湿制程除静电装置及湿制程设备制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种湿制程除静电装置及湿制程设备，通过在湿制程设备的两个相邻湿区间之间的缓冲区间内设置离子除静电机构等组件，能够使得当进行湿制程处理的基板从一个湿区间进入相邻的另一个湿区间时，直接通过离子除静电机构除去静电，避免了现有技术中在干燥区间无法有效地消除水段或药液段产生的静电的问题，同时避免了因水段或药液段产生的静电造成的设备故障，进而提升湿制程设备清除基板残余微粒的能力。

Wet process removing electrostatic device and wet process equipment

The utility model provides an electrostatic device and wet process equipment in wet process, ion components such as static electricity removing mechanism by setting buffer zone between the wet process equipment of two adjacent wet interval, when the substrate can make the process of wet enter from a wet interval adjacent to another a wet interval, in addition to electrostatic ion directly through the mechanism to remove static electricity, avoid the existing technology can not effectively eliminate the interval in the drying section of water or liquid generated by electrostatic problems, while avoiding the equipment failure caused by water or liquid static segment caused, and thus enhance the ability of process equipment to remove residual substrate particles wet.

【技术实现步骤摘要】
湿制程除静电装置及湿制程设备
本技术涉及生产用设备
，尤其涉及一种湿制程除静电装置及湿制程设备。
技术介绍
有源矩阵有机发光显示屏(AMOLED)等电子显示装置主要是基于玻璃基板(glass)制造的，在制造显示面板的过程中，有多道制程会使用到湿制程设备，湿制程设备主要是让基板承载于一输送带上，并经由传动机构(roller)的传动，让基板经过喷洒药液或水液的湿区间，以让喷洒的液体均匀冲刷该基板，而依据喷洒的液体的不同，即可以对基板进行不同的湿制程处理作业。湿制程设备进行相应的湿制程时，会无法避免地产生和累积静电电荷，这些静电电荷一方面可能会在基板内转移而产生静电电流，进而损坏基板上的元器件；另一方面会产生电场而吸引带电颗粒或者极化中性颗粒到基板表面，进而造成基板上的致命缺陷。因此，需要对湿制程设备进行除静电处理。目前业界针对湿制程设备的除静电方式大多是在湿制程设备入口和出口的干燥区间加装离子棒(Ionizerbar)，以此来消除进出湿制程设备的玻璃基板上的静电。然而，这种除静电方式下，在湿区间(即水或药液等液体喷洒段，可简称水段或药液段)，由于传动机构即输送带的导电性不佳以及气刀(用于除去玻璃基板上废液以及废液回收的机构)内气体的静电作用等原因而产生的静电始终无法得到有效地消除，依旧会对产品造成影响。此外，还有部分湿制程设备采用HPMJ(SUPERHIGHPRESSUREMICROJET，超高压微射流清洗)内混合的CO2(二氧化碳)气体以产生碳酸根离子和氢离子来进行静电消除，这种除静电方式，对于玻璃基板表面上残留的粒径1μm～5μm的各种微粒(Particles)的清除效果很好，而对于静电电荷的清除效果依旧欠佳。因此需要一种新的用于湿制程设备的除静电方案，以提高除静电效果。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种湿制程除静电装置及湿制程设备，能够提高除静电效果。为了实现上述目的，本技术提供一种湿制程除静电装置，包括：用于提供带电离子气团的离子除静电机构以及用于为所述离子除静电机构提供气体的气体送入机构，所述离子除静电机构设置于湿制程设备的缓冲区间内，所述气体送入机构连接所述离子除静电机构。可选的，所述离子除静电机构为离子枪或者离子棒。可选的，所述湿制程除静电装置还包括一第一挡门板和一第二挡门板，所述第一挡门板设置于所述缓冲区间的入口处并用于封闭或者打开所述缓冲区间的入口，所述第二挡门板设置于所述缓冲区间的出口处并用于封闭或者打开所述缓冲区间的出口。可选的，所述湿制程除静电装置还包括一排气机构，所述排气机构设置于所述缓冲区间内并用于排除所述缓冲区内的气体。