【技术实现步骤摘要】
一种晶片甩干机
本专利技术属于晶片干燥装
,尤其涉及一种晶片甩干机。
技术介绍
晶片是由晶棒根据设计尺寸切割,再经过车削,研磨,腐蚀等工艺加工成的。晶片表面总有一层由磨料和石英微粒构成的破坏层,再经过腐蚀后晶片表面成分复杂,有大量的金属离子和有机物,并且牢固的吸附在晶片上,如果不清除残留在晶片上的金属离子和有机物,被真空镀膜银层电极覆盖后,它们将在谐振器工作过程中,随着时间的推移发生应力变形而逐渐松动、脱落,造成谐振器频率发生漂移,电阻值增大。所以要对镀膜前的晶片进行清洗,清洗后的晶片表面带有水迹,如果不进行充分的干燥,同样会对晶片的频率造成很大的影响,生产出来的晶体谐振器就会不合格。所以对晶片清洗后的干燥也是非常重要的环节。目前国内大多公司使用微波炉或者专门的烘箱对晶片进行干燥,会对晶片造成污染,用微波炉时晶片会跳动,可能会造成晶片的损伤。干燥的时间太长而且不容易掌控。微波炉使用的时间长后容易发生故障。综合以上,现有的干燥方法存在如下问题①用微波炉或者烤箱烘干,其时间不容易掌握,相对干燥用时太长。②微波炉烘干时,会使晶片产生跳动,造成晶片表面损伤。③微波炉 ...
【技术保护点】
一种晶片甩干机,其特征在于,包括动力装置、与该动力装置连接的旋转平台以及设置于所述旋转平台上的限位柱,所述限位柱的数量至少为3根,所述限位柱包括夹持装置和调整装置,所述调整装置用于调整所述夹持装置的夹持力度,所述旋转平台上设置有排水孔。
【技术特征摘要】
1.一种晶片甩干机,其特征在于,包括动力装置、与该动力装置连接的旋转平台以及设置于所述旋转平台上的限位柱,所述限位柱的数量至少为3根,所述限位柱包括夹持装置和调整装置,所述调整装置用于调整所述夹持装置的夹持力度,所述旋转平台上设置有排水孔。2.根据权利要求1所述的晶片甩干机,其特征在于...
【专利技术属性】
技术研发人员:许子俊,
申请(专利权)人:中科晶电信息材料北京股份有限公司,
类型:新型
国别省市:北京,11
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