多密度图案投影仪制造技术

本实用新型专利技术提供一种多密度图案投影仪，包括光源、透镜以及衍射光学元件，其中光源为VCSEL阵列光源，包括半导体衬底以及排列在所述半导体衬底上的4个独立控制的VCSEL光源子阵列，并且4个独立控制的VCSEL光源子阵列中VCSEL光源的数量依次减少，以满足不同密度结构光图案的投影。基于该多密度图案投影仪的深度相机可以用来获取不同精度的深度图像从而适用于多种应用。

【技术实现步骤摘要】
多密度图案投影仪说明书
本专利技术涉及光学及电子
，尤其涉及一种多密度图案投影仪及其深度相机。
技术介绍
3D成像特别是应用于消费领域中的3D成像技术将不断冲击传统的2D成像技术，3D成像技术除了拥有对目标物体进行2D成像能力之外还可以获取目标物体的深度信息，根据深度信息可以进一步实现3D扫描、场景建模、手势交互等功能。深度相机特别是结构光深度相机或TOF(时间飞行)深度相机是目前普遍被用来3D成像的硬件设备。深度相机中的核心部件是激光投影仪，按照深度相机种类的不同，激光投影仪的结构与功能也有区别，比如专利CN201610977172A中所公开的投影仪用于向空间中投射斑点图案以实现结构光深度测量，这种斑点结构光深度相机也是目前较为成熟且广泛采用的方案。VCSEL(垂直腔面发射激光器)阵列光源由于体积小、功率大、光束发散角小、运行稳定等诸多优势将成深度相机激光投影仪的光源的首选。对于结构光深度相机的投影仪特别是基于散斑图案的投影仪而言，VCSEL不仅提供了照明，其排列形式也会直接影响到最终投向目标的结构光散斑图案，进一步将会影响到深度相机的测量精度与速度。已有方案中采用较多的是不本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种多密度图案投影仪，包括光源、透镜以及衍射光学元件，其特征在于，所述光源为VCSEL阵列光源；所述VCSEL阵列光源包括半导体衬底以及排列在所述半导体衬底上的4个独立控制的VCSEL光源子阵列；所述4个VCSEL光源子阵列中VCSEL光源数量依次减少；所述4个VCSEL光源子阵列中VCSEL光源的数量依次为：50～500、40～400、5～50、4～40。

【技术特征摘要】
1.一种多密度图案投影仪，包括光源、透镜以及衍射光学元件，其特征在于，所述光源为VCSEL阵列光源；所述VCSEL阵列光源包括半导体衬底以及排列在所述半导体衬底上的4个独立控制的VCSEL光源子阵列；所述4个VCSEL光源子阵列中VCSEL光源数量依次减少；所述4个VCSEL光源子阵列中VCSEL光源的数量依次为：50～500、40～400、5～50、4～40。2.根据权利要求1所述的投影仪，其特征在于，所述VCSEL光源子阵列中VCSEL光源的排列包括不规则排列。3.根据权利要求1所述的投影仪，其特征在于，所述VCSEL光源子阵列两两之间相互重叠...

【专利技术属性】
技术研发人员：王兆民，许星，
申请(专利权)人：深圳奥比中光科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44