The utility model discloses a tooth plate VOCs processing device, including the VOCs processing unit and high frequency pulse power supply; VOCs processing unit includes a housing; housing is provided with the center position of the front end of the shell core processing reactor, gas room, the back end of the casing into gas chamber, a gas chamber is provided with a gas inlet, gas chamber shell provided with a gas outlet, a gas chamber is provided with an air pump, a reactor core processing on the axis of a circulating fan, a circulating fan, air pump and core reactor are connected with the high frequency pulse power supply. By setting the reactor and negative high frequency pulse power supply, high voltage pulse high frequency pulse power output between the cathode and anode plate excited dentate high-energy particles uniformly distributed between VOCs containing gas from between the cathode and the anode plate of the dentate channel by high energy particles can be decomposed into harmless to the environment, the realization of high efficiency and stable degradation of VOCs waste gas.
【技术实现步骤摘要】
一种齿板式VOCs处理装置
本技术涉及一种VOCs处理系统,尤其涉及一种齿板式VOCs处理装置。
技术介绍
随着国民经济的迅速发展,工业VOCs已经成为我国重点城市(群)和局部区域大气复合污染的主要原因之一。工业排放量最大的三苯(苯、甲苯、二甲苯)和卤代烃在VOCs的治理中需要重点进行控制。因此,继除尘、脱硫、脱硝和机动车污染治理以后,工业VOCs的污染控制问题已经成为目前我国控制大气污染的最为重要的方向之一。电晕放电法处理VOCs的原理是,在电场的加速作用下,产生高能粒子,当粒子平均能量超过目标治理物分子化学键能时,分子键被打开,达到消除气态污染物的目的。而电源中电压、脉冲频率和电极间距等关键参数会对VOCs的降解率产生直接影响,现有专利仅从装置结构的角度进行描述,而对影响VOCs处理效果的电源输出参数间协同控制优化方面鲜有提及。因此由于极板间距参数调整不当,反应器在高峰值电压下容易放电拉弧,在增大电能消耗的同时,使得净化效率低,对苯等有机物的分解不完全且会产生臭氧;电场频率、电压和高频脉冲等某个电源参数达不到要求,如电压和频率过高或过低都会对高能粒子的产生造成较大影响,从而影响VOCs的处理效果,因而现有技术的装置由于结构的限制,对VOCs废气降解率低且稳定性较差。
技术实现思路
本技术为了解决上述技术问题,提供了一种高效、低成本的齿板式VOCs处理装置,对VOCs废气降解率高且稳定性较好。本技术是通过以下技术方案来实现:一种齿板式VOCs处理装置,包括VOCs处理单元和高频脉冲电源;所述的VOCs处理单元包括壳体、循环风机、进气泵和核心处理反应器;壳体中心位 ...
【技术保护点】
一种齿板式VOCs处理装置,其特征在于,包括VOCs处理单元和高频脉冲电源;所述的VOCs处理单元包括壳体、循环风机(13)、进气泵(3)和核心处理反应器;壳体中心位置设置有核心处理反应器,壳体前端为气体前室(1),壳体后端为气体后室(10),气体前室的壳体上开有气体进口(2),气体后室的壳体上开有气体出口(11),气体前室(1)设置有进气泵(3),核心处理反应器的中轴线上设置有循环风机(13),所述的循环风机(13)、进气泵(3)和核心处理反应器均与高频脉冲电源相连。
【技术特征摘要】
1.一种齿板式VOCs处理装置,其特征在于,包括VOCs处理单元和高频脉冲电源;所述的VOCs处理单元包括壳体、循环风机(13)、进气泵(3)和核心处理反应器;壳体中心位置设置有核心处理反应器,壳体前端为气体前室(1),壳体后端为气体后室(10),气体前室的壳体上开有气体进口(2),气体后室的壳体上开有气体出口(11),气体前室(1)设置有进气泵(3),核心处理反应器的中轴线上设置有循环风机(13),所述的循环风机(13)、进气泵(3)和核心处理反应器均与高频脉冲电源相连。2.根据权利要求1所述的齿板式VOCs处理装置,其特征在于,所述的核心处理反应器包括电极支撑架、多根齿状阴极(16)和多个阳极板(7);电极支撑架上设置有多个阳极板(7),每对阳极板(7)中间呈水平均匀布置多根齿状阴极(16),多根齿状阴极(16)处于同一平面,齿状阴极(16)与阳极板(7)平行布置,齿状阴极(16)与阳极板(7)之间形成有气流通道,气流方向垂直于棒状阴极,齿状阴极(16)和阳极板(7)分别通过导体与高频脉冲电源(18)的阴极和阳极相连。3.根据权利要求2所述的齿板式VOCs处理装置,其特征在于,所述的电极支撑架的水平面上设置有多排阳极板(7),垂直面上设置有多层阳极板(7)。4.根据权利要求2或3所述的齿板式VOCs处理装置,其特征在于,所述的齿状阴极(16)为棒状导体,棒状导体四周均匀布置多个与棒状导体垂直的尖刺。5.根据权利要求2或3所述的齿板式VOCs处理装置,其特征在于,所述的电极支撑架包括第一阳极支撑框架(4)、第一阴极支撑框架(5)、第二阳极支撑框架(8)、第二阴极支撑框架(9)和多个阴极板(6),第一阴极支撑框架(5)和第二阴极支撑框架(9)沿水平方向等距开有安装槽(17),阴极板(6)、第二阳极支撑框架(8)和第一阳极支撑框架(4)上开设有安装槽,同一垂直面上的多根齿状阴极(16...
【专利技术属性】
技术研发人员:田军,李保锋,李永超,纪峰,石奕轩,
申请(专利权)人:陕西环保产业研究院有限公司,
类型:新型
国别省市:陕西,61
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