一种可调控太赫兹波反射控制器制造技术

本发明专利技术公开了一种可调控太赫兹波反射控制器。它是由多个包括底层正方形金属板，中间层正方形介质材料和顶层开口金属轮形的不同R参数单元结构有规律的排列形成的，通过改变组成反射控制器的单元结构种类或者单元结构的排列规律便可以控制太赫兹波以不同的形式向不同的方向反射。本发明专利技术中，通过优化设计不同R参数单元结构之后，选取了4个R参数单元结构，该4个单元结构的几何参数除R参数的大小不同外，其余参数均相同，而且这4个单元结构在太赫兹波垂直照射下的相邻单元结构的反射相位差为90度。本发明专利技术具有结构简单，体积小，易于集成，宽频带，控制精度高等优点。

【技术实现步骤摘要】
一种可调控太赫兹波反射控制器
本专利技术涉及一种太赫兹波反射器，尤其涉及一种可调控太赫兹波反射控制器。
技术介绍
最近一二十年，太赫兹波备受各国学者关注，一直都是研究的热点问题。而要实现对太赫兹波的充分利用，就必须实现简单灵活的对太赫兹波进行操控。而传统的方法如出一辙，都是利用在金属表面刻蚀不同的形状以及通过整块的介质材料来实现的。但是此方案确定显而易见，例如操作不灵活、器件体积庞大，不利于集成等。随着2011年广义斯涅尔定理的问世，改变了这一现状。广义斯涅尔定理通过在二维表面引入不连续相位，利用平面上的的相位补偿来代替空间累积的相位，实现了利用二维超表面来操控电磁波的幅度和相位。利用此技术来制备光学器件，将极大的缩减器件几何尺寸，便于集成。以上提到组成光学器件的单元结构都是按固定顺序排列的，当改变其顺序时，其效果则是不可预的，这造成了控制电磁波不灵活的缺点。本专利技术设计了一种可调控太赫兹波反射控制器，该反射控制器由不同R参数单元结构有规律的排列构成，并且每个单元结构对垂直入射的太赫兹波具有近似相等的反射幅度，但是其相邻单元结构在太赫兹波垂直照射下的反射相位差为90度。只要改变组成本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种可调控太赫兹波反射控制器，其特征在于，该控制器由不同R参数的单元结构有规律的在二维空间排列形成。

【技术特征摘要】
1.一种可调控太赫兹波反射控制器，其特征在于，该控制器由不同R参数的单元结构有规律的在二维空间排列形成。2.根据权利要求1所述的一种可调控太赫兹波反射控制器，其特征在于，所述的4个不同R参数单元结构在太赫兹波垂直照射下的相邻单元结构的反射差为90度。3.根据权利要求1所述的一种可调控太赫兹波反射控制器，其特征在于，组成反射控制器的单元结构由底层正方形金属板，中间层正方形介...

【专利技术属性】
技术研发人员：李九生，
申请(专利权)人：中国计量大学，
类型：发明
国别省市：浙江,33