一种水滴型雷达液位计在浆料系统测量中的保护结构技术方案

本实用新型专利技术公开了一种水滴型雷达液位计在浆料系统测量中的保护结构，包括有水滴型雷达液位计，水滴型雷达液位计具有表头和雷达波天线，雷达波天线伸入于水解罐内；在水解罐内设有一护罩，护罩固定于液位计法兰盘的底面形成对雷达波天线的封闭结构，护罩将雷达波天线罩在内部，在护罩的底部开设有一避位孔，该避位孔对准雷达波天线；在护罩内设有对雷达波天线的喷水清洗机构和喷氮气吹扫机构。本实用新型专利技术通过设置护罩，在测量过程中护罩可以保护水滴液位计，氮气和水将护罩内的预结晶物通过避位孔吹入水解罐内，保证护罩内部干净无物，既能提高测量的精度，消除结晶现象，减少维护工作量，还能减少对雷达波天线的腐蚀，延长使用寿命。

The protective structure of a water drop radar level meter in the measurement of the slurry system

The utility model discloses a protective structure of water type radar level meter in the slurry system in measurement, including the droplet type radar level gauge, water type radar level meter has the header and radar antenna, radar antenna extends into the hydrolysis tank; with a shield in the hydrolysis tank, the shield is fixed on the liquid level meter the bottom surface of the flange to form a closed structure of radar antenna, the shield radar radome inside, the shield is formed at the bottom of a avoid hole, the avoid hole alignment of radar antenna; within the shield of radar antenna is provided with a water cleaning mechanism and a spraying nitrogen purging mechanism. The utility model is provided with the shield, the shield can protect the water level gauge in the measurement process, nitrogen and water will be pre crystallization in the shield through the avoid hole into the hydrolysis tank, ensure clean hood no matter, which can improve the measurement accuracy, eliminate crystallization phenomenon, reduce the maintenance workload, but also reduce the corrosion of the radar wave antenna, prolong the service life.

