【技术实现步骤摘要】
一种气体导流装置
本技术属于气体输送结构技术,具体涉及一种气体导流装置,可用于含硫废气或者其他有害气体的处理。
技术介绍
导流装置在气体处理方面应用很多;现有螺旋槽管对管体中心区域流体的对流难以强化;扰流子管由于扰流子与管体内壁之间有一定的间隙,使其破坏流体边界层的能力减弱,会使气管的阻力降增大;缩放管制造成本高,并且仅能对流体边界层的减薄有作用,对管体中心区域气流的对流强化效果有限。
技术实现思路
本专利技术公开了一种气体导流装置,制备简单,尤其是一体成型,避免现有导流片存在多处接缝的问题,得到的导流装置可有效引导有害气体比如含硫气体沿着导流片运行,特别是通过结构的设计,可以有效引导气流的同时使得其氧化物形成并得到有效收集。技术采用如下技术方案:一种气体导流装置,包括气体导流管以及位于气体导流管的气体导流片;所述气体导流片包括复数个气体导流单元;所述气体导流单元为螺旋结构;所述螺旋结构的中心轴穿过所述螺旋结构的螺旋面;所述螺旋结构的螺旋角为20~50度;所述气体导流单元一面光滑,与光滑面相对的面上设有复数个凹槽。上述技术方案中,所述螺旋结构的重复数为2,即本技术的螺 ...
【技术保护点】
一种气体导流装置,其特征在于,所述气体导流装置包括气体导流管以及位于气体导流管的气体导流片;所述气体导流片包括复数个气体导流单元;所述气体导流单元为螺旋结构;所述螺旋结构的中心轴穿过所述螺旋结构的螺旋面;所述螺旋结构的螺旋角为20~50度;所述气体导流单元一面光滑,与光滑面相对的面上设有复数个凹槽。
【技术特征摘要】
1.一种气体导流装置,其特征在于,所述气体导流装置包括气体导流管以及位于气体导流管的气体导流片;所述气体导流片包括复数个气体导流单元;所述气体导流单元为螺旋结构;所述螺旋结构的中心轴穿过所述螺旋结构的螺旋面;所述螺旋结构的螺旋角为20~50度;所述气体导流单元一面光滑,与光滑面相对的面上设有复数个凹槽。2.根据权利要求1所述气体导流装置,其特征在于,所述螺旋结构的重复数为2;所述螺旋结构的螺旋角为30~40度。3.根据权利要求1所述气体导流装置,其特征在于,所述气体导流片的侧边为弧面结构;所述气体导流片的宽度与气体导流管内径一致。4.根据权利要求1所述气体导流装置,其特征在于,所述气体导流单元的宽度为长度的5~15%。5.根据权利要求1所述气体导流装置,其特征在于,所述凹槽的深度为气体导...
【专利技术属性】
技术研发人员:陶重犇,
申请(专利权)人:昆山佳鹿石英有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏,32
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