一种低本底实验室专用的超高屏蔽门制造技术

技术编号:17773948 阅读:90 留言:0更新日期:2018-04-22 01:35
本发明专利技术公开了一种低本底实验室专用的超高屏蔽门,包括防辐射门、门框、分别处于门框上下两侧的上导轨和下导轨,门框上具有门口,防辐射门的上下两侧分别连接上导轨和下导轨实现滑动,门口的四周和防辐射门上均设有弯折,防辐射门在关闭时门口的弯折与防辐射门的弯折相互搭接使缝隙变得曲折。在门与门框之间的缝隙处改进,增加了弯折配合,使得防辐射门在关闭时防辐射门与门框之间缝隙的横截面变得弯折,其效果便是辐射难以折射出去或者折射进入。此发明专利技术用于辐射屏蔽领域。

【技术实现步骤摘要】
一种低本底实验室专用的超高屏蔽门
本专利技术涉及辐射屏蔽领域,特别是涉及一种低本底实验室建设中对自然存在的本底辐射的屏蔽系统。
技术介绍
自然界中天然本底辐射是由垂直入射的高能射线宇宙射线、空气中的氡、地球天然γ辐射和建筑材料中核素产生的辐射,这些天然射线一般不会对人体产生危害,但会干扰物理研究中的数据测量精度。在低本底实验室中,需要进行一系列高精度的监测活动,为避免自然本底辐射对数据的干扰,对辐射屏蔽提出了非常高的要求。在门口的位置,传统做法仅仅是采用一块可滑动的平板防辐射板作为遮挡,不同于传统应用中的辐射源或射线装置,自然本底射线除了宇宙射线以外,空气中的氡、地球天然γ辐射和建筑材料中核素产生的辐射和自然本底射线来自于整个实验室的六面空间,即射线从空间的各个角度入射,若门与墙之间的缝隙处不作进一步处理,射线仍然有可能直射、折射进去。高标准的低本底实验室的目标控制值往往在30nGy/h以内,传统做法的平板防辐射板以及平板防辐射门已不能满足屏蔽要求。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种避免射线多次折射后溢出房间的低本底实验室专用的超高屏蔽门。本专利技术所采取的技术方案是:一种低本本文档来自技高网...
一种低本底实验室专用的超高屏蔽门

【技术保护点】
一种低本底实验室专用的超高屏蔽门,其特征在于:包括防辐射门(1)、门框(2)、分别处于门框(2)上下两侧的上导轨(3)和下导轨(4),所述门框(2)上具有门口,所述防辐射门(1)的上下两侧分别连接上导轨(3)和下导轨(4)实现滑动,所述门口的四周和防辐射门(1)上均设有弯折,所述防辐射门(1)在关闭时门口的弯折与防辐射门(1)的弯折相互搭接使防辐射门(1)与门框(2)之间的缝隙变得曲折。

【技术特征摘要】
1.一种低本底实验室专用的超高屏蔽门,其特征在于:包括防辐射门(1)、门框(2)、分别处于门框(2)上下两侧的上导轨(3)和下导轨(4),所述门框(2)上具有门口,所述防辐射门(1)的上下两侧分别连接上导轨(3)和下导轨(4)实现滑动,所述门口的四周和防辐射门(1)上均设有弯折,所述防辐射门(1)在关闭时门口的弯折与防辐射门(1)的弯折相互搭接使防辐射门(1)与门框(2)之间的缝隙变得曲折。2.根据权利要求1所述的低本底实验室专用的超高屏蔽门,其特征在于:所述门口在防辐射门(1)运动方向上的首尾两侧分别设有第一凹槽(21)和第二弯折(22),所述门口上下两侧分别设有第三凹槽(23)和第四凹槽(24)。3.根据权利要求2所述的低本底实验室专用的超高屏蔽门,其特征在于:所述第一凹槽(21)、第三凹槽(23)和第四凹槽(24)的横截面均为U形,所述第二弯折(22)的横截面为L形。4.根据权利要求3所述的低本底实验室专用的超高屏蔽门,其特征在于:所述第一凹槽(21)和第二...

【专利技术属性】
技术研发人员:龙远奎陈敏婷陈秋宏方克生刘庭立
申请(专利权)人:广东中科揽胜辐射防护科技有限公司
类型:发明
国别省市:广东,44

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