一种指纹识别单元、指纹识别装置及其指纹识别方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术实施例提供一种指纹识别单元、指纹识别装置及其指纹识别方法、显示装置，涉及指纹识别技术领域。该指纹识别单元包括：依次层叠设置的第一介质层、第二介质层以及检测单元；还包括：光源，所述光源发出的光射入所述第一介质层；其中，所述第一介质层和/或所述第二介质层的折射率在手指指纹接触时会发生变化，以使所述光源发出的光在所述第一介质层和所述第二介质层界面处发生全反射的条件改变；检测单元，用于检测所述光源发出的光是否透过所述第二介质层照射到所述检测单元上。用于实现指纹识别。

【技术实现步骤摘要】
一种指纹识别单元、指纹识别装置及其指纹识别方法、显示装置
本专利技术涉及指纹识别
，尤其涉及一种指纹识别单元、指纹识别装置及其指纹识别方法、显示装置。
技术介绍
随着生活水平的不断提高，各种终端设备已成为生活中的必需品，而用户对终端设备的要求也越来越高。对于安全性而言，因指纹具有个体唯一性特征，而使得指纹识别具有优良的隐私保护功能，因此指纹识别被广泛应用在各种终端设备中，以增加用户体验以及安全性。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种指纹识别单元、指纹识别装置及其指纹识别方法、显示装置，提供了一种新型的指纹识别装置。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案：第一方面，提供一种指纹识别单元，包括：依次层叠设置的第一介质层、第二介质层以及检测单元；还包括：光源，所述光源发出的光射入所述第一介质层；其中，所述第一介质层和/或所述第二介质层的折射率在手指指纹接触时会发生变化，以使所述光源发出的光在所述第一介质层和所述第二介质层界面处发生全反射的条件改变；检测单元，用于检测所述光源发出的光是否透过所述第二介质层照射到所述检测单元上。优选的，在手指指纹未接触指纹识别单元时，所述光本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种指纹识别单元，其特征在于，包括：依次层叠设置的第一介质层、第二介质层以及检测单元；还包括：光源，所述光源发出的光射入所述第一介质层；其中，所述第一介质层和/或所述第二介质层的折射率在手指指纹接触时会发生变化，以使所述光源发出的光在所述第一介质层和所述第二介质层界面处发生全反射的条件改变；检测单元，用于检测所述光源发出的光是否透过所述第二介质层照射到所述检测单元上。

【技术特征摘要】
1.一种指纹识别单元，其特征在于，包括：依次层叠设置的第一介质层、第二介质层以及检测单元；还包括：光源，所述光源发出的光射入所述第一介质层；其中，所述第一介质层和/或所述第二介质层的折射率在手指指纹接触时会发生变化，以使所述光源发出的光在所述第一介质层和所述第二介质层界面处发生全反射的条件改变；检测单元，用于检测所述光源发出的光是否透过所述第二介质层照射到所述检测单元上。2.根据权利要求1所述的指纹识别单元，其特征在于，在手指指纹未接触指纹识别单元时，所述光源发出的光射入所述第一介质层后，在所述第一介质层和所述第二介质层界面处发生全反射；在手指指纹接触指纹识别单元时所述第二介质层的折射率增大和/或所述第一介质层的折射率减小，所述光源发出的光在所述第一介质层和所述第二介质层界面处发生折射和反射。3.根据权利要求1所述的指纹识别单元，其特征在于，在手指指纹未接触指纹识别单元时，所述光源发出的光射入所述第一介质层后，在所述第一介质层和所述第二介质层界面处发生反射和折射；在手指指纹接触指纹识别单元时，所述第二介质层的折射率减小和/或所述第一介质层的折射率增大，所述光源发出的光在所述第一介质层和所述第二介质层界面处发生全反射。4.根据权利要求1所述的指纹识别单元，其特征在于，所述指纹识别单元还包括设置在所述检测单元远离所述第二介质层一侧的导热层；所述导热层与所述第一介质层和/或所述第二介质层接触。5.根据权利要求1所述的指纹识别单元，其特征在于，所述检测单元包括开关单元；所述开关单元用于在所述光源发出的光的照射下处于打开状态，在未受到所述光源发出的光的照射下处于关闭状态。6.根据权利要求5所述的指纹识别单元，其特征在于，所述开关单元包括第一电极、第二电极以及与所述第一电极和所述第二电极均接触的半导体层。7.根据权利要求1所述的指纹识别单元，其特征在于，所述检测单元用于检测...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘智，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11