特征摘要】
1.一种抗杂散光干扰的近背向散射光测量系统，包括取样装置和测量装置，其特征在于：所述取样装置包括球状真空靶室和成像镜头，所述球状真空靶室内设置有靶点和带有打靶激光通道的漫反射板，所述漫反射板附着于球状真空靶室内壁上；所述球状真空靶室的球壁上设置有测量窗口；打靶激光入射靶点产生的近背向散射光沿打靶反方向散射后由漫反射板产生漫反射，漫反射光穿透测量窗口后再通过成像镜头进入测量装置；所述成像镜头将漫反射板成像于一次像面，一次像面所在的平面上设置有隔离屏，所述隔离屏带有多个通光孔。2.根据权利要求1所述的抗杂散光干扰的近背向散射光测量系统，其特征在于：所述测量装置包括沿光路传播方向依次设置的缩束正透镜和二向色镜；所述二向色镜将光谱分离后，长波被透射进入长波透射光测量单元，短波被反射进入短波反射光测量单...

【专利技术属性】
技术研发人员：闫亚东，何俊华，张敏，韦明智，薛艳博，许瑞华，
申请(专利权)人：中国科学院西安光学精密机械研究所，
类型：发明
国别省市：陕西,61