一种低透光率离线浅灰色双银镀膜玻璃及其制备方法技术

本发明专利技术提供了一种低透光率离线浅灰色双银镀膜玻璃及其制备方法，所述镀膜玻璃包括玻璃基底以及依次设于玻璃基底上的氮化锰铁层、硅合金薄膜层、第一介质层、第一阻挡层、第一Ag层、第二阻挡层、第二介质层、第三阻挡层、第二Ag层、第四阻挡层和第三介质层。本发明专利技术通过在玻璃基底上磁控溅射形成氮化锰铁层和硅合金薄膜层，二者的阻隔和协效作用以及双银镀膜层的存在，可有效提升玻璃的隔热和光热性能。

A low light transmittance off-line light gray double silver coated glass and its preparation method

The present invention provides a low transmittance off-line light gray double silver coated glass and preparation method thereof, wherein the coated glass comprises a glass substrate, which is provided on a glass substrate layer, nitrided ferromanganese silicon alloy film layer, a first dielectric layer, a first barrier layer, a first Ag layer, second dielectric layer, a barrier layer, second the third barrier layer, second layer, fourth Ag barrier layer and the third dielectric layer. The present invention is formed by magnetron sputtering on the glass substrate to form nitrided ferromanganese layer and silicon alloy film layer. The barrier and co action of the two, as well as the existence of double silver coating layer, can effectively enhance the heat insulation and photothermal performance of glass.

