【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及印染行业皂洗工艺，是一种高效低温净洗剂。印染行业在完成前处理工艺后，紧接着对各种前处理织物进行印花，印花完成后进行皂洗，目的是洗去印花过程中织物表面的浮色，目前采用的皂洗工艺净化剂温度需控制在90-95℃，经皂洗后的织物色泽不十分鲜艳。本专利技术的目的是提供一种能在45℃-50℃对印花织物进行皂洗，达到脱色均匀，得色鲜艳，手感柔软的净洗剂，处理后的织物布面物理指标达到国标GB431-78的标准。为实现上述目的，本专利技术采用高效表面活性剂和化学助剂科学配制而成，在45℃-50℃时充分发挥其效能。本专利技术的配方重量百分比（%）表面活性剂 10-30Na2CO310-30Na2So430-60Na3PO4·12H2O1-15-->Na4P2O75-10CMC 0.1-5Na5P3O101-20C10H14N2O8Na2·2H2O1-10将上述配方中的各组分按上述重量比分别称重，配料，按常规工艺混合、搅拌均匀，合成反应后出料，经检验合格包装入库。下面结合试验情况进一步说明本专利技术的效果：试验一：品种：2060金黄细布批量：1.62万米应用染色后处理试验条件：初开底料6kg/500l后每车布加1.5kg-->温度：45～50℃，其它同正常工艺试验结果：经物理试验室全面测试，布面物理指标符合标准。（GB431-78）试验二：品种：草黄细布2060，应用染色后处理批量：2.52万米试验条件：在皂煮蒸箱加料初开底料 6kg/500l后每车布加 1.5kg温度：45～50℃其它同正常工艺试验结果：经物理试验室全面试验，布面物理指标符合标准。（GB...
【技术保护点】
一种低温高效净化剂，其中含有表面活性剂、Ｎａ↓［２］ＣＯ↓［３］、Ｎａ↓［２］ＳＯ↓［４］、Ｎａ↓［３］ＰＯ↓［４］.１２Ｈ↓［２］Ｏ、Ｍａ↓［４］Ｐ↓［２］Ｏ↓［７］、ＣＭＣ、Ｎａ↓［５］Ｐ↓［３］Ｏ↓［１０］、Ｃ↓［１０］Ｈ↓［１４］Ｎ↓［２］Ｏ↓［８］Ｎａ↓［２］.２Ｈ↓［２］Ｏ，其特征在于：１５－３０ 表面活性剂１０－３０Ｎａ↓［２］ＣＯ↓［３］３０－６０ Ｎａ↓［２］ＳＯ↓［４］１－１５ Ｎａ↓［３］ＰＯ↓［４］.１２Ｈ↓［２］Ｏ５－１０ Ｎ ａ↓［４］Ｐ↓［２］Ｏ↓［７］０. １－５ ＣＭＣ１－２０ Ｎａ↓［５］Ｐ↓［３］Ｏ↓［１０］１－１０ Ｃ↓［１０］Ｈ↓［１４］Ｎ↓［２］Ｏ↓［８］Ｎａ↓［２］.２Ｈ↓［２］Ｏ。
【技术特征摘要】
1、一种低温高效净化剂，其中含有表面活性剂、Na2CO3、Na2SO4、Na3PO4·12H2O、Ma4P2O7、CMC、Na5P3O10、C10H14N2O8Na2·2H2O，其特征在于：15-30...
【专利技术属性】
技术研发人员：杨一峰，薜建祥，
申请(专利权)人：盐城市潘黄化学厂，
类型：发明
国别省市：32[中国|江苏]
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