The application relates to a grating precise alignment method and its device, which belongs to the field of optical elements, systems or instruments for generating stereoscopic or other three-dimensional effects. Including the track, transparent vacuum adsorption platform, benchmark test chart display, screen, observation test chart of camera, three intake shaft alignment platform, and Mark CCD to fit screen recognition, benchmark screen setting, transparent vacuum adsorption platform mounted on the track, the transparent vacuum adsorption platform is arranged on the rotating shaft, to fit the adsorption on the membrane transparent vacuum adsorption platform above, to fit the film is arranged above the test chart display and test chart were observed with test chart using intake screen camera; transparent vacuum adsorption platform and three axis alignment platform double position fit. This application is applied to the grating fitting, especially the 3D grating fitting, which has the advantages of high precision, convenient operation and full fitting.
【技术实现步骤摘要】
一种光栅精确对位贴合方法及其装置
本申请涉及一种光栅精确对位贴合方法及其装置,属于用于产生立体或其他三维效果的光学元件、系统或仪器
技术介绍
3D光栅包括柱透镜光栅和狭缝光栅,贴合时有非常高的精度要求,特别是角度,一般要求达到±0.01度以下。市场常用OCA或LOCA进行3D光栅的对位贴合。用OCA工艺时,贴合效率极高,但是无法精确对位,原因在于:OCA常用翻版贴合机,用CCD捕捉屏的基准点和光栅边界进行对位。虽然翻版贴合机的设备重复定位精度可以达到±0.1mm,但光栅膜的切割精度只能达到±0.3mm,加上CCD识别误差,所以最终贴合出来的结果达不到±0.01度的要求,因此通常依靠软件来修正,无法实现产品的参数一致性。用LOCA工艺时,可以进行精确对位,但是效率低下,原因在于:(1)设备自动化程度低下,一般用冷裱机进行贴合;(2)大气下水胶贴合,会显著溢胶,需要进行围坝处理,或胶清洁处理;(3)LOCA工艺精确对位需要LCD开机用3D光栅专用测试软件或图进行对位,驱动过程会增加屏电路不良和静电击伤的比例。以及LCD连接电路的工作只能由人工完成,无法实现自动化。基于此,做出本申请。
技术实现思路
针对现有光栅对位贴合所存在的上述缺陷,本申请首先提供一种可实现精确贴合、并可实现全贴合的光栅精确对位贴合装置。为实现上述目的,本申请采取的技术方案如下:光栅精确对位贴合装置,包括轨道、透明真空吸附平台、基准屏、测试图观察显示屏、测试图摄入摄像头、三轴对位平台、待贴合屏以及Mark识别CCD,基准屏上设置测试图,透明真空吸附平台安装在轨道上,并沿轨道左右移动;透 ...
【技术保护点】
光栅精确对位贴合装置,其特征在于:包括轨道、透明真空吸附平台、基准屏、测试图观察显示屏、测试图摄入摄像头、三轴对位平台、待贴合屏以及Mark识别CCD,基准屏上设置测试图,透明真空吸附平台安装在轨道上,并沿轨道左右移动;透明真空吸附平台上设置转轴,转轴带动该透明真空吸附平台绕其水平轴线转动,待贴合膜吸附于透明真空吸附平台上方,待贴合膜上方设置测试图观察显示屏以及与测试图观察显示屏配合使用的测试图摄入摄像头;真空吸附平台行进路线上还设置有三轴对位平台、待贴合屏和Mark识别CCD,三轴对位平台和待贴合屏位于轨道下方,待贴合屏由三轴对位平台吸附于其上方,且待贴合屏不高于基准屏所在水平面,Mark识别CCD位于轨道上方,并对应设置于三轴对位平台上方;透明真空吸附平台与三轴对位平台构成双工位贴合。
【技术特征摘要】
1.光栅精确对位贴合装置,其特征在于:包括轨道、透明真空吸附平台、基准屏、测试图观察显示屏、测试图摄入摄像头、三轴对位平台、待贴合屏以及Mark识别CCD,基准屏上设置测试图,透明真空吸附平台安装在轨道上,并沿轨道左右移动;透明真空吸附平台上设置转轴,转轴带动该透明真空吸附平台绕其水平轴线转动,待贴合膜吸附于透明真空吸附平台上方,待贴合膜上方设置测试图观察显示屏以及与测试图观察显示屏配合使用的测试图摄入摄像头;真空吸附平台行进路线上还设置有三轴对位平台、待贴合屏和Mark识别CCD,三轴对位平台和待贴合屏位于轨道下方,待贴合屏由三轴对位平台吸附于其上方,且待贴合屏不高于基准屏所在水平面,Mark识别CCD位于轨道上方,并对应设置于三轴对位平台上方;透明真空吸附平台与三轴对位平台构成双工位贴合。2.如权利要求1所述的光栅精确对位贴合装置,其特征在于:所述的透明真空吸附平台上设置有用于提供真空以吸附待贴合膜的主道。3.如权利要求1所述的光栅精确对位贴合装置,其特征在于:所述的转轴与轨道同水平轴线设置。4.如权利要求1所述的光栅精确对位贴合装置,其特征在于:所述的转轴旋转角度为180°。5.如权利要求1所述的光栅精确对位贴合装置,其特征在于:所述的Mark识别CCD设置有两组,分别位于三轴对位平台的左右两端上方。6.如权利要求1所述的光栅精确对位贴合装置,其特征在于:...
【专利技术属性】
技术研发人员:虞志刚,邵静磊,顾开宇,虞磊,吴倩,
申请(专利权)人:宁波维真显示科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:浙江,33
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