一种用于缓压去痛的鞋垫制造技术

技术编号:17176097 阅读:21 留言:0更新日期:2018-02-03 08:45
本实用新型专利技术公开了一种用于缓压去痛的鞋垫,包括基底,所述基底呈凹陷设置包裹住整个足掌形成包覆槽,所述包覆槽底面对应足弓处设有凸起于基底的支撑丘,所述包覆槽底面对应脚踵处呈凹陷设置形成包裹脚踵的脚踵槽,所述基底对应脚趾趾腹部位呈凹陷设置形成包覆趾腹的趾腹槽。包覆槽、支撑丘、脚踵槽和趾腹槽加大了基底与足部的接触面积,减小了在行走时足部受到的集中应力,使足底均匀受力,进而减小了由于走路时足部受到集中应力而发生脚疼、水泡等脚疾的概率。

An insole used to relieve pressure and relieve pain

【技术实现步骤摘要】
一种用于缓压去痛的鞋垫
本技术涉及鞋垫,具体涉及一种用于缓压去痛的鞋垫。
技术介绍
人的脚具有复杂的解剖结构,每只脚有26块骨骼,100多条肌腱、韧带和33个关节。它的主要功能是负重和推动身体向前。脚要求有一定的灵活性,以适应各种不同的地面保持身体的平衡;脚还要有一定的稳定性,以承受人体在各种活动时地面给予身体的反作用力。人们一般每天行走1500~10000步,一生中步行的距离可以绕地球4周,而脚在步行时承受的力量是体重的2~3倍。但由于每个人脚型不一,而市面上的鞋垫均相同,故人在行走时,人脚局部的肌肉所需承载的压力较大,长期处于不正常紧张状态,而有些部位不需承载压力。短时间易造成脚疼、水泡等症状,长期易造成韧带松弛,或者内弓肌肉萎缩,从而导致扁平足、拇趾外翻等脚疾。
技术实现思路
针对现有技术存在的不足,本技术的目的在于提供一种用于缓压去痛的鞋垫,可对足部行走时的集中应力进行卸力和应力转移,从而减小由于集中应力产生的脚疼等脚疾。为实现上述目的,本技术提供了如下技术方案:一种用于缓压去痛的鞋垫,包括基底,所述基底呈凹陷设置包裹住整个足掌形成包覆槽,所述包覆槽底面对应足弓处设有凸起于基底的支撑丘,所述包覆槽底面对应脚踵处呈凹陷设置形成包裹脚踵的脚踵槽,所述基底对应脚趾趾腹部位呈凹陷设置形成包覆趾腹的趾腹槽。通过采用上述技术方案,包覆槽包裹住整个足掌,支撑丘支撑了人体足弓处中心的凹陷,脚踵槽包裹住了脚踵,包覆槽、支撑丘和脚踵槽配合,使足部后半部分稳定的和基底连接。趾腹槽包覆趾腹,使足部半部分稳定的和基底连接,进而实现行走时足部和鞋垫的同步运动,减少了足底和基底的摩擦,减小了水泡产生的概率。同时减少了外翻足等由于走路时足掌偏移导致的足部疾病产生的概率。同时包覆槽、支撑丘、脚踵槽和趾腹槽加大了基底与足部的接触面积,减小了在行走时足部受到的集中应力,使足底均匀受力,进而减小了由于走路时足部受到集中应力而发生脚疼、水泡等脚疾的概率。本技术的进一步设置为:所述包覆槽底面对应足底两侧设有凸起于基底的支撑侧丘,所述支撑侧丘呈朝内设置。通过采用上述技术方案,支撑侧丘增大了基底与人足底的接触面积,减少足底受到的集中应力,减小了由于走路时足部受到集中应力而发生脚疼和水泡的概率。同时支撑侧丘可支撑人体足弓两侧,减少人产生外翻脚的概率。本技术的进一步设置为:所述基底下方依次设有PTT缓冲层和橡胶软木支撑层,所述橡胶软木支撑层背对基底一端端面呈水平设置。通过采用上述技术方案,PTT缓冲层可使鞋垫对足部有缓冲作用,减小足底受到的应力,从而减小脚疼的概率。橡胶软木支撑层可起到支撑的作用,使鞋垫稳定放置在鞋体内,不会由于鞋体对鞋垫的力导致基底变形,使基底可一直稳定的贴合足部。本技术的进一步设置为:所述橡胶软木支撑层底面内侧边朝内凹陷设置形成缓冲槽。通过采用上述技术方案,从而使行走时,应力可沿缓冲槽表面进行卸力,减小了橡胶软木支撑层反馈给PTT缓冲层的集中应力,进而减少了足部受到集中应力,提高了使用者行走时的舒适感。本技术的进一步设置为:所述基底为EVA制成,所述基底内包裹有活性炭颗粒。