一种快速祛痘和祛痘印组合物及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种快速祛痘和祛痘印组合物，按重量份计，包括如下组分：水杨酸1.2‑1.8份；精氨酸2‑2.77份；须松萝提取物0.5‑2份；光甘草定脂质体1‑10份；O‑伞花烃‑5醇0.03‑0.1份；其他祛痘功效成份1‑12份；其他基料75‑90份。本发明专利技术通过将特定含量的水杨酸用特定含量的精氨酸中和，复配特定含量的须松萝提取物和特定含量的光甘草定脂质体，并辅以O‑伞花烃‑5醇作为温和有效的防腐杀菌剂，再添加其他祛痘功效成份到其他基料中，制备得到的快速祛痘和祛痘印组合物具有优良祛痘功效，同时具有良好预防痘印和祛痘印的功效。

A rapid anti pox and acne removing composition and its preparation method

The invention discloses a fast anti acne and acne India composition by weight, which comprises the following components: 1.2 salicylic acid 1.8; arginine 2 2.77; 0.5 barbatic extract 2; glabridin liposome 1 10; O p-cymene 5 alcohol 0.03 0.1; other acne ingredient 1 12; the other 75 base material 90. The arginine specific content of salicylic acid with specific content and specific content of the compound, Xu Songluo extract and the specific content of glabridin liposome, supplemented by O p-cymene 5 alcohol as a gentle and effective antiseptic, add other ingredients to other anti acne efficacy in base material, preparation the prepared fast acne and acne India composition has excellent anti acne efficacy, but also has good prevention effect and acne acne india.

