一种γ辐射场剂量检定用调控架制造技术

技术编号:17003136 阅读:35 留言:0更新日期:2018-01-11 01:04
本实用新型专利技术提供了一种γ辐射场剂量检定用调控架。本实用新型专利技术中的平衡嵌卡控制端用于嵌卡摄像头,滑动凹槽Ⅰ通过水平固定板、侧方位固定板与平衡嵌卡控制端下方相连接,滑动凹槽Ⅱ通过水平固定板、侧方位固定板与滑动凹槽Ⅰ相连接,磁吸嵌卡板固定设置在滑动凹槽Ⅱ底部,脚架上方通过磁吸嵌卡板与滑动凹槽Ⅱ相连接。本实用新型专利技术适用于γ辐射场剂量检定中对被检器具进行现场实时监控、读数。本实用新型专利技术的调控架提高了安全性:减少检定人员在辐射控制区的滞留时间、职业照射剂量。本实用新型专利技术结构简单,重量轻,便于移动。

【技术实现步骤摘要】
一种γ辐射场剂量检定用调控架
本技术属于电离辐射剂量检定领域,具体涉及一种γ辐射场剂量检定用调控架,能够用于γ辐射场剂量检定中对被检器具进行现场实时监控、读数。
技术介绍
针对γ辐射场剂量检定,需检定的剂量器具型号、尺寸大小参差不齐,这些器具的显示屏位置也各不相同。根据辐射防护用X、γ辐射剂量当量(率)仪和监测仪检定规程《JJG393-2003》,在防护级γ辐射场检定过程中,被检器具固定安放在照射室内的轨道小车上,被检器具的探测器参考点定位于γ辐射场检验点。目前,电离辐射剂量实验室没有一个适合的设备能对被检器具进行现场实时监控、读数,从而导致检定人员在辐射控制区的滞留时间、职业照射剂量增加。
技术实现思路
为了克服现有技术中不能减少检定人员在辐射控制区的滞留时间、职业照射剂量的不足,本技术提供了一种γ辐射场剂量检定用调控架。本技术采用的技术方案是:本技术的γ辐射场剂量检定用调控架,其特点是,所述的调控架包括平衡嵌卡控制端、水平固定板Ⅰ、侧方位固定板Ⅰ、滑动凹槽Ⅰ、滑动凹槽Ⅱ、磁吸嵌卡板、脚架,其中,所述的平衡嵌卡控制端含有嵌卡棒、嵌卡台、气泡水平仪、调控座、手柄,所述的脚架含有支架Ⅰ、支本文档来自技高网...
一种γ辐射场剂量检定用调控架

【技术保护点】
一种γ辐射场剂量检定用调控架,其特征在于:所述的调控架包括平衡嵌卡控制端(1)、水平固定板Ⅰ(2)、侧方位固定板Ⅰ(3)、滑动凹槽Ⅰ(41)、滑动凹槽Ⅱ(42)、磁吸嵌卡板(5)、脚架(6),其中,所述的平衡嵌卡控制端(1)含有嵌卡棒(11)、嵌卡台(12)、气泡水平仪(13)、调控座(14)、手柄(15),所述的脚架(6)含有支架Ⅰ、支架Ⅱ、支架Ⅲ;其连接关系是,所述的平衡嵌卡控制端(1)顶部设置有嵌卡棒(11),嵌卡棒(11)的下方依次设置有嵌卡台(12)、调控座(14),所述的嵌卡台(12)上部通过螺钮与嵌卡棒(11)连接,嵌卡台(12)下部通过螺钮与调控座(14)连接;所述的气泡水平仪...

【技术特征摘要】
1.一种γ辐射场剂量检定用调控架,其特征在于:所述的调控架包括平衡嵌卡控制端(1)、水平固定板Ⅰ(2)、侧方位固定板Ⅰ(3)、滑动凹槽Ⅰ(41)、滑动凹槽Ⅱ(42)、磁吸嵌卡板(5)、脚架(6),其中,所述的平衡嵌卡控制端(1)含有嵌卡棒(11)、嵌卡台(12)、气泡水平仪(13)、调控座(14)、手柄(15),所述的脚架(6)含有支架Ⅰ、支架Ⅱ、支架Ⅲ;其连接关系是,所述的平衡嵌卡控制端(1)顶部设置有嵌卡棒(11),嵌卡棒(11)的下方依次设置有嵌卡台(12)、调控座(14),所述的嵌卡台(12)上部通过螺钮与嵌卡棒(11)连接,嵌卡台(12)下部通过螺钮与调控座(14)连接;所述的气泡水平仪(13)位于嵌卡台(12)的下方,并嵌入调控座(14)一侧,手柄(15)固定连接在调控座(14)另一侧;所述的水平固定板Ⅰ(2)位于调控座(14)底部,并通过调控座(14)底部的吸磁铁固定,水平固定板Ⅰ(2)的侧边对应设置有侧方位固定板Ⅰ(3)、侧方位固定板Ⅱ,水平固定板Ⅰ(2)与侧方位固定板Ⅰ(3)、侧方位固定板Ⅱ分别固定连接,水平固定板Ⅰ(2)的下方设置有滑动凹槽Ⅰ(41),水平固定板Ⅰ(2)与滑动凹槽Ⅰ(41)滑动连接;所述的滑动凹槽Ⅰ(41)的下方设置有水平固定板Ⅱ(21),滑动凹槽Ⅰ(41)与水平固定板Ⅱ(21)滑动连接,水平固定板Ⅱ(21)的侧边对应设置有侧方位固定板Ⅲ(31)、侧...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨小艳吕己禄卓仁鸿成晶丁大杰文德智郑慧魏番惠
申请(专利权)人:中国工程物理研究院核物理与化学研究所
类型:新型
国别省市:四川,51

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