转印型感光性折射率调整膜、折射率调整图案的形成方法及电子部件技术

本发明专利技术的转印型感光性折射率调整膜具备支撑膜、设置在该支撑膜上的感光性树脂层和设置在该感光性树脂层上的高折射率层，感光性树脂层含有光聚合性化合物和光聚合引发剂，光聚合引发剂含有肟酯化合物或氧化膦化合物。

The forming method and electronic component of the transfer type photosensitive refractive index adjustment membrane, the refractive index adjustment pattern

Transfer the photosensitive refraction rate adjustment film having a photosensitive resin layer and the supporting film is arranged on the supporting membrane and high refractive index is arranged on the photosensitive resin layer on layer of photosensitive resin layer containing a photopolymerizable compound and a photopolymerization initiator, a photopolymerization initiator containing oxime ester compound or phosphine oxide compounds.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】转印型感光性折射率调整膜、折射率调整图案的形成方法及电子部件
本专利技术涉及转印型感光性折射率调整膜、折射率调整图案的形成方法及电子部件。详细地说，涉及能够简单地形成具有透明电极的保护膜功能和透明电极图案的不可视化或触摸画面的可见性提高这两个功能的固化膜的转印型感光性折射率调整膜。
技术介绍
在个人电脑或电视等大型电子设备、导航装置、手机、电子辞典等小型电子设备、OA设备、FA设备等显示设备等中使用液晶显示元件或触摸面板(触摸传感器)。这些液晶显示元件或触摸面板上设有由透明电极材料形成的电极。作为透明电极材料，由于显示高的可见光透射率，因此ITO(Indium-Tin-Oxide，氧化铟锡)、氧化铟或氧化锡成为主流。触摸面板已经以各种方式实现了实用化。投影型静电电容方式的触摸面板由于能够进行指尖的多点检测，因此具备能够进行复杂指示的良好操作性。因而，在手机或便携式音乐播放器等具有小型显示装置的设备中，作为显示面上的输入装置有所利用。一般来说，在投影型静电电容方式的触摸面板中，为了表现由X轴和Y轴形成的2维坐标，多个X电极与垂直于该X电极的多个Y电极形成2层结构图案。作为这些电极，近年来探讨了Ag纳米丝、碳纳米管等所代表的导电性纤维的利用，但ITO还不是主流。然而，在触摸面板的边缘区域上，为了传递触摸位置的检测信号，金属配线变得必要。从导电性的观点出发，一般来说金属配线由铜形成。触摸面板有时在接触到指尖时，水分或盐分等腐蚀成分会从传感区域侵入到内部。当腐蚀成分侵入到触摸面板的内部时，有上述金属配线发生腐蚀、电极与驱动用电路之间的电阻增加、或发生断线的危险。为了防止金属配线的腐蚀，本专利技术人等提出了在透明基材上设置由特定感光性树脂组合物形成的感光性树脂层，对该感光性树脂层进行曝光、显影，从而对透明基材上的金属配线进行保护的方法(例如参照专利文献1)。然而，如上所述，在投影型静电电容方式的触摸面板中，在基材上由透明电极材料形成的多个X电极与垂直于该X电极的多个Y电极形成2层结构的透明电极图案，但形成了电极图案的部分与未形成的部分因光学反射而色差增大，在进行模块化时有透明导电图案映射在画面上的所谓“透底现象”的问题。另外还有如下问题：在基材与透明电极之间、或者在对进行模块化时所使用的盖玻璃和透明电极图案进行粘接的可见性提高膜(OCA：OpticalClearAdhesive，光学透明胶)与透明电极图案之间，反射光强度增加，从而降低画面的透射率。上述专利文献1所记载的方法在保护金属配线的方面是有效的，但在抑制透底现象、抑制画面的透射率降低的方面，仍有改善的余地。另外，作为防止透明电极图案被可见的手法，公开了具有调整至特定折射率范围的低折射率的第一固化性透明树脂层及高折射率的第二固化性透明树脂层的转印膜(例如参照专利文献2)。现有技术文献专利文献专利文献1：国际公开第2013/084873号专利文献2：国际公开第2014/084112号
技术实现思路
但是，专利文献2的转印膜的透明性并不充分、具有进一步改善的余地。另外，形成规定的固化膜时，显影性不充分，在形成兼顾画面的透射率降低的抑制和传感器金属配线的保护的固化膜的观点上来说，仍有改善的余地。另外，作为具体的转印膜的构成，公开了由临时支撑体/热塑性树脂层/中间层/第一固化性透明树脂层/第二固化性透明树脂层/保护膜形成的6层膜，但从多层膜的生产率的观点出发，也仍有改善的余地。本专利技术的目的在于提供能够以充分的显影性、简单地形成兼顾透明电极图案的透底现象抑制、画面的透射率降低抑制与传感器金属配线的保护的固化膜、并且透明性高的转印型感光性折射率调整膜。为了解决上述课题，本专利技术人等进行了深入研究，结果发现，通过由含有特定光聚合引发剂的感光性树脂层和高折射率层构成的转印型感光性折射率调整膜，可以在透明导电图案上进行IM层(也称作光学调节层、折射率匹配层)的薄膜形成，另外能够以充分的显影性形成兼顾由透底现象的抑制及画面的透射率降低的抑制所带来的触摸画面的可见性提高和抑制金属配线的腐蚀的固化膜，从而完成了本专利技术。以下示出本专利技术的具体方式。1.一种转印型感光性折射率调整膜，其具备支撑膜、设置在该支撑膜上的感光性树脂层和设置在该感光性树脂层上的高折射率层，所述感光性树脂层含有光聚合性化合物和光聚合引发剂，所述光聚合引发剂含有肟酯化合物或氧化膦化合物。2.根据上述1所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述感光性树脂层及所述高折射率层在波长400～700nm下的可见光透射率的最小值为90.00％以上。