一种减反层的设计方法、阵列基板及液晶面板技术

本发明专利技术公开了一种减反层的设计方法、阵列基板及液晶面板。该方法包括：分别获取第一衬底和第二衬底对应预定波长的第一折射率和第二折射率，第一衬底和第二衬底用于夹持减反层；在预设的可变参数、减反层厚度与反射率的关联数据中获取对应最小反射率的最佳可变参数和最佳减反层厚度；根据最佳可变参数、第一折射率和第二折射率获取减反层的最佳减反层折射率。通过上述方式，本发明专利技术可以快速准确地确定减反层的折射率和厚度，从而达到良好降低光反射率、提高阵列基板置于外侧的液晶面板的显示性能的目的。

A design method of antireflective layer, array substrate and liquid crystal panel

The invention discloses a design method of antireflective layer, an array substrate and a liquid crystal panel. The method includes: obtaining the first substrate and the second substrate corresponding to a predetermined wavelength of the first refractive index and refractive index of second, the first substrate and the second substrate for clamping the antireflection layer; in the best variable parameter variable parameters, preset layer thickness and reduction of data associated with anti reflectance obtained corresponding to the minimum reflectivity and the best thickness of anti reduction according to the optimal parameters, the variable layer; the first refractive index and refractive index of second antireflection layer to obtain the best anti reflection layer refractive index. Through the above way, the invention can quickly and accurately determine the refractive index and thickness of the antireflection layer, so as to achieve a good reduction of light reflectivity and improve the display performance of the LCD panel placed on the outside side.

【技术实现步骤摘要】
一种减反层的设计方法、阵列基板及液晶面板
本专利技术涉及液晶显示领域，特别是涉及一种减反层的设计方法、阵列基板及液晶面板。
技术介绍
液晶面板(LCD)的基本结构包括彩膜基板、阵列基板以及被彩膜基板和阵列基板夹在中间的液晶层。为了减小阵列基板边缘非显示区域的面积，从而设计更有视觉冲击力的微边框液晶面板，现有技术的一种做法是将液晶面板中的阵列基板置于外侧也即靠近观看者，将彩膜基板置于内侧更靠近背光源的位置。但是将阵列基板置于外侧，由于阵列基板的金属栅极层对环境光有较为明显的反射，从而会降低液晶面板的显示对比度。如果能够降低金属栅极层的光反射率，将有助于提高阵列基板置于外侧的液晶面板的显示性能，但是现有技术中尚缺少一种针对降低金属表面光反射率的减反层设计方法。众所周知，在折射率分别为K1和K3(K1、K3均为实数)的两种材料中间，添加一层折射率为且厚度为的中间层，可以将波长为λ的光反射率降为零，同时对λ附近的光也有降低反射率的效果。但是对于两种材料中至少有一种是金属材料的情况，由于金属的折射率有很大的虚部，也即表面反射率大、光吸收系数大，且折射率随波长剧烈变化，则采用折射率的中间层并不能本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种减反层的设计方法，其特征在于，所述方法包括：分别获取第一衬底和第二衬底对应预定波长的第一折射率和第二折射率，所述第一衬底和所述第二衬底用于夹持所述减反层；在预设的可变参数、减反层厚度与反射率的关联数据中获取对应最小反射率的最佳可变参数和最佳减反层厚度；根据所述最佳可变参数、所述第一折射率和所述第二折射率获取所述减反层的最佳减反层折射率。

【技术特征摘要】
1.一种减反层的设计方法，其特征在于，所述方法包括：分别获取第一衬底和第二衬底对应预定波长的第一折射率和第二折射率，所述第一衬底和所述第二衬底用于夹持所述减反层；在预设的可变参数、减反层厚度与反射率的关联数据中获取对应最小反射率的最佳可变参数和最佳减反层厚度；根据所述最佳可变参数、所述第一折射率和所述第二折射率获取所述减反层的最佳减反层折射率。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述减反层的第三折射率满足如下公式：n3＝n1(λ)m·n2(λ)1-m0≤m≤1；其中，λ为所述预定波长，n1(λ)为所述第一折射率，n2(λ)为所述第二折射率，n3为所述第三折射率，m为所述可变参数；其中，当所述可变参数为所述最佳可变参数时，对应于所述最佳可变参数的所述第三折射率为所述最佳减反层折射率。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述预设的可变参数、减反层厚度与反射率的关联数据通过以下方式获得：在电磁场数值模拟软件中设置所述可变参数和所述减反层厚度，对所述可变参数和所述减反层厚度进行参数扫描，获得所述反射率关于所述可变参数和所述减反层厚度的关联数据。4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法进一步包括：根据所述最佳减反层折射率确定形成所述减反层的材料；在所述第一衬底和所述第二衬底之间涂布最佳减反层厚度的所述材料以形成所述减反层。5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述材料为金属氧化物。6.一种阵列基板，其特征在于，所述阵列基板包括：基板、设置在所述基板上...

【专利技术属性】
技术研发人员：林旭林，陈黎暄，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44