一种γ辐射场剂量检定用调控架制造技术

本实用新型专利技术提供了一种γ辐射场剂量检定用调控架。本实用新型专利技术中的平衡嵌卡控制端用于嵌卡摄像头，滑动凹槽Ⅰ通过水平固定板、侧方位固定板与平衡嵌卡控制端下方相连接，滑动凹槽Ⅱ通过水平固定板、侧方位固定板与滑动凹槽Ⅰ相连接，磁吸嵌卡板固定设置在滑动凹槽Ⅱ底部，脚架上方通过磁吸嵌卡板与滑动凹槽Ⅱ相连接。本实用新型专利技术适用于γ辐射场剂量检定中对被检器具进行现场实时监控、读数。本实用新型专利技术的调控架提高了安全性：减少检定人员在辐射控制区的滞留时间、职业照射剂量。本实用新型专利技术结构简单，重量轻，便于移动。

【技术实现步骤摘要】
一种γ辐射场剂量检定用调控架
本技术属于电离辐射剂量检定领域，具体涉及一种γ辐射场剂量检定用调控架，能够用于γ辐射场剂量检定中对被检器具进行现场实时监控、读数。
技术介绍
针对γ辐射场剂量检定，需检定的剂量器具型号、尺寸大小参差不齐，这些器具的显示屏位置也各不相同。根据辐射防护用X、γ辐射剂量当量（率）仪和监测仪检定规程《JJG393-2003》，在防护级γ辐射场检定过程中，被检器具固定安放在照射室内的轨道小车上，被检器具的探测器参考点定位于γ辐射场检验点。目前，电离辐射剂量实验室没有一个适合的设备能对被检器具进行现场实时监控、读数，从而导致检定人员在辐射控制区的滞留时间、职业照射剂量增加。
技术实现思路
为了克服现有技术中不能减少检定人员在辐射控制区的滞留时间、职业照射剂量的不足，本技术提供了一种γ辐射场剂量检定用调控架。本技术采用的技术方案是：本技术的γ辐射场剂量检定用调控架，其特点是，所述的调控架包括平衡嵌卡控制端、水平固定板Ⅰ、侧方位固定板Ⅰ、滑动凹槽Ⅰ、滑动凹槽Ⅱ、磁吸嵌卡板、脚架，其中，所述的平衡嵌卡控制端含有嵌卡棒、嵌卡台、气泡水平仪、调控座、手柄，所述的脚架含有支架Ⅰ、支架Ⅱ、支架Ⅲ。其连接关系是，所述的平衡嵌卡控制端顶部设置有嵌卡棒，嵌卡棒的下方依次设置有嵌卡台、调控座，所述的嵌卡台上部通过螺钮与嵌卡棒连接，嵌卡台下部通过螺钮与调控座连接。所述的气泡水平仪位于嵌卡台的下方，并嵌入调控座一侧，手柄固定连接在调控座另一侧。所述的水平固定板Ⅰ位于调控座底部，并通过调控座底部的吸磁铁固定，水平固定板Ⅰ的侧边对应设置有侧方位固定板Ⅰ、侧方位固定板Ⅱ，水平固定板Ⅰ与侧方位固定板Ⅰ、侧方位固定板Ⅱ分别固定连接，水平固定板Ⅰ的下方设置有滑动凹槽Ⅰ，水平固定板Ⅰ与滑动凹槽Ⅰ滑动连接。所述的滑动凹槽Ⅰ的下方设置有水平固定板Ⅱ，滑动凹槽Ⅰ与水平固定板Ⅱ滑动连接，水平固定板Ⅱ的侧边对应设置有侧方位固定板Ⅲ、侧方位固定板Ⅳ，水平固定板Ⅱ与侧方位固定板Ⅲ、侧方位固定板Ⅳ分别固定连接。水平固定板Ⅱ的下方设置有滑动凹槽Ⅱ，水平固定板Ⅱ与滑动凹槽Ⅱ滑动连接。磁吸嵌卡板固定在滑动凹槽Ⅱ底部，脚架的顶部通过磁吸嵌卡板与滑动凹槽Ⅱ相连接。所述的脚架上端沿中心轴线设置有一圆盘，在圆盘上均匀活动连接有支架Ⅰ、支架Ⅱ、支架Ⅲ，其中，支架Ⅰ包括两根滑杆Ⅰ、两根滑杆Ⅱ、一根滑杆Ⅲ。