3.根据上述1或2所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述高折射率层含有具有三嗪环的化合物或含有具有异氰脲酸的化合物。4.根据上述1～3中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述高折射率层含有具有芴骨架的化合物。5.根据上述1～4中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述高折射率层含有金属氧化物。6.根据上述5所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述金属氧化物为选自氧化锆、氧化钛、氧化锡、氧化锌、氧化铟锡、氧化铟、氧化铝、氧化硅及氧化钇中的至少1种。7.根据上述1～6中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述高折射率层在波长633nm下的折射率为1.50～1.90。8.根据上述1～7中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述高折射率层的膜厚为10～500nm。9.根据上述1～8中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述感光性树脂层含有粘合剂聚合物。10.根据上述9所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述粘合剂聚合物具有羧基。11.根据上述9或10所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述粘合剂聚合物为含有来源于选自(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸苄酯、苯乙烯、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯及(甲基)丙烯酸2-乙基己酯中的至少1种化合物的结构单元的粘合剂聚合物。12.根据上述1～11中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述感光性树脂层含有磷酸酯化合物。13.根据上述1～12中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述感光性树脂层与所述高折射率层的总厚度为30μm以下。14.一种折射率调整图案的形成方法，其具备以下工序：使用上述1～13中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜，按照所述高折射率层密合在所述基材上的方式，将所述高折射率层及所述感光性树脂层层压在基材上的工序；和对所述基材上的所述高折射率层及所述感光性树脂层的规定部分进行曝光后，将所述规定部分以外的部分除去，形成折射率调整图案的工序。15.一种电子部件，其具有通过上述14所述的形成方法获得的折射率调整图案。根据本专利技术，可以提供能够以充分的显影性、简单地形成兼顾透明电极图案的透底现象抑制及画面的透射率降低抑制和传感器金属配线的保护的固化膜、并且透明性高的转印型感光性折射率调整膜。附图说明图1为表示本专利技术的转印型感光性折射率调整膜的示意截面图。图2为表示在带有透明导电图案的基材上使用了本专利技术的转印型感光性折射率调整膜的一个实施方式的示意截面图。图3为表示本专利技术一个实施方式的电子部件的示意俯视图。具体实施方式以下对用于实施本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种转印型感光性折射率调整膜，其具备支撑膜、设置在该支撑膜上的感光性树脂层和设置在该感光性树脂层上的高折射率层，所述感光性树脂层含有光聚合性化合物和光聚合引发剂，所述光聚合引发剂含有肟酯化合物或氧化膦化合物。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种转印型感光性折射率调整膜，其具备支撑膜、设置在该支撑膜上的感光性树脂层和设置在该感光性树脂层上的高折射率层，所述感光性树脂层含有光聚合性化合物和光聚合引发剂，所述光聚合引发剂含有肟酯化合物或氧化膦化合物。2.根据权利要求1所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述感光性树脂层及所述高折射率层在波长400～700nm下的可见光透射率的最小值为90.00％以上。3.根据权利要求1或2所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述高折射率层含有具有三嗪环的化合物或含有具有异氰脲酸的化合物。4.根据权利要求1～3中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述高折射率层含有具有芴骨架的化合物。5.根据权利要求1～4中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述高折射率层含有金属氧化物。6.根据权利要求5所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述金属氧化物为选自氧化锆、氧化钛、氧化锡、氧化锌、氧化铟锡、氧化铟、氧化铝、氧化硅及氧化钇中的至少1种。7.根据权利要求1～6中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述高折射率层在波长633nm下的折射率为1.50～1.90。8.根据权利要求1～7中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述高折射率层的膜厚为10～500nm。9.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：佐藤真弓，木村忠广，渡部和仁，渡边匠，
申请(专利权)人：日立化成株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP