鞋底以及具备该鞋底的鞋制造技术

本发明专利技术提供以简单的结构即可恰当地控制足压中心移动的鞋底、以及具备该鞋底的鞋，包括：构成鞋的底部的鞋底主体（４１）；以及设置在该鞋底主体（４１）上、并沿从脚后跟至第四脚趾的根部附近的指定的足压中心路径引导伴随步行或跑步而移动的施加于脚掌的压力中心即足压中心的足压突出部（４３）。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】本专利技术涉及一种形成跑步鞋、步行鞋等鞋的底部的鞋底以及使用该鞋底的鞋。
技术介绍
作为形成鞋的底部的鞋底，例如日本专利公开公报特开2005-185306号(以下称作专利 文献1)中公开了一种鞋底，其具备中底以及与该中底下表面的几乎整个区域接合的多个外 底，各外底在其宽度方向上平坦形成，而从其后端侧向前端侧厚度逐渐减小。根据该专利文献l所述的鞋底，通过外底与地面接触，重心被不断引导向前，从而促进向 前方的推进运动，据此，重心可以沿前后方向顺畅地移动。一般来讲，人的步行、跑步动作，通过从脚后跟到脚尖依次着地并从脚后跟到脚尖依次离 开地面来移动重心。此时，已知施加于脚掌的压力中心即足压中心也从脚后跟转移到脚尖，特 别是从拇趾球脱离，此足压中心的轨迹是表示步行、跑步动作的适应性的重要因素。但是，具备专利文献l所述的鞋底的鞋，当穿着该鞋进行步行、跑步动作时，由于外底与 中底的几乎整个区域接合且在其宽度方向上平坦地形成，所以足压中心根据个人的步行、跑步 动作而经由因人而异的路径，并没有去考虑最为理想的足压中心移动路径。另一方面，近年来人们越来越重视鞋对腰腿的骨骼和肌肉产生的影响，与此同时，各种有 助于实现顺畅且迅速的步行、跑步动作的研究开发很活跃，市场强烈需求能够实现最佳的步行、 跑步动作的鞋等。本专利技术的目的在于提供以简单的结构即可恰当地控制足压中心移动的鞋底、以及具备该鞋 底的鞋。
技术实现思路
本专利技术的专利技术人们长年进行有关最佳步行以及跑步动作的研究，结果发现鞋从脚后跟着 地，足压中心从该脚后跟向第四脚趾移动，最后从拇趾球脱离，通过进行这样的步行、跑步动 作，可以减轻对腰腿的骨骼和肌肉造成的负担，并可以顺畅且迅速地实现动作。特别是，在脚 底部的前侧，至从拇趾球脱离为止，尽量使足压中心经由第四脚趾的根部附近，从而可以实现 最佳动作。本专利技术涉及通过设计鞋底的结构，只需穿上即可容易地进行上述最佳步行等的鞋以 及该鞋中使用的鞋底。另外，足压中心是指地面反作用力作用的平均位置，是地面反作用力矢 量的作用点。具体而言，为了解决上述课题，本专利技术所涉及的鞋底鞋底主体，构成鞋的底部；足压引导 部，设置在该鞋底主体上、沿从脚后跟至第四脚趾的根部附近的指定的足压中心路径引导伴随 步行或跑步而移动的施加于脚掌的压力中心即足压中心。根据本专利技术，由于在鞋底主体上设置有上述足压引导部，从而随着步行、跑步，沿着从脚 后跟向第四脚趾的根部附近的指定的理想的足压中心路径引导足压中心。艮P，不受穿着具备该 鞋底的鞋的穿鞋者的习惯等的影响，可以将随着步行、跑步动作而移动的足压中心从脚后跟引 导至第四脚趾的根部附近，自然地使用髋关节使大腿内旋，并且避免不必要的肌肉紧张，反射 性地使下肢、足底部向前伸出，因此通过穿着该鞋即可容易地实现最佳的步行、跑步动作。因 此，不仅可以减轻腰腿的骨骼和肌肉的负担，而且不受步行、跑步动作的习惯的影响，可以稳 定地进行流畅且迅速的步fi1、跑步动作。附图说明图1是表示本专利技术第一实施例所涉及的鞋的概要的立体图。图2是表示从与图1不同的方向观察时的鞋的概要的立体图。图3是本专利技术第一实施例所涉及的鞋底的侧视图。图4是模式地表示该鞋底的仰视图。图5是图4的V—V线剖视图。图6是图4的VI—VI线剖视图。图7(A)是表示步行动作时的地板反作用力的曲线图。图7(B)是表示步行动作时的地板反作用力的曲线图。图7(C)是表示步行动作时的地板反作用力的曲线图。图8是概略地表示第二实施例所涉及的鞋的鞋底的下表面的仰视图。图9是从外侧(在图8中为左侧)观察该鞋底时的侧视图。图10是图8的X—X线剖^1图。图11是图8的XI—XI线剖视图。图12是模式地表示本专利技术第三实施例所涉及的鞋底的仰视图。 图13是模式地表示本专利技术第四实施例所涉及的鞋底的仰视图。具体实施例方式以下，参照附图对本专利技术的具体实施方式进行说明。第一实施例图l是表示本专利技术的第一实施例所涉及的鞋(shoes)的概要的立体图，图2是表示从与 图l不同的角度(底面侧)观察时的鞋的概要的立体图。在本实施例中，以右边的鞋为例进行 说明，对于左边的鞋，除左右翻转之外，其具体结构与右边的鞋相同。另外，本专利技术的鞋及其 鞋底不仅可适用于跑步鞋、步行鞋、棒球鞋、足球鞋、高尔夫鞋等，还广泛适用于商务鞋、拖 鞋、凉鞋等常见的鞋。