所述的支架Ⅰ的中心设置有滑杆Ⅲ，两根滑杆Ⅱ分别设置在滑杆Ⅲ两侧，两根滑杆Ⅰ分别设置在两根滑杆Ⅱ两侧。三角支撑带通过安装在支架Ⅰ上的活动钮扣为支撑点设置在脚架内侧，支架Ⅰ通过三角支撑带、活动钮扣分别与支架Ⅰ、支架Ⅱ相连。所述的支架Ⅱ、支架Ⅲ与支架Ⅰ的结构相同。所述的水平固定板Ⅰ、侧方位固定板Ⅰ的结构相同。所述的滑动凹槽Ⅰ、滑动凹槽Ⅱ的结构相同。所述的磁吸嵌卡板、脚架的顶部相对应设置。所述的平衡嵌卡控制端的嵌卡棒、嵌卡台用于嵌卡摄像头，所述的手柄用于平衡嵌卡控制端的水平调节。所述的水平固定板、侧方位固定板、滑动凹槽Ⅰ、滑动凹槽Ⅱ相对应设置，通过对侧方位固定板的松紧调节滑动凹槽Ⅰ、滑动凹槽Ⅱ能进行左右滑动、360°旋转。所述的滑杆Ⅰ、滑杆Ⅱ、滑杆Ⅲ通过活动纽扣调节脚架高度。本技术的有益效果是，能够用于γ辐射场剂量检定时对被检仪器进行现场实时监控、读数的作用；本技术的调控架提高了安全性：减少检定人员在辐射控制区的滞留时间、职业照射剂量；本技术结构简单，重量轻，便于移动。附图说明图1为本技术的γ辐射场剂量检定用调控架的结构示意图；图2为本技术的γ辐射场剂量检定用调控架的局部结构图；图3为本技术中的脚架结构示意图；图中，1.平衡嵌卡控制端11.嵌卡棒12.嵌卡台13.气泡水平仪14.调控座15.手柄2.水平固定板Ⅰ21.水平固定板Ⅱ3.侧方位固定板Ⅰ31.侧方位固定板Ⅲ41.滑动凹槽Ⅰ42.滑动凹槽Ⅱ5.磁吸嵌卡板6.脚架61.滑杆Ⅰ62.滑杆Ⅱ63.滑杆Ⅲ64.活动纽扣65.三角支撑带。具体实施方式下面结合附图对本技术进行详细描述实施例1图1为本技术的γ辐射场剂量检定用调控架的结构示意图，图2为本技术的γ辐射场剂量检定用调控架的局部结构图，图3为本技术中的脚架结构示意图。在图1-图3中，本技术的γ辐射场剂量检定用调控架，包括平衡嵌卡控制端1、水平固定板Ⅰ2、侧方位固定板Ⅰ3、滑动凹槽Ⅰ41、滑动凹槽Ⅱ42、磁吸嵌卡板5、脚架6，其中，所述的平衡嵌卡控制端1含有嵌卡棒11、嵌卡台12、气泡水平仪13、调控座14、手柄15，所述的脚架6含有支架Ⅰ、支架Ⅱ、支架Ⅲ。其连接关系是，所述的平衡嵌卡控制端1顶部设置有嵌卡棒11，嵌卡棒11的下方依次设置有嵌卡台12、调控座14，所述的嵌卡台12上部通过螺钮与嵌卡棒11连接，嵌卡台12下部通过螺钮与调控座14连接。所述的气泡水平仪13位于嵌卡台12的下方，并嵌入调控座14一侧，手柄15固定连接在调控座14另一侧。所述的水平固定板Ⅰ2位于调控座14底部，并通过调控座14底部的吸磁铁固定，水平固定板Ⅰ2的侧边对应设置有侧方位固定板Ⅰ3、侧方位固定板Ⅱ，水平固定板Ⅰ2与侧方位固定板Ⅰ3、侧方位固定板Ⅱ分别固定连接，水平固定板Ⅰ2的下方设置有滑动凹槽Ⅰ41，水平固定板Ⅰ2与滑动凹槽Ⅰ41滑动连接。所述的滑动凹槽Ⅰ41的下方设置有水平固定板Ⅱ21，滑动凹槽Ⅰ41与水平固定板Ⅱ21滑动连接，水平固定板Ⅱ21的侧边对应设置有侧方位固定板Ⅲ31、侧方位固定板Ⅳ，水平固定板Ⅱ21与侧方位固定板Ⅲ、侧方位固定板Ⅳ分别固定连接。