【技术实现步骤摘要】
一种快速祛痘和祛痘印组合物及其制备方法
本专利技术涉及化妆品领域，特别涉及一种快速祛痘和祛痘印组合物及其制备方法。
技术介绍
痤疮俗称青春痘、暗疮、粉刺，是一种毛囊皮脂腺的感染性炎症。痘痘产生内在原因主要有：（1）内分泌失调，皮脂腺分泌活跃；（2）消化功能的紊乱：如高脂肪和高碳水化合物等；（3）微量元素不足：如维生素A、维生素E等摄入不足。痘痘产生的外在原因主要有：（1）皮肤水油不平衡，明显出油，未及时清理的游离脂肪酸等油脂成分易引发皮肤炎症；（2）毛囊孔角质化亢进，堵塞毛孔；（3）细菌因素等。现在含有水杨酸和上述某些活性物的祛痘化妆品虽然有一定的祛痘功效，但是其预防痘印和祛痘印的效果却不理想，另外其体系pH一般低于5.5，往往对皮肤的刺激性较大。
技术实现思路
本专利技术旨在给出一种具有良好祛痘功效，同时具有良好预防痘印和祛痘印的功效，且有良好温和性的祛痘组合物。本专利技术所述的快速祛痘和祛痘印组合物，按重量份计，包括如下组分：水杨酸1.2-1.8份；精氨酸2-2.77份；须松萝提取物0.5-2份；光甘草定脂质体1-10份；O-伞花烃-5醇0.03-0.1份；其他祛痘功效成份1-12份；其他基料75-90份。其中，所述其他祛痘功效成份，包括如下组分：烟酰胺1-5份；乙醇1-5份。其中，所述光甘草定脂质体为通过磷脂包裹技术形成的脂质体包裹体水溶液；所述光甘草定脂质体的光甘草定含量为2000-3000ppm；只有当控制甘草定含量为这个范围，该光甘草定脂质体才具有毒性更低、亲肤性更好、渗透性更强等特点，使添加该组合物的产品具有良好的祛痘印功效。其中，所述O-伞花烃-5醇为纯度≥95%的O-伞花烃-5醇晶体，作为温和有效的防腐杀菌剂，对皮肤刺激性小。其中，所述其他基料包括水65-75重量份、卡波姆0.1-0.6重量份、黄原胶0.05-0.3重量份、鲸蜡硬脂醇1-5重量份、环五聚二甲基硅氧烷/环己硅氧烷1-5重量份、辛酸/癸酸甘油三酯1-5重量份、甘油硬脂酸酯/PEG-100硬脂酸酯1-5重量份、甘油硬脂酸酯SE0.1-1重量份。此外，本专利技术还公开了上述快速祛痘和祛痘印组合物的制备方法，包括如下步骤：1）将水杨酸和精氨酸按照相应的配比用水加热预溶解完全后加入搅匀即可；2）将须松萝提取物、光甘草定脂质体和其他祛痘功效成份中的烟酰胺按照配比用水预溶解完全后加入搅匀即可；3）将O-伞花烃-5醇与其他祛痘功效成份中的乙醇预溶解完全后加入搅匀即可；4）然后加入其他基料搅匀，即得。与现有技术相比，本专利技术具有如下有益效果：本专利技术通过将特定含量的水杨酸用特定含量的精氨酸中和，复配特定含量的须松萝提取物和特定含量的光甘草定脂质体，并辅以O-伞花烃-5醇作为温和有效的防腐杀菌剂，再添加其他祛痘功效成份到其他基料中，制备得到的快速祛痘和祛痘印组合物具有优良祛痘功效，同时具有良好预防痘印和祛痘印的功效。具体实施方式下面通过具体实施方式来进一步说明本专利技术，以下实施例为本专利技术较佳的实施方式，但本专利技术的实施方式并不受下述实施例的限制。各性能指标的测试方法及评价标准：祛痘功效的测试方法或评价方法：受试人群：面部明显有痘痘受试人数：20-30人试用部位：面部，特别是长痘的部位使用方法：早晚洁面后，取适量受试样品涂抹于面部，特别是长痘和有痘印的部位，轻轻按摩至吸收即可使用时间：0-8W评价方法：通过皮肤面部分析仪VISIACR（Canfield,美国）和面部图像分析软件Image-ProPlus（MediaCybernetics,Inc.）对受试者试用前和使用后进行拍照分析，计算人均炎症性丘疹数或人均脓疱数的减少量；若减少80%或以上，则为优良；若减少60%-80%，则为良好；若减少40%-60%，则为较好；若减少40%以下，则为较差。祛痘印功效的测试方法或评价方法：通过皮肤面部分析仪VISIACR（Canfield,美国）和面部图像分析软件Image-ProPlus（MediaCybernetics,Inc.）对受试者试用前和使用后进行拍照分析，目测观察分析痘痘消炎后痘印消除数量或淡化程度，以及原本有痘印的部位使用产品后痘印消除数量或淡化程度；若80%或以上的痘痘消炎后都不留下痘印，或原本有痘印的部位80%或以上痘印都消除，则为优良；若60%-80%的痘痘消炎后都不留下痘印或只留下很浅的痘印，或原本有痘印的部位60%-80%痘印都消除或只留下颜色很浅的痘印，则为良好；若40%-60%的痘痘消炎后都不留下痘印或只留下很浅的痘印，或原本有痘印的部位40%-60%痘印都消除或只留下颜色很浅的痘印，则为较好；若40%以下的痘痘消炎后不留下痘印或留下颜色较明显的痘印，或原本有痘印的部位40%以下痘印消除或留下颜色较明显的痘印，则为较差。体系的pH值的测试方法：GB/T13531.1；温和性的测试方法或评价方法：受试人群：面部明显有痘痘受试人数：20-30人试用部位：面部，特别是长痘和有痘印的部位使用方法：早晚洁面后，取适量受试样品涂抹于面部，特别是长痘和有痘印的部位，轻轻按摩至吸收即可；评价方法：1、使用样品过程中或使用样品0-15分钟后，若有明显刺、热、痒或痛等刺激反应，则评为明显刺激；若有轻微刺、热、痒或痛等轻微反应，则评为轻微刺激；若完全无刺、热、痒或痛等刺激反应，则评为无刺激。（所有实施例和对比例均采用此方法评价刺激性）2、斑贴测试法：选用合适的斑贴试器，以封闭式斑贴实验方法，将受试物约0.03ml涂于斑试器内，外用专用胶带贴敷于受试者背部，24小时后去除受试物，分别于斑贴实验后0.5、24、48小时观察皮肤反应，按《化妆品安全技术规范》（2015年版）中皮肤反应分级标准记录其结果。（实施例1和实施例6除了采用上述第一种方法评价刺激性外，还通过斑贴测试法验证，结果为无任何不良反应。）实施例1-6及对比例1-6：快速祛痘和祛痘印组合物的制备将水杨酸、精氨酸、须松萝提取物、光甘草定脂质体和其他祛痘功效成份中的烟酰胺按照配比用水预溶解完全后加入搅匀即可；将O-伞花烃-5醇与其他祛痘功效成份中的乙醇预溶解完全后加入搅匀即可；然后加入其他基料搅匀，即得快速祛痘和祛痘印组合物。所得快速祛痘和祛痘印组合物的体系pH、祛痘功效、祛痘印功效和温和性等性能指标如表1所示。表1实施例1-6及对比例1-6的各组分配比及各性能指标测试结果续表1。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种快速祛痘和祛痘印组合物，其特征在于，按重量份计，包括如下组分：水杨酸                                1.2‑1.8份；精氨酸                                2‑2.77份；须松萝提取物                          0.5‑2份；光甘草定脂质体                        1‑10份；O‑伞花烃‑5醇                          0.03‑0.1份；其他祛痘功效成份                      1‑12份；其他基料                              75‑90份。

【技术特征摘要】
1.一种快速祛痘和祛痘印组合物，其特征在于，按重量份计，包括如下组分：水杨酸1.2-1.8份；精氨酸2-2.77份；须松萝提取物0.5-2份；光甘草定脂质体1-10份；O-伞花烃-5醇0.03-0.1份；其他祛痘功效成份1-12份；其他基料75-90份。2.根据权利要求1所述的快速祛痘和祛痘印组合物，其特征在于，所述其他祛痘功效成份包括如下组分：烟酰胺1-5份；乙醇1-5份。3.根据权利要求1所述的快速祛痘和祛痘印组合物，其特征在于，所述光甘草定脂质体为通过磷脂包裹技术形成的脂质体包裹体水溶液；所述光甘草定脂质体的光甘草定含量为2000-3000ppm。4.根据权利要求1所述的快速祛痘和祛痘印组合物，其特征在于，所述O-伞花烃-5醇为纯度≥95%的O-伞花烃-5醇晶体。5.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：何廷刚，陈冬球，许显，陈家欢，
申请(专利权)人：广州市花安堂生物科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44