【技术实现步骤摘要】
一种低透光率离线浅灰色双银镀膜玻璃及其制备方法
本专利技术属于玻璃制造领域，涉及一种离线浅灰色双银镀膜玻璃及其制备方法，尤其涉及一种节能化低透光率离线浅灰色双银镀膜玻璃及其制备方法。
技术介绍
低辐射镀膜玻璃是指在玻璃表面镀上多层金属或其他化合物的膜系玻璃，又称低辐射玻璃或“Low-E”玻璃。由于这层膜的存在，使镀膜玻璃与普通玻璃相比表面辐射率更低且具有光谱选择性。低辐射层膜对波长2.5μm～40μm范围的远红外线有较高的反射能力，这种良好的阻隔热辐射透过特性，使其在冬季将室内的热辐射绝大部分反射回室内，保证室内热量不向外散失；在夏季可以阻止室外的热辐射进入室内，从而达到节能效果。过量的光辐射会对人类生活和生产环境造成不良影响，如可见光、红外线和紫外线造成的污染。为了减少光污染，需要提供低透射率镀膜玻璃。所谓透射率是指入射光经过折射穿过物体后的出射现象；为了表示透明体透过光的程度，通常用入射光通量与透过后的光通量之比T来表征物体的透光性质，T称为光透射率。低透射率镀膜玻璃是在玻璃基片表面上镀上纯银膜层，以降低玻璃辐射率阻隔红外热辐射。根据不同的使用需要，在银膜层的两侧面分别镀制适当的保护层和匹配层，使其具有所需求的可见光透过率，以保持必要的室内光线照度，同时兼顾且降低太阳光谱中的红外线辐射进入室内以降低室内的热负荷，并较好的防止过量紫外线辐射进入室内。CN103407232A公开了一种离线减反镀膜玻璃，包括玻璃基片，玻璃基片上依次设有硅的氧化物SiOx、氧化硅SiO2、钛的氧化物TiOx和氧化钛TiO2；其制备方法为：在双端离线高真空磁控溅射镀膜设备中，使其基础真空达到103Pa，线速度为1.5米/分钟时，在玻璃上依次溅射硅的氧化物SiOx、氧化硅SiO2、钛的氧化物TiOx和氧化钛TiO2。所述离线减反镀膜玻璃虽然具有低折射率，但其耐久性和隔热性能较差。CN104029440A公开一种离线低辐射玻璃镀膜的膜系，其在现有的离线低辐射玻璃镀膜的膜系中用氮氧化锌膜层替换原有的金属Ti层或者NiCr合金。氮氧化锌膜层采用磁控溅射法制作，在磁控溅射镀膜过程中以氮气为溅射气体和工艺气体，同时根据实际产品性能要求通入少量氧气。所述镀膜玻璃虽然有较低遮阳系数的同时保持较低的可见光反射率，但其隔热性能仍然较差。目前单银低辐射镀膜玻璃一般具有对可见光高透过及对中远红外线高反射的特性，然而太阳光中的近红外热辐射仍会透过，这造成夏季时南方炎热地区室内温度仍较高，而双银低辐射镀膜玻璃可有效解决太阳热辐射透过的问题。例如CN202671425U公开了一种可钢化双银镀膜玻璃，各膜层安排合理具有较好的隔热节能作用。然而对于阳光充足的炎热地区，镀膜玻璃还需要具有较低的透光率。因此，如何研究一种同时具有较低透光率、较好耐久性和光热性能的离线镀膜是亟需解决的问题。
技术实现思路
针对现有离线镀膜玻璃存在的透光率和隔热性能不协调的问题，本专利技术提供了一种低透光率离线浅灰色双银镀膜玻璃及其制备方法。本专利技术通过在玻璃基底上磁控溅射形成氮化锰铁层和硅合金薄膜层，利用二者的阻隔和协效作用，以提升玻璃的隔热和光热性能。为达此目的，本专利技术采用以下技术方案：第一方面，本专利技术提供了一种离线浅灰色双银镀膜玻璃，所述镀膜玻璃包括玻璃基底以及依次设于玻璃基底上的氮化锰铁层、硅合金薄膜层、第一介质层、第一阻挡层、第一Ag层、第二阻挡层、第二介质层、第三阻挡层、第二Ag层、第四阻挡层和第三介质层。本专利技术所述离线浅灰色双银镀膜玻璃，先在玻璃基底上磁控溅射形成氮化锰铁层和硅合金薄膜层，再依次磁控溅射形成介质层、阻挡层、Ag层、阻挡层、介质层、阻挡层、Ag层、阻挡层和介质层，利用氮化锰铁层和硅合金薄膜层的阻隔和协效作用，可以使镀膜玻璃具有较好的隔热和光热性能。以下作为本专利技术优选的技术方案，但不作为本专利技术提供的技术方案的限制，通过以下技术方案，可以更好的达到和实现本专利技术的技术目的和有益效果。作为本专利技术优选的技术方案，所述硅合金薄膜层的合金为铁钛合金或锰钛合金，优选为锰钛合金。本专利技术中，所述硅合金薄膜层中合金需为铁钛合金或锰钛合金，即含有氮化锰铁层中的金属元素，在制备过程中硅合金薄膜层中的组分可以部分渗入氮化锰铁层中，增强二者之间的相互作用，进而提升镀膜玻璃的隔热和光热性能。作为本专利技术优选的技术方案，所述第一介质层、第二介质层和和第三介质层均为氮化硅层。优选地，所述第一阻挡层、第二阻挡层、第三阻挡层和第四阻挡层均为镍铬层。作为本专利技术优选的技术方案，所述硅合金薄膜层的厚度小于氮化锰铁层的厚度。本专利技术中，为了保证氮化锰铁层和硅合金薄膜层之间的作用，硅合金薄膜层的厚度需要小于氮化锰铁层的厚度，若硅合金薄膜层的厚度大于氮化锰铁层的厚度，反而会降低镀膜玻璃性能。作为本专利技术优选的技术方案，所述氮化锰铁层的厚度为10nm～25nm，例如例如10nm、13nm、15nm、17nm、20nm、22nm、24nm或25nm等等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用，优选为13nm～20nm。优选地，所述硅合金薄膜层的厚度为0nm～15nm且不包括0nm，例如3nm、5nm、7nm、10nm、11nm、12nm、13nm、14nm或15nm等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用，优选为10nm～15nm。本专利技术中，所述氮化锰铁层和硅合金薄膜层的厚度需控制在一定范围内，以达到更优的隔热和光热性能。优选地，所述第一介质层的厚度为15nm～30nm，例如15nm、16nm、17nm、18nm、19nm、20nm、21nm、22nm、23nm、24nm、25nm、27nm或30nm等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用，优选为15nm～20nm。优选地，所述第一阻挡层的厚度为2nm～15nm，例如2nm、5nm、6nm、8nm、12nm或15nm等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用，优选为20nm～23nm。优选地，所述第一Ag层的厚度为3nm～15nm，例如3nm、5nm、6nm、8nm、12nm或15nm等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用，优选为5nm～15nm。优选地，所述第二阻挡层的厚度为2nm～15nm，例如2nm、3nm、5nm、6nm、8nm、12nm或15nm等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用，优选为5nm～15nm。优选地，所述第二介质层的厚度为10nm～20nm，例如10nm、12nm、14nm、16nm、18nm或20nm等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用，优选为15nm～20nm。优选地，所述第三阻挡层的厚度为10nm～20nm，例如10nm、12nm、14nm、16nm、18nm或20nm等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用，优选为15nm～20nm。优选地，所述第二Ag层的厚度为3nm～15nm，例如3nm、5nm、6nm、8nm、12nm或15nm等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用，优选为5nm～15nm本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种离线浅灰色双银镀膜玻璃，其特征在于，所述镀膜玻璃包括玻璃基底(1)以及依次设于玻璃基底上的氮化锰铁层(2)、硅合金薄膜层(3)、第一介质层(4)、第一阻挡层(5)、第一Ag层(6)、第二阻挡层(7)、第二介质层(8)、第三阻挡层(9)、第二Ag层(10)、第四阻挡层(11)和第三介质层(12)。