水平固定板Ⅱ21的下方设置有滑动凹槽Ⅱ42，水平固定板Ⅱ21与滑动凹槽Ⅱ42滑动连接。磁吸嵌卡板5固定在滑动凹槽Ⅱ42底部，脚架6的顶部通过磁吸嵌卡板5与滑动凹槽Ⅱ42相连接。所述的脚架6上端沿中心轴线设置有一圆盘，在圆盘上均匀活动连接有支架Ⅰ、支架Ⅱ、支架Ⅲ，其中，支架Ⅰ包括两根滑杆Ⅰ61、两根滑杆Ⅱ62、一根滑杆Ⅲ63。所述的支架Ⅰ的中心设置有滑杆Ⅲ63，两根滑杆Ⅱ62分别设置在滑杆Ⅲ63两侧，两根滑杆Ⅰ61分别设置在两根滑杆Ⅱ62两侧。三角支撑带65通过安装在支架Ⅰ上的活动钮扣64为支撑点设置在脚架6内侧，支架Ⅰ通过三角支撑带65、活动钮扣64分别与支架Ⅰ、支架Ⅱ相连。所述的支架Ⅱ、支架Ⅲ与支架Ⅰ的结构相同。所述的水平固定板Ⅰ2、侧方位固定板Ⅰ3的结构相同。所述的滑动凹槽Ⅰ41、滑动凹槽Ⅱ42的结构相同。所述的磁吸嵌卡板5、脚架6的顶部相对应设置。所述的平衡嵌卡控制端1的嵌卡棒11、嵌卡台12用于嵌卡摄像头，手柄15通过调控座14、螺钮对平衡嵌卡控制端1进行方位调节。所述的水平固定板Ⅰ2、侧方位固定板Ⅰ3、滑动凹槽Ⅰ41、滑动凹槽Ⅱ42相对应设置，通过对侧方位固定板Ⅰ3的松紧调节滑动凹槽Ⅰ41、滑动凹槽Ⅱ42能进行左右滑动、360°旋转。所述的滑杆Ⅰ61、滑杆Ⅱ62、滑杆Ⅲ63通过活动纽扣64调节脚架6的高度。本实施例中，所述的水平固定板Ⅰ2为两个水平固定板中的一个；所述的侧方位固定板Ⅰ3为四个侧方位固定板中的一个；所述的滑杆Ⅰ61为六根滑杆Ⅰ中的一个；所述的滑杆Ⅱ62为六根滑杆Ⅱ中的一个；所述的滑杆Ⅲ63为三根滑杆Ⅲ中的一个；所述的活动钮扣64为九个活本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种γ辐射场剂量检定用调控架，其特征在于:所述的调控架包括平衡嵌卡控制端（1）、水平固定板Ⅰ（2）、侧方位固定板Ⅰ（3）、滑动凹槽Ⅰ（41）、滑动凹槽Ⅱ（42）、磁吸嵌卡板（5）、脚架(6)，其中，所述的平衡嵌卡控制端(1)含有嵌卡棒(11)、嵌卡台(12)、气泡水平仪(13)、调控座(14)、手柄(15)，所述的脚架(6)含有支架Ⅰ、支架Ⅱ、支架Ⅲ；其连接关系是，所述的平衡嵌卡控制端（1）顶部设置有嵌卡棒（11），嵌卡棒(11)的下方依次设置有嵌卡台（12）、调控座（14），所述的嵌卡台（12）上部通过螺钮与嵌卡棒（11）连接，嵌卡台（12）下部通过螺钮与调控座（14）连接；所述的气泡水平仪（13）位于嵌卡台（12）的下方，并嵌入调控座（14）一侧，手柄（15）固定连接在调控座（14）另一侧；所述的水平固定板Ⅰ（2）位于调控座（14）底部，并通过调控座（14）底部的吸磁铁固定，水平固定板Ⅰ（2）的侧边对应设置有侧方位固定板Ⅰ（3）、侧方位固定板Ⅱ，水平固定板Ⅰ（2）与侧方位固定板Ⅰ（3）、侧方位固定板Ⅱ分别固定连