The present invention provides a method for optical glass hyperspectral imaging instrument design method, belonging to the technical field of optical design, the design method of optical glass including assembly steps, measurement steps and coating step, assembly steps is the entrance slit of the incident light through the hyperspectral imager, and the incident light passes through a collimating system optical system, and focusing system, received by the detector, the spectrum received by the detector comprises a level two level of spectrum and spectrum, hyperspectral imager alignment, calculated at the two levels of spectral location at any position between the detector and the focusing system, the spectral response curve of detector, recording spectral response curve the result, according to the results of calculation of the corresponding spectral response correction transmittance curve of spectral response curve, plating spectrum level two on one side of the optical glass On the filter layer, the other side is plated with a spectral response and the film is uniformly corrected. The design method of the optical glass is simple, convenient, low manufacturing cost and easy to be realized.
【技术实现步骤摘要】
一种用于高光谱成像仪的光学玻璃的设计方法
本专利技术涉及光学设计
,具体而言,涉及一种用于高光谱成像仪的光学玻璃的设计方法。
技术介绍
成像光谱仪是成像光谱技术的重要载体,是集精密光学技术、精密机械技术、微弱信号检测技术、探测器技术、信息处理技术于一体的综合性设备,利用成像光谱仪既能采集到目标的二维空间图像信息,又能获取目标空间各点的光谱信息,从而实现对目标的定时、定位、定性、定量分析。高光谱成像仪是指光谱分辨率为波长的1/100数量级范围的成像光谱仪。高光谱成像仪采集目标的二维空间图像信息及各点的光谱信息构成三维数据立方。数据立方具有“图谱合一”的特点,既包含了目标的图像信息,又包含了目标各点的光谱信息;对应于目标的每一个空间点,均有一个连续的、高光谱分辨率的光谱曲线;这些信息表征了目标的影响特征、辐射强度及光谱特征。数据立方中的光谱曲线信息直接反应所探测目标各点的物质成分,因此光谱曲线信息的正确获取至关重要。高光谱成像仪采集数据过程中,有两个因素影响光谱曲线信息的正确获取,第一个是二级光谱,第二个是光谱响应曲线的非均匀性。二级光谱的影响是指入射光经过高光谱成像仪的分光系统后,波长为λ、衍射级为2m的光与波长为2λ、衍射级次为m的光相互重叠,影响波长为2λ、衍射级次为m的光信息的获取。光谱响应曲线非均匀性的影响是指探测器对于不同波长的光响应不同,光谱曲线的强度在探测波段范围内变化较大;目前,为了避免探测器响应度高的波长处光强值达到饱和,限制了曝光时间的增加,这样就导致探测器响应度低的波长处光强值较小,影响该波长处光谱信息的提取。目前,对高光谱成像仪 ...
【技术保护点】
一种用于高光谱成像仪的光学玻璃的设计方法,其特征在于,所述光学玻璃用于对二级光谱进行过滤,以及对光谱响应进行校正,该光学玻璃的设计方法包括以下步骤:装调步骤:使入射光穿过高光谱成像仪的入射狭缝,然后入射光依次穿过准直系统、分光系统和聚焦系统后,由探测器接收,探测器接收到的光谱包括一级光谱和二级光谱,对高光谱成像仪进行装调,计算出探测器与聚焦系统之间任意位置处二级光谱所在的位置;测量步骤:测量探测器的光谱响应曲线,记录光谱响应曲线的结果,并根据光谱响应曲线结果计算相应的光谱响应均匀校正透过率曲线;镀膜步骤:在探测器与聚焦系统之间的某一位置设置一片光学玻璃,根据二级光谱在光学玻璃上的位置,在光学玻璃的靠近聚焦系统的一侧相应区域镀一层二级光谱滤光膜层,二级光谱滤光膜层用于对二级光谱进行过滤;根据光谱响应均匀校正透过率曲线,在光学玻璃的靠近探测器的一侧镀一层光谱响应均匀校正膜层,光谱响应均匀校正膜层用于对光谱响应进行校正。
【技术特征摘要】
1.一种用于高光谱成像仪的光学玻璃的设计方法,其特征在于,所述光学玻璃用于对二级光谱进行过滤,以及对光谱响应进行校正,该光学玻璃的设计方法包括以下步骤:装调步骤:使入射光穿过高光谱成像仪的入射狭缝,然后入射光依次穿过准直系统、分光系统和聚焦系统后,由探测器接收,探测器接收到的光谱包括一级光谱和二级光谱,对高光谱成像仪进行装调,计算出探测器与聚焦系统之间任意位置处二级光谱所在的位置;测量步骤:测量探测器的光谱响应曲线,记录光谱响应曲线的结果,并根据光谱响应曲线结果计算相应的光谱响应均匀校正透过率曲线;镀膜步骤:在探测器与聚焦系统之间的某一位置设置一片光学玻璃,根据二级光谱在光学玻璃上的位置,在光学玻璃的靠近聚焦系统的一侧相应区域镀一层二级光谱滤光膜层,二级光谱滤光膜层用于对二级光谱进行过滤;根据光谱响应均匀校正透过率曲线,在光学玻璃的靠近探测器的一侧镀一层光谱响应均匀校正膜层,光谱响应均匀校正膜层用于对光谱响应进行校正。2.根据权利要求1所述的用于高光谱成像仪的光学玻璃的设计方法,其特征在于,全部二级光谱与部分一级光谱完全重叠。3.根据权利要求1所述的用于高光谱成像仪的光学玻璃的设计方法,其特征在于,一级光谱的下端与光学玻璃...
【专利技术属性】
技术研发人员:尹禄,潘明忠,卢禹先,谢锋,
申请(专利权)人:中国科学院上海技术物理研究所杭州大江东空间信息技术研究院,
类型:发明
国别省市:浙江,33
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