像素结构制造技术

本发明专利技术公开了一种像素结构，包含像素电极、至少一个数据选择线与至少一个隔离线。至少一个隔离线沿像素电极排列。像素电极用以储存像素电压。至少一个数据选择线用以传递至少一个数据信号。至少一个隔离线用以降低至少一个数据信号的电场对像素电极的像素电压的影响。至少一个隔离线的投影区域与像素电极的投影区域重叠。本发明专利技术可通过耦接固定电压(例如接地端)的隔离线来降低数据信号的电场对像素电极(尤其是第二电极)的影响。因此，可降低亮度不均(Mura)的现象，有效地提升像素结构的显示质量。

【技术实现步骤摘要】
像素结构
本专利技术涉及一种像素技术，且特别涉及一种像素结构。
技术介绍
在大型面板中，为了缩减边框的宽度而增加数据选择线的数目，导致像素之间的间距过大。通过桥接方式使像素电极的面积增加以降低像素之间的间距，却也因此导致数据选择线的电场影响像素电极，因此降低像素的显示质量。专利技术本专利技术的目的是提供一种像素结构，可降低亮度不均(Mura)的现象，有效地提升画素像素结构的显示质量。根据本专利技术提供的一种像素结构，其包含像素电极、至少一个数据选择线与至少一个隔离线。至少一个隔离线沿像素电极排列。像素电极用以储存像素电压。至少一个数据选择线用以传递至少一个数据信号。至少一个隔离线用以降低至少一个数据信号的电场对像素电极的像素电压的影响。至少一个隔离线的投影区域与像素电极的投影区域重叠。在本专利技术的一实施例中，像素电极包含第一电极与第二电极。第二电极电性耦接第一电极。至少一个隔离线的投影区域与第二电极的投影区域重叠。的本
技术实现思路
的一实施例中，至少一个隔离线与至少一个数据选择线设置于相同层。在本
技术实现思路
的一实施例中，至少一个隔离线设置于像素电极与至少一个数据选择线之间。在本专利本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种像素结构，其特征在于，包含：像素电极，用以储存像素电压；至少一个数据选择线，用以传递至少一个数据信号；以及至少一个隔离线，沿所述像素电极排列并用以降低所述至少一个数据信号的电场对所述像素电极的所述像素电压的影响，其中所述至少一个隔离线的投影区域与所述像素电极的投影区域重叠。

【技术特征摘要】
1.一种像素结构，其特征在于，包含：像素电极，用以储存像素电压；至少一个数据选择线，用以传递至少一个数据信号；以及至少一个隔离线，沿所述像素电极排列并用以降低所述至少一个数据信号的电场对所述像素电极的所述像素电压的影响，其中所述至少一个隔离线的投影区域与所述像素电极的投影区域重叠。2.如权利要求1所述的像素结构，其特征在于，所述像素电极包含：第一电极；以及第二电极，电性耦接所述第一电极，其中所述至少一个隔离线的投影区域与所述第二电极的投影区域重叠。3.如权利要求1所述的像素结构，其特征在于，所述至少一个隔离线与所述至少一个数据选择线设置于相同层。4.如权利要求1所述的像素结构，其特征在于，所述至少一个隔离线设置于所述像素电极与所述至少一个数据...

【专利技术属性】
技术研发人员：李及元，伊恩法兰契，林胜隆，梁广恒，蔡淑芬，陈家弘，
申请(专利权)人：元太科技工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾,71