该鞋1包括覆盖脚部的脚背部分的鞋帮2、安装于该鞋帮2的下部的构成鞋1的底部的鞋 底3。图3是表示此鞋底的侧视图，图4是概要地表示此鞋底3的下表面的仰视图。鞋底3包括下表面作为着地面的外底4、以及接合于从外底4的脚后跟部Fl到脚心部F2 的上表面的中底5，如图3的双点划线所示，在它们的上表面设置有内底6。外底4例如通过将橡胶、合成树脂、弹性体(elastomer)等材料一体成形来形成。这些材 料可以单独使用，也可以混合或层叠使用。另外，对于这些材料，通过使用非发泡或低发泡的 制品，可以提高外底4的强度及耐磨耗性。此外，在此虽不作详细说明，但在外底4的下表 面，适当地形成有沟槽，不仅提高设计(design)性，并且提高排水性、抓地(grip)力等。该外底4，其下表面的指定部位突出形成，从而沿该突出部分引导施加于足底的压力中心 即足压中心。S卩，该外底4具备对应脚部而设置的鞋底主体41;在该鞋底主体41的脚后跟部 Fl向下方突出形成的脚后跟突出部42 (相当于广域突出部)；从该脚后跟突出部42的前端 的宽度方向的大致中央部向脚尖部F4延伸的足压突条(protrusion strip)43 (相当于足压突出 部)；在该足压突条43的基端部的宽度方向两侧的鞋底主体41的底面突出设置的平衡突条 44 (相当于平衡突出部)，从脚后跟突出部42开始沿着足压突条43引导理想的足压中心。另外，如上所述，上述鞋底主体41、脚后跟突出部42、足压突条43以及平衡突条44由 上述材料一体成形。图3和图4中，F1 F4所示的部分表示外底4的脚后跟部F1、脚心部 F2、拇趾球部F3、脚尖部F4。这里，在本说明书中所说的脚后跟部Fl是指长度方向上大致对应于跗骨(tarsal)的部分， 脚心部F2是指长度方向上大致对应于跖骨(metatarsal)的部位，拇趾球部F3是指长度方向 上大致对应于第一跖骨的前端部的籽骨(sesamoid)的部位，而脚尖部F4是指长度方向上大致对应于趾骨(phalange)的部位。鞋底主体41以与上述中底5层叠的状态从脚后跟侧向脚尖侧逐渐变薄，其脚尖部F4略 向上翘起。另外，鞋底主体41的下表面平坦地形成，在其脚后跟部Fl上设置有上述脚后跟 突出部42。可设置该脚后跟突出部42的范围，只要是对应脚后跟部F1的范围即可，并无特别限定， 在本实施例中，设置在包含脚后跟部F1的中央部分的整个区域。这样，通过将脚后跟突出部 42设置在包含鞋底主体41的脚后跟部Fl的中央部的整个区域，从而在进行步行、跑步动作 时可以在较大范围地着地，可以将足压中心顺畅地引导至该脚后跟突出部42的中央部，并且 还易于将该足压中心引导至足压突条43 ，可以以稳定的状态引导足压中心。另外，本专利技术的广域突出部只要是对应脚后跟部Fl和脚心部F2的范围即可，对其形成 位置没有特别限定，除了如本第一实施例中设置在脚后跟部F1本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种鞋底，其特征在于包括：　鞋底主体，构成鞋的底部；　足压引导部，设置在该鞋底主体上、并沿从脚后跟朝向第四脚趾的根部附近的指定的足压中心路径引导伴随步行或跑步而移动的施加于脚掌的压力中心即足压中心。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2006-1-26 017396/20061.一种鞋底，其特征在于包括鞋底主体，构成鞋的底部；足压引导部，设置在该鞋底主体上、并沿从脚后跟朝向第四脚趾的根部附近的指定的足压中心路径引导伴随步行或跑步而移动的施加于脚掌的压力中心即足压中心。2. 根据权利要求l所述的鞋底，其特征在于 所述足压引导部设置在所述鞋底主体的下表面侧。3. 根据权利要求2所述的鞋底，其特征在于，所述足压引导部包括 广域突出部，突出设置在所述鞋底主体的至少包括脚后跟部的下表面的指定区域； 足压突出部，从该广域突出部开始沿所述足压中心路径突出设置在所述鞋底主体。4. 根据权利要求3所述的鞋底，其特征在于所述足压突出部由从所述广域突出部开始沿足压中心路径连续形成的突条构成。5. 根据权利要求4所述的鞋底，其特征在于 所述足压突出部的宽度小于所述广域突出部的宽度。6. 根据权利要求4或5所述的鞋底，其特征在于-所述足压突出部沿其长度方向形成大致等宽的带状。7. 根据权利要求3所述的鞋底，其特征在于所述足压突出部由在足压中心路径内设置的多个单位突出部构成。8. 根据权利要求3 7中任一项所述的鞋底，其特征在于所述鞋...

【专利技术属性】
技术研发人员：小山裕史，
申请(专利权)人：株式会社鸿鹄企画，
类型：发明
国别省市：JP[日本]