通过采用上述技术方案,使基底具有较好的塑形能力和塑形后的记忆能力,同时活性炭颗粒可使该鞋垫具有较好的抗菌吸汗性,提高使用舒适感。本技术的进一步设置为:所述基底、PTT缓冲层和橡胶软木支撑层的厚度比为1:1:1.5。通过采用上述技术方案,从而在确保其不变形的情况下,尽可能增大PTT缓冲层的厚度,从而增大鞋垫对足部的缓冲作用,减小足底受到的应力,从而减小脚疼的概率。本技术的进一步设置为:所述基底、PTT缓冲层和橡胶软木支撑层形成垫体,所述垫体外壁从基底上端到橡胶软木支撑层下端依次朝内倾斜。通过采用上述技术方案,朝内倾斜设置可起到导向的作用,使垫体整体可沿着倾斜面更轻松的放入鞋体内,方便了垫体的安装。本技术的进一步设置为:所述基底、PTT缓冲层和橡胶软木支撑层之间相互粘合形成垫体,所述垫体通过真空压模一体抽压而成。通过采用上述技术方案,从而方便了垫体的加工,且可根据不同的使用者制作不同的模具,使基底更好的与人体足底包裹接触,提高鞋垫的缓压效果。本技术具有以下优点:行走时使足底均匀受力,提高了使用舒适度,减小了由于走路时足部受到集中应力而发生脚疼、水泡等脚疾的概率。附图说明图1为实施例的结构示意图;图2为实施例的侧视图。附图标记:1、基底;2、包覆槽;3、支撑丘;4、支撑侧丘;5、脚踵槽;6、趾腹槽;7、PTT缓冲层;8、橡胶软木支撑层;9、缓冲槽;10、垫体。具体实施方式参照附图对本技术做进一步说明。如图1所示,一种用于缓压去痛的鞋垫,包括基底1,基底1呈凹陷设置形成包覆槽2,包覆槽2包裹住整个足掌,减少人在走路时足部的偏移,减小了水泡产生的概率,同时减少了外翻足等由于走路时足掌偏移导致的足部疾病产生的概率。如图1所示,包覆槽2底面对应足弓处设有支撑丘3,支撑丘3凸起于包覆槽2底面,主要用于支撑人体足弓处中心的凹陷,从而增大足底和鞋垫的接触面积,减少足底受到的集中应力,减小了由于走路时足部受到集中应力而发生脚疼和水泡的概率。如图1所示,包覆槽2底面对应足底两侧设有支撑侧丘4,支撑侧丘4凸起于包覆槽2底面,且呈朝内设置。支撑侧丘4主要用于支撑人体足弓两侧,减少人产生外翻脚的概率。如图1所示,包覆槽2底面对应脚踵处呈凹陷设置,形成包裹脚踵的脚踵槽5。支撑丘3、支撑侧丘4和脚踵槽5之间配合,将足部后半部分稳定的限位在基底1上,不会发生侧偏等现象。如图1所示,基底1对应脚趾趾腹部位呈凹陷设置,形成包覆趾腹的趾腹槽6。趾腹槽6在增大了足底与基底1接触面积,转移压力减少足底疼的同时,对足部前板部分有一个限位,配合基底1对足部后半部分的限位,使行走时脚部可更稳定的和基底1同步。减少了足底和基底1的摩擦,减小了水泡产生的概率。如图2所示,基底1为EVA制成,基底1内包裹有活性炭颗粒。基底1下方依次设有PTT缓冲层7和橡胶软木支撑层8,橡胶软木支撑层8背对基底1一端端面呈水平设置。橡胶软木支撑层8底面内侧边朝内凹陷设置,形成缓冲槽9。如图1所示,基底1、PTT缓冲层7和橡胶软木支撑层8的厚度比为1:1:1.5。基底1、PTT缓冲层7和橡胶软木支撑层8之间相互粘合形成垫体10,垫体10通过真空压模一体抽压而成。垫体10外壁从基底1上端到橡胶软木支撑层8下端依次朝内倾斜。该鞋垫的原理如下:使用者在使用该鞋垫走路时,基底1增大足底和鞋垫的接触面积,减少足底受到的集中应力,减小了由于走路时足部受到集中应力而发生脚疼和水泡的概率。在行走时,PTT缓冲层7可减缓路面对足底的震荡和应力,进而减小了足底受到的应力,使行走更舒适。包覆槽2、支撑丘3、支撑侧丘4和脚踵槽5配合,将足部后半部分稳定的限位在基底1上;趾腹槽6将足部前半部分稳定的限位在基底1上,从而使鞋垫和足部同步运动,减少了足底和基底1的摩擦,减小了水泡产生的概率。同时减少了外翻足等由于走路时足掌偏移导致的足部疾病产生的概率。以上所述仅是本技术的优选实施方式,本技术的保护范围并不仅局限于上述实施例,凡属于本技术思路下的技术方案均属于本技术的保护范围。应当指出,本文档来自技高网...
一种用于缓压去痛的鞋垫

