一种抛光除尘湿法一体机的工位站台制造技术

本实用新型专利技术公开了一种抛光除尘湿法一体机的工位站台，包括支撑座和站板，站板的上方设有抛光除尘湿法一体机的上过滤系统，支撑座下方设有抛光除尘湿法一体机的下水池循环系统；支撑座呈“回”字型结构，内侧固定有若干开设有插槽的插座，站板的下端固定有插块，站板的板体上均布有若干排落尘孔，插块位于相邻两排落尘孔之间实体部分的下端。本实用新型专利技术作为站台的同时，能够将抛光除尘湿法一体机的上过滤系统、下水池循环系统很好的隔离开来，集尘罩外的灰尘落到操作人员的下方水池里，杜绝传统落地除尘飞扬的二次危害，真正做到地面无灰尘，为操作人员营造洁净的工作环境。

A workstation platform for a polishing and dedusting wet process machine

【技术实现步骤摘要】
一种抛光除尘湿法一体机的工位站台
本技术涉及袋式除尘设备
，具体涉及一种抛光除尘湿法一体机的工位站台。
技术介绍
传统抛光设备是由多工位组合式中央除尘设计，多工位需大功率引风机抽风，平常人员不齐时也要开启大功率引风机作业，造成耗能浪费增加企业生产成本，所有灰尘是通过一定长度管道集中一处处理，在设备运行过程中，会有一定风险概率存在，给政府和企业造成一定的压力。为此，研发人员设计了多工位的抛光除尘湿法一体机，该一体机内设有水雾除尘，实现湿除；一体机的工位只有在使用时才会开启除尘，不会造成能耗浪费，给企业减轻耗能浪费的负担。现有的抛光除尘湿法一体机在使用时存在不足之处，其工位站台为实心站台，存在落地除尘飞扬的二次危害问题。
技术实现思路
本技术的目的在于克服现有技术中存在的上述问题，提供一种抛光除尘湿法一体机的工位站台。为实现上述技术目的，达到上述技术效果，本技术是通过以下技术方案实现：一种抛光除尘湿法一体机的工位站台，包括支撑座和站板，所述站板的上方设有抛光除尘湿法一体机的上过滤系统，所述支撑座下方设有抛光除尘湿法一体机的下水池循环系统；所述支撑座呈“回”字型结构，内侧固定有若干开设有插槽的插座，所述站板的下端固定有若干与插槽配合的插块，当所述插块完全伸入插槽后，所述站板的下端面与支撑座的上端面相抵，所述站板的板体上均布有若干排落尘孔，所述插块位于相邻两排落尘孔之间实体部分的下端。进一步地，所述插座呈三角柱形，相应地所述插槽、插块也呈三角柱形。进一步地，所述落尘孔为方形孔，孔径为2-3cm；所述落尘孔呈矩形阵列分布，相邻两个落尘孔之间的隔距为3-5cm。进一步地，所述插座与所在的支撑座为一体结构，所述插块与所在的站板为一体结构。进一步地，所述支撑座和站板由绝缘塑料材料制成。本技术的有益效果是：本技术结构简单，设计合理，作为站台的同时能够将抛光除尘湿法一体机的上过滤系统、下水池循环系统很好的隔离开来，下水池循环系统面积大于上过滤系统面积，操作人员直接坐在水池上操作，集尘罩外的灰尘落到操作人员的下方水池里，水渗入灰尘与灰尘混合，杜绝传统落地除尘飞扬的二次危害，真正做到地面无灰尘，为操作人员营造洁净的工作环境。当然，实施本技术的任一产品并不一定需要同时达到以上所述的所有优点。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案，下面将对实施例描述所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本技术的结构示意图；图2为本技术的结构分解示意图；附图中，各标号所代表的部件列表如下：1-支撑座，2-站板，3-插座，4-插块，5-落尘孔。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本技术保护的范围。请参阅图1-2所示，本技术为一种抛光除尘湿法一体机的工位站台，包括支撑座1和站板2，站板2的上方设有抛光除尘湿法一体机的上过滤系统，支撑座1下方设有抛光除尘湿法一体机的下水池循环系统。支撑座1呈“回”字型结构，内侧固定有若干开设有插槽的插座3，站板2的下端固定有若干与插槽配合的插块4，当插块4完全伸入插槽后，站板2的下端面与支撑座1的上端面相抵。站板2的板体上均布有若干排落尘孔5，插块4位于相邻两排落尘孔5之间实体部分的下端。其中，插座3呈三角柱形，相应地插槽、插块4也呈三角柱形。落尘孔5为方形孔，孔径为2-3cm；落尘孔5呈矩形阵列分布，相邻两个落尘孔5之间的隔距为3-5cm。其中，插座3与所在的支撑座1为一体结构，插块4与所在的站板2为一体结构。支撑座1和站板2由绝缘塑料材料制成。本实施例的一个具体应用为：本技术结构简单，设计合理，作为站台的同时能够将抛光除尘湿法一体机的上过滤系统、下水池循环系统很好的隔离开来，下水池循环系统面积大于上过滤系统面积，操作人员直接坐在水池上操作，集尘罩外的灰尘落到操作人员的下方水池里，水渗入灰尘与灰尘混合，杜绝传统落地除尘飞扬的二次危害，真正做到地面无灰尘，为操作人员营造洁净的工作环境。在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“示例”、“具体示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料过着特点包含于本技术的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。以上公开的本技术优选实施例只是用于帮助阐述本技术。优选实施例并没有详尽叙述所有的细节，也不限制该技术仅为所述的具体实施方式。显然，根据本说明书的内容，可作很多的修改和变化。本说明书选取并具体描述这些实施例，是为了更好地解释本技术的原理和实际应用，从而使所属
技术人员能很好地理解和利用本技术。本技术仅受权利要求书及其全部范围和等效物的限制。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种抛光除尘湿法一体机的工位站台，其特征在于：包括支撑座和站板，所述站板的上方设有抛光除尘湿法一体机的上过滤系统，所述支撑座下方设有抛光除尘湿法一体机的下水池循环系统；所述支撑座呈“回”字型结构，内侧固定有若干开设有插槽的插座，所述站板的下端固定有若干与插槽配合的插块，当所述插块完全伸入插槽后，所述站板的下端面与支撑座的上端面相抵，所述站板的板体上均布有若干排落尘孔，所述插块位于相邻两排落尘孔之间实体部分的下端。

【技术特征摘要】
1.一种抛光除尘湿法一体机的工位站台，其特征在于：包括支撑座和站板，所述站板的上方设有抛光除尘湿法一体机的上过滤系统，所述支撑座下方设有抛光除尘湿法一体机的下水池循环系统；所述支撑座呈“回”字型结构，内侧固定有若干开设有插槽的插座，所述站板的下端固定有若干与插槽配合的插块，当所述插块完全伸入插槽后，所述站板的下端面与支撑座的上端面相抵，所述站板的板体上均布有若干排落尘孔，所述插块位于相邻两排落尘孔之间实体部分的下端。2.根据权利要求1所述的抛光除尘湿法一体机的工位站...

【专利技术属性】
技术研发人员：林世权，占国斌，胡森桃，
申请(专利权)人：温州绿威环保科技有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江,33