【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有用于内耦合复用光流的光学元件的显示系统相关申请的交叉引用本申请根据35USC§119(e)要求2015年6月15日提交的美国临时申请No.62/175994和2015年6月16日提交的美国临时申请No.62/180551的优先权权益。以上确定的申请中的每一个通过引用全部并入在此。本申请通过引用全部并入以下美国专利和专利申请中的每一个:2002年1月1日发布的题为“步进和闪光压印技术(StepandFlashImprintTechnology)”的美国专利No.6,334,960;2005年3月29日发布的题为“用于压印光刻工艺的高精度定位、对准和间隙控制阶段(High-PrecisionOrientation,AlignmentandGapcontrolStagesforImprintLithographyProcesses)”的美国专利No.6,873,087;2005年5月31日发布的题为“步进和重复压印光刻(StepandRepeatImprintLithography)”的美国专利No.6,900,881;2006年7月4日发布的题为“用于压印光刻的定位系统(AlignmentSystemsforImprintLithography)”的美国专利No.7,070,405;2006年10月17日发布的题为“用于使用压印光刻制造图案特征的方法(MethodsforFabricatingPatternedFeaturesUtilizingImprintLithography)”的美国专利No.7,122,482;2006年11月28日发布的题为“用于U ...
【技术保护点】
一种显示系统,包括:波导;以及图像注入装置,其被配置为将复用光流定向到所述波导中,所述复用光流包括具有不同光特性的多个光流,其中,所述波导包括内耦合光学元件,所述内耦合光学元件被配置为选择性地内耦合所述光流中的第一光流,而透射一个或多个其它光流。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.06.15 US 62/175,994;2015.06.16 US 62/180,5511.一种显示系统,包括:波导;以及图像注入装置,其被配置为将复用光流定向到所述波导中,所述复用光流包括具有不同光特性的多个光流,其中,所述波导包括内耦合光学元件,所述内耦合光学元件被配置为选择性地内耦合所述光流中的第一光流,而透射一个或多个其它光流。2.根据权利要求1所述的系统,其中,所述波导是波导堆叠的一部分,其中,所述波导堆叠包括第二波导,所述第二波导包括内耦合光学元件,所述内耦合光学元件被配置为选择性地转向所述光流中的第二光流,而透射一个或多个其它光流,其中,所述波导的所述内耦合光学元件被配置为将所述光流中的至少一个光流透射到所述第二波导的所述内耦合光学元件。3.根据权利要求1所述的系统,其中,所述内耦合光学元件是衍射结构。4.根据权利要求1所述的系统,其中,所述内耦合光学元件包括液晶材料。5.根据权利要求1所述的系统,其中,所述内耦合光学元件在透射状态和主动光重定向状态之间可切换。6.根据权利要求1所述的系统,其中,所述内耦合光学元件包括超颖表面。7.根据权利要求1所述的系统,其中,所述内耦合光学元件包括超材料。8.根据权利要求1所述的系统,其中,所述内耦合光学元件包括PBPE结构。9.根据权利要求1所述的系统,其中,所述光流具有不同的波长、不同的偏振或其组合。10.根据权利要求1所述的系统,其中,所述图像注入装置被配置为同时向所述波导提供所述多个光流的所有所述光流。11.根据权利要求1所述的系统,其中,所述图像注入装置被配置为在不同的时间向所述波导提供所述多个光流中的至少一些所述光流。12.根据权利要求1所述的系统,其中,所述图像注入装置是扫描光纤。13.根据权利要求1所述的系统,其中,所述图像注入装置包括光调制装置。14.根据权利要求1所述的系统,其中,所述波导包括在头戴式显示器的目镜中。15.根据权利要求1所述的系统,其中,所述波导包括外耦合元件,所述外耦合元件被配置为输出在所述波导中传播的内耦合的第一光流。16.根据权利要求15所述的系统,其中,所述外耦合元件包括第一组光重定向元件,所述第一组光重定向元件被配置为沿着至少一个轴线增加眼箱的尺寸。17.根据权利要求16所述的系统,其中,所述外耦合元件包括第二组光重定向元件,所述第二组光重定向元件被配置为沿着与所述至少一个轴线正交的轴线增加所述眼箱的尺寸。18.根据权利要求1所述的系统,其中,所述内耦合光学元件包括包含PBPE结构的液晶偏振光栅。19.根据权利要求1所述的系统,其中,所述内耦合光学元件包括包含超颖表面的液晶偏振光栅。20.一种显示系统,包括:多个堆叠波导,每一个波导包括内耦合光学元件;以及图像注入装置,其被配置为将复用光流定向到所述多个堆叠波导中,所述复用光流包括具有不同...
【专利技术属性】
技术研发人员:M·A·克鲁格,B·T·朔文格特,M·N·米勒,V·辛格,C·卑路斯,P·圣西莱尔,孙洁,
申请(专利权)人:奇跃公司,
类型:发明
国别省市:美国,US
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