【技术保护点】
一种用于缓压去痛的鞋垫,其特征是:包括基底(1),所述基底(1)呈凹陷设置包裹住整个足掌形成包覆槽(2),所述包覆槽(2)底面对应足弓处设有凸起于基底(1)的支撑丘(3),所述包覆槽(2)底面对应脚踵处呈凹陷设置形成包裹脚踵的脚踵槽(5),所述基底(1)对应脚趾趾腹部位呈凹陷设置形成包覆趾腹的趾腹槽(6)。

【技术特征摘要】
1.一种用于缓压去痛的鞋垫,其特征是:包括基底(1),所述基底(1)呈凹陷设置包裹住整个足掌形成包覆槽(2),所述包覆槽(2)底面对应足弓处设有凸起于基底(1)的支撑丘(3),所述包覆槽(2)底面对应脚踵处呈凹陷设置形成包裹脚踵的脚踵槽(5),所述基底(1)对应脚趾趾腹部位呈凹陷设置形成包覆趾腹的趾腹槽(6)。2.根据权利要求1所述的一种用于缓压去痛的鞋垫,其特征是:所述包覆槽(2)底面对应足底两侧设有凸起于基底(1)的支撑侧丘(4),所述支撑侧丘(4)呈朝内设置。3.根据权利要求2所述的一种用于缓压去痛的鞋垫,其特征是:所述基底(1)下方依次设有PTT缓冲层(7)和橡胶软木支撑层(8),所述橡胶软木支撑层(8)背对基底(1)一端端面呈水平设置。4.根据权利要求3所述的一种用于缓压去痛的鞋垫,其特征是:所...

【专利技术属性】
技术研发人员:张建宇
申请(专利权)人:杭州足科科技有限公司
类型:新型
国别省市:浙江,33

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