【技术特征摘要】
1.一种离线浅灰色双银镀膜玻璃，其特征在于，所述镀膜玻璃包括玻璃基底(1)以及依次设于玻璃基底上的氮化锰铁层(2)、硅合金薄膜层(3)、第一介质层(4)、第一阻挡层(5)、第一Ag层(6)、第二阻挡层(7)、第二介质层(8)、第三阻挡层(9)、第二Ag层(10)、第四阻挡层(11)和第三介质层(12)。2.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述硅合金薄膜层(3)中的合金为铁钛合金或锰钛合金，优选为锰钛合金。3.根据权利要求1或2所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述第一介质层(4)、第二介质层(8)和第三介质层(12)均为氮化硅层；优选地，所述第一阻挡层(5)、第二阻挡层(7)、第三阻挡层(9)和第四阻挡层(11)均为镍铬层。4.根据权利要求1-3任一项所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述硅合金薄膜层(3)的厚度小于氮化锰铁层(2)的厚度。5.根据权利要求1-4任一项所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述氮化锰铁层(2)的厚度为10nm～25nm，优选为13nm～20nm；优选地，所述硅合金薄膜层(3)的厚度为0nm～15nm且不包括0nm，优选为10nm～15nm；优选地，所述第一介质层(4)的厚度为15nm～30nm，优选为15nm～20nm；优选地，所述第一阻挡层(5)的厚度为2nm～15nm，优选为2nm～13nm；优选地，所述第一Ag层(6)的厚度为3nm～15nm，优选为5nm～15nm；优选地，所述第二阻挡层(7)的厚度为2nm～15nm，优选为5nm～15nm；优选地，所述第二介质层(8)的厚度为10nm～20nm，优选为15nm～20nm；优选地，所述第三阻挡层(9)的厚度为10nm～20nm，优选为15nm～20nm；优选地，所述第二Ag层(10)的厚度为3nm～15nm，优选为...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈波，董华明，付可鹏，田福勇，
申请(专利权)人：上海耀皮玻璃集团股份有限公司，上海耀皮工程玻璃有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31