接，水平固定板Ⅰ（2）的下方设置有滑动凹槽Ⅰ（41），水平固定板Ⅰ（2）与滑动凹槽Ⅰ（41）滑动连接；所述的滑动凹槽Ⅰ（41）的下方设置有水平固定板Ⅱ（21），滑动凹槽Ⅰ（41）与水平固定板Ⅱ（21）滑动连接，水平固定板Ⅱ（21）的侧边对应设置有侧方位固定板Ⅲ（31）、侧方位固定板Ⅳ，水平固定板Ⅱ（21）与侧方位固定板Ⅲ、侧方位固定板Ⅳ分别固定连接；水平固定板Ⅱ（21）的下方设置有滑动凹槽Ⅱ（42），水平固定板Ⅱ（21）与滑动凹槽Ⅱ（42）滑动连接；磁吸嵌卡板（5）固定在滑动凹槽Ⅱ（42）底部，脚架（6）的顶部通过磁吸嵌卡板（5）与滑动凹槽Ⅱ（42）相连接；所述的脚架（6）上端沿中心轴线设置有一圆盘，在圆盘上均匀活动连接有支架Ⅰ、支架Ⅱ、支架Ⅲ，其中，支架Ⅰ包括两根滑杆Ⅰ（61）、两根滑杆Ⅱ（62）、一根滑杆Ⅲ（63）；所述的支架Ⅰ的中心设置有滑杆Ⅲ（63），两根滑杆Ⅱ（62）分别设置在滑杆Ⅲ（63）两侧，两根滑杆Ⅰ（61）分别设置在两根滑杆Ⅱ（62）两侧；三角支撑带（65）通过安装在支架Ⅰ上的活动钮扣(64)为支撑点设置在脚架(6)内侧，支架Ⅰ通过三角支撑带（65）、活动钮扣(64)分别与支架Ⅰ、支架Ⅱ相连。...

【技术特征摘要】
1.一种γ辐射场剂量检定用调控架，其特征在于:所述的调控架包括平衡嵌卡控制端（1）、水平固定板Ⅰ（2）、侧方位固定板Ⅰ（3）、滑动凹槽Ⅰ（41）、滑动凹槽Ⅱ（42）、磁吸嵌卡板（5）、脚架(6)，其中，所述的平衡嵌卡控制端(1)含有嵌卡棒(11)、嵌卡台(12)、气泡水平仪(13)、调控座(14)、手柄(15)，所述的脚架(6)含有支架Ⅰ、支架Ⅱ、支架Ⅲ；其连接关系是，所述的平衡嵌卡控制端（1）顶部设置有嵌卡棒（11），嵌卡棒(11)的下方依次设置有嵌卡台（12）、调控座（14），所述的嵌卡台（12）上部通过螺钮与嵌卡棒（11）连接，嵌卡台（12）下部通过螺钮与调控座（14）连接；所述的气泡水平仪（13）位于嵌卡台（12）的下方，并嵌入调控座（14）一侧，手柄（15）固定连接在调控座（14）另一侧；所述的水平固定板Ⅰ（2）位于调控座（14）底部，并通过调控座（14）底部的吸磁铁固定，水平固定板Ⅰ（2）的侧边对应设置有侧方位固定板Ⅰ（3）、侧方位固定板Ⅱ，水平固定板Ⅰ（2）与侧方位固定板Ⅰ（3）、侧方位固定板Ⅱ分别固定连接，水平固定板Ⅰ（2）的下方设置有滑动凹槽Ⅰ（41），水平固定板Ⅰ（2）与滑动凹槽Ⅰ（41）滑动连接；所述的滑动凹槽Ⅰ（41）的下方设置有水平固定板Ⅱ（21），滑动凹槽Ⅰ（41）与水平固定板Ⅱ（21）滑动连接，水平固定板Ⅱ（21）的侧边对应设置有侧方位固定板Ⅲ（31）、侧...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨小艳，吕己禄，卓仁鸿，成晶，丁大杰，文德智，郑慧，魏番惠，
申请(专利权)人：中国工程物理研究院核物理与化学研究所，
类型：新型
国别省市：四川,51