一种镂空金属导线及其制备方法与应用技术

本发明专利技术提供了一种镂空金属导线及其制备方法与应用。本发明专利技术镂空金属导线具有特定镂空多孔结构，在金属导线层上设置多个孔，形成镂空金属框架，所得镂空金属框架透光率高，强度高，可以避免发生断裂，对人眼视觉也不会产生影响；本发明专利技术镂空金属导线的制备方法工艺简单，简单易操作，能耗低，易于量产，可实现产业化，可根据不同类型的触控产品制备条件不同，通过调节孔径比，使得所制备的镂空金属导线与特定类型的触控产品具有高度的匹配性。本发明专利技术镂空金属导线可作为透明电极应用于大尺寸触控膜的制备，还可用于其它各种类型的触控产品中，对承印物材料的附着力比较理想，良品率高，能够有效改善所得触控膜性能，降低了制作成本。

A hollowed metal wire and its preparation and Application

The invention provides a hollow metal wire and a preparation method and application. Hollow metal wire of the invention has particular hollow porous structure is provided with a plurality of holes in the metal conductor layer, to form a hollow metal frame, the hollow metal frame with high light transmittance, high strength, can avoid the occurrence of fracture, the human vision is not affected; the preparation method of the hollow metal wire is simple, simple easy operation, low energy consumption, easy production, can realize the industrialization, according to the different types of touch products of different preparation conditions, by adjusting the aperture ratio, making the touch products hollow metal wires prepared with specific types of system with matching high. Hollow metal wire of the invention can be used as transparent electrode in large size touch membrane preparation, can also be used for other types of touch products, on the substrate material adhesion is ideal, high yield, can effectively improve the performance of the touch membrane, reduce the production cost.

【技术实现步骤摘要】
一种镂空金属导线及其制备方法与应用
本专利技术涉及金属材料
，具体而言，涉及一种镂空金属导线及其制备方法与应用。
技术介绍
ITO，即掺锡氧化铟(IndiumTinOxide)。它是液晶显示器(LCD)、等离子显示器(PDP)、电致发光显示器(EL/OLED)、触摸屏(TouchPanel)、太阳能电池以及其他电子仪表的透明电极最常用的薄膜材料。未来移动终端、可穿戴设备、智能家电等产品，对触控膜有着强劲需求，同时随着触控膜大尺寸化、低价化，以及传统ITO薄膜不能用于可弯曲应用，导电性及透光率等本质问题不易克服等因素，现有技术采用金属网格与银线作为ITO的主要替代品。金属网格(MetalMesh)技术利用银，铜等金属材料或者氧化物等易于得到且价格低廉的原料，在PET等塑胶薄膜上压制所形成的导电金属网格图案。其理论的最低电阻值可达到0.1欧姆/平方英寸，而且有着良好的电磁干扰屏蔽效果。但是受限于印刷制作的工艺水平，其所制得的触控感测器图样的金属线宽较粗，大于5μm，这样会导致在高像素下(通常大于200ppi)莫瑞干涉波纹非常明显。然而，欲将金属网格线宽缩减并非易事，传统的压制印刷工本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种镂空金属导线，其特征在于，所述镂空金属导线包括金属导线层，所述金属导线层上设置多个孔，形成镂空金属框架；构成所述镂空金属框架的金属框的直径不大于5μm。

【技术特征摘要】
1.一种镂空金属导线，其特征在于，所述镂空金属导线包括金属导线层，所述金属导线层上设置多个孔，形成镂空金属框架；构成所述镂空金属框架的金属框的直径不大于5μm。2.根据权利要求1所述的一种镂空金属导线，其特征在于，所述镂空金属导线的宽度为20μm-50μm，优选为25μm-30μm。3.根据权利要求1所述的一种镂空金属导线，其特征在于，所述孔的直径为5μm-10μm，优选为8μm。4.根据权利要求1所述的一种镂空金属导线，其特征在于，所述镂空金属导线的材质包括铜或银。5.如权利要求1所述的一种镂空金属导线的制备方法，其特征在于，将金属导线层通过化学刻蚀方法，在金属导线层上制备出多个孔，得到镂空金属导线。6.根据权利要求5所述的一种镂空金属...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘泽江，吴家根，
申请(专利权)人：苏州泛普科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32