【技术实现步骤摘要】
一种水滴型雷达液位计在浆料系统测量中的保护结构
本技术涉及液位监控设备
，具体涉及一种用于浆料系统的液位测量设备结构。
技术介绍
液位是工业生产过程中反映生产过程稳定，保证工业生产正常运行、高效节能的重要参数之一，因此在生产现场中的容器和储罐上广泛使用液位变送器，以便对生产过程中的液位进行有效的检测和控制。在多晶硅行业生产企业中，大多数工艺介质均为腐蚀性、毒性较强的介质，在多晶硅生产后处理环节的浆料系统中用于测量水解器的液位也至关重要，无论何种测量液位的方式，在腐蚀性、毒性较强的介质中均会出现不同程度的损坏以及造成测量波动，为了提高测量的精度，保证运行平稳，延长使用寿命，通常会选择水滴型导播雷达液位计，但此液位计在使用后期经常出现易结晶、易干扰等问题，最终影响测量的精度。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是提供一种结构简单、保护效果好、测量效果好、维护操作方便、可确保雷达波天线不易结晶的水滴型雷达液位计在浆料系统测量中的保护结构。为解决上述技术问题，本技术采用如下技术方案：一种水滴型雷达液位计在浆料系统测量中的保护结构，包括有水滴型雷达液位计，其通过液位计法兰盘固定于水解罐中，水解罐则通过水解罐法兰盘固定于液位计法兰盘的下方，水解罐法兰盘固定于液位计法兰盘的底面；水滴型雷达液位计的表头露出于液位计法兰盘之上，而雷达波天线则伸入于水解罐内，其特征在于：在水解罐内设有一护罩，护罩固定于液位计法兰盘的底面形成对雷达波天线的封闭结构，护罩将雷达波天线罩在内部，在护罩的底部开设有一避位孔，该避位孔对准雷达波天线；在护罩内设有对雷达波天线的喷水清洗机构和喷氮气吹扫机构。进一步地，所述喷水清洗机构包括有采用不锈钢管制成的环形状喷水环管，在该喷水环管布满有斜孔，各斜孔朝向雷达波天线；喷水环管连接有水管，水管依次穿过护罩和水解罐连接自来水，水管上安装有阀门。进一步地，所述喷氮气吹扫机构包括有采用不锈钢管制成的环形状氮气环管，在该氮气环管布满有斜孔，各斜孔朝向雷达波天线；氮气环管连接有氮气管，氮气管依次穿过护罩和水解罐连接高纯氮气，氮气管上安装有阀门。进一步地，所述喷水环管为φ10不管锈钢管，其斜孔为朝下45度，喷水环管环绕于雷达波天线的上方，自来水通过喷水环管的斜孔进入护罩内，对雷达波天线进行清洗。进一步地，所述氮气环管为φ10不管锈钢管，其斜孔为朝下45度，氮气环管环绕于雷达波天线的外围，高纯氮气通过氮气环管的斜孔进入护罩内，对雷达波天线进行吹扫。优选地，所述喷水清洗机构位于喷氮气吹扫机构的上方。进一步地，所述避位孔与雷达波天线竖向同轴且外径相同，确保雷达波的正常发送和接收。且通入护罩内的高纯氮气和工业水压力稍大于水解罐内部压力，最后高纯氮气和自来水通过避位孔进入水解罐中。本技术通过设置护罩，在测量过程中护罩可以保护水滴液位计，氮气和水将护罩内的预结晶物通过避位孔吹入水解罐内，保证护罩内部干净无物，既能提高测量的精度，消除结晶现象，减少维护工作量，还能减少对雷达波天线的腐蚀，延长使用寿命。附图说明图1为现有技术水滴型雷达液位计安装结构示意图；图2为本技术结构示意图；图3为本技术安装结构示意图。图中，1为液位计法兰盘，2为水解罐法兰盘，3为护罩，4为喷水环管，5为氮气环管，6为水管，7为氮气管，8为避位孔，9为表头，10为雷达波天线，11为斜孔，12为水解罐。具体实施方式本实施例中，参照图1、图2和图3，所述水滴型雷达液位计在浆料系统测量中的保护结构，包括有水滴型雷达液位计，其通过液位计法兰盘1固定于水解罐12中，水解罐12则通过水解罐法兰盘2固定于液位计法兰盘1的下方，水解罐法兰盘2固定于液位计法兰盘1的底面；水滴型雷达液位计的表头9露出于液位计法兰盘1之上，而雷达波天线10则伸入于水解罐12内；在水解罐12内设有一护罩3，护罩3固定于液位计法兰盘1的底面形成对雷达波天线10的封闭结构，护罩3将雷达波天线10罩在内部，在护罩3的底部开设有一避位孔8，该避位孔8对准雷达波天线10；在护罩3内设有对雷达波天线10的喷水清洗机构和喷氮气吹扫机构。所述喷水清洗机构包括有采用不锈钢管制成的环形状喷水环管4，在该喷水环管4布满有斜孔11，各斜孔11朝向雷达波天线10；喷水环管4连接有水管6，水管6依次穿过护罩3和水解罐12连接自来水，水管6上安装有阀门。所述喷氮气吹扫机构包括有采用不锈钢管制成的环形状氮气环管5，在该氮气环管5布满有斜孔11，各斜孔11朝向雷达波天线10；氮气环管5连接有氮气管7，氮气管7依次穿过护罩3和水解罐12连接高纯氮气，氮气管7上安装有阀门。所述喷水环管4为φ10不管锈钢管，其斜孔11为朝下45度，喷水环管4环绕于雷达波天线10的上方，自来水通过喷水环管4的斜孔11进入护罩3内，对雷达波天线10进行清洗。所述氮气环管5为φ10不管锈钢管，其斜孔11为朝下45度，氮气环管5环绕于雷达波天线10的外围(齐平或稍高)，高纯氮气通过氮气环管5的斜孔11进入护罩3内，对雷达波天线10进行吹扫。所述喷水清洗机构位于喷氮气吹扫机构的上方。所述避位孔8与雷达波天线10竖向同轴且外径相同，确保雷达波的正常发送和接收。且通入护罩3内的高纯氮气和工业水压力稍大于水解罐12内部压力，最后高纯氮气和自来水通过避位孔8进入水解罐12中。以上已将本技术做一详细说明，以上所述，仅为本技术之较佳实施例而已，当不能限定本技术实施范围，即凡依本申请范围所作均等变化与修饰，皆应仍属本技术涵盖范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种水滴型雷达液位计在浆料系统测量中的保护结构，包括有水滴型雷达液位计，其通过液位计法兰盘固定于水解罐中，水解罐则通过水解罐法兰盘固定于液位计法兰盘的下方，水解罐法兰盘固定于液位计法兰盘的底面；水滴型雷达液位计的表头露出于液位计法兰盘之上，而雷达波天线则伸入于水解罐内，其特征在于：在水解罐内设有一护罩，护罩固定于液位计法兰盘的底面形成对雷达波天线的封闭结构，护罩将雷达波天线罩在内部，在护罩的底部开设有一避位孔，该避位孔对准雷达波天线；在护罩内设有对雷达波天线的喷水清洗机构和喷氮气吹扫机构。

【技术特征摘要】
1.一种水滴型雷达液位计在浆料系统测量中的保护结构，包括有水滴型雷达液位计，其通过液位计法兰盘固定于水解罐中，水解罐则通过水解罐法兰盘固定于液位计法兰盘的下方，水解罐法兰盘固定于液位计法兰盘的底面；水滴型雷达液位计的表头露出于液位计法兰盘之上，而雷达波天线则伸入于水解罐内，其特征在于：在水解罐内设有一护罩，护罩固定于液位计法兰盘的底面形成对雷达波天线的封闭结构，护罩将雷达波天线罩在内部，在护罩的底部开设有一避位孔，该避位孔对准雷达波天线；在护罩内设有对雷达波天线的喷水清洗机构和喷氮气吹扫机构。2.根据权利要求1所述的水滴型雷达液位计在浆料系统测量中的保护结构，其特征在于：所述喷水清洗机构包括有采用不锈钢管制成的环形状喷水环管，在该喷水环管布满有斜孔，各斜孔朝向雷达波天线；喷水环管连接有水管，水管依次穿过护罩和水解罐连接自来水，水管上安装有阀门。3.根据权利要求1所述的水滴型雷达液位计在...

【专利技术属性】
技术研发人员：李彦斌，于浩，李敬业，姜俊成，边维年，席志强，解成松，吴海晶，
申请(专利权)人：亚洲硅业青海有限公司，
类型：新型
国别省市：青海,63