可选的，所述湿制程除静电装置还包括一控制机构，所述控制机构分别与所述气体送入机构、离子除静电机构、排气机构、第一挡门板以及第二挡门板信号连接，并用于控制所述气体送入机构、离子除静电机构、排气机构、第一挡门板以及第二挡门板的开闭时机和频率。可选的，所述气体送入机构、离子除静电机构、排气机构、第一挡门板以及第二挡门板中的至少一个固定安装或者可拆卸式安装在所述缓冲区间内。可选的，所述离子除静电机构的表面具有一防腐材料层。本技术还提供一种湿制程设备，包括上述之一的湿制程除静电装置。可选的，所述湿制程设备包括三个以上的湿区间，任意两个相邻湿区间之间均设有所述缓冲区间，每个缓冲区间内均设置有一个所述湿制程除静电装置。可选的，所述湿制程设备包括三个以上的湿区间，任意两个相邻湿区间之间均设有所述缓冲区间，整个所述湿制程设备中仅设有一个所述湿制程除静电装置，所述湿制程除静电装置还包括一移动机构，所述湿制程除静电装置的气体送入机构、离子除静电机构、排气机构、第一挡门板以及第二挡门板均安装在所述移动机构上，所述移动机构能够在不同的缓冲区间之间移动。与现有技术相比，本技术的技术方案具有以下有益效果：1、通过在湿制程设备的两个相邻湿区间之间的缓冲区间内设置离子除静电机构等组件，能够使得当进行湿制程处理的基板从一个湿区间进入相邻的另一个湿区间时，直接通过离子除静电机构除去静电，即本技术的技术方案可直接实现在湿制程设备的水段或药液段消除静电，避免了现有技术中在干燥区间无法有效地消除水段或药液段产生的静电的问题，同时避免了因水段或药液段产生的静电造成的设备故障。2、通过分别设置于缓冲区间的入口和出口的第一挡门板和第二挡门板，实现缓冲区间的封闭，从而可以提高缓冲区间中的带电离子气团的密度，从而提高除静电效果。3、通过设置排气机构，可以将缓冲区间内的废气排出，从而可以为后续基板提供相对洁净的环境。4、通过设置相应的控制机构，优化气体送入机构、离子除静电机构、排气机构、第一挡门板和第二挡门板的开闭时机和频率，提高湿制程除静电装置的工作效率。附图说明图1是本技术具体实施例的安装有湿制程除静电装置的湿制程设备的结构示意图；图2A是本技术具体实施例的一种离子除静电机构的示意图；图2B是本技术具体实施例的另一种离子除静电机构的示意图。具体实施方式请参考图1，本实施例提供一种湿制程除静电装置，设置在湿制程设备的两个相邻湿区间I、II之间预留的缓冲区间(Buffer)III内使用。所述湿制程除静电装置包括气体送入机构201、离子除静电机构202、排气机构203、第一挡门板204和第二挡门板205。其中，所述气体送入机构201例如是压缩气体送入机构，所述压缩气体送入机构可以产生洁净干燥的压缩空气(CleanDryAir，CDA)或压缩的惰性气体等压缩气体，并通过相应的输送管道206将产生的压缩气体输送给离子除静电机构202使用。请参考图1和图2A、2B，所述湿制程设备的缓冲区间(Buffer)III内具有一基板位，基板300在基板传送带等传送机构的带动下进入到缓冲区间(Buffer)III内时经过所述基板位，所述离子除静电机构202设置于所述基板位上方，并能够产生带电离子气团，所述带电离子气团在气体送入机构201输送的压缩气体作用下吹向基板300表面，以用于除去基板300表面的静电。优选的，所述离子除静电机构202设置于所述基板位的正上方，如此可以最大程度地将带电离子气团吹向基板300表面。但应认识到，考虑到安装位置等因素，也可将离子除静电机构202设置于所述基板位的斜上方，只要带电离子气团能够吹至基板300表面即可实现本技术的目的。所述离子除静电机构202可以为图2A所示的离子枪(Ionizergun)202a。离子枪202a主体结构呈机械枪状，包括对准基板300表面的一个喷枪嘴2021、控制喷嘴2021喷气的阀门2022以及连接输送管道206的管道2023。所述离子除静电机构202也可以为图2B所示的离子棒(Ionizerbar)202b。离子棒202b的主体结构为长条状，具有多个喷气嘴2024，离子棒202b还具有连接输送管道206的管道2025。当离子棒202b的多个喷气嘴2024相互连通时，离子棒202b可设置一个管道2025，用于节约材料成本和空间。当离子棒202b的多个喷气嘴2024单独被控制开合时，可为每个喷气嘴2024单独设置一个管道2025，以利于气体输送。所述第一挡门板204和第二挡门板205分别对应的设置在缓冲区间III的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种湿制程除静电装置，其特征在于，包括：用于提供带电离子气团的离子除静电机构以及用于为所述离子除静电机构提供气体的气体送入机构，所述离子除静电机构设置于湿制程设备的缓冲区间内，所述气体送入机构连接所述离子除静电机构。

【技术特征摘要】
1.一种湿制程除静电装置，其特征在于，包括：用于提供带电离子气团的离子除静电机构以及用于为所述离子除静电机构提供气体的气体送入机构，所述离子除静电机构设置于湿制程设备的缓冲区间内，所述气体送入机构连接所述离子除静电机构。2.如权利要求1所述的湿制程除静电装置，其特征在于，所述离子除静电机构为离子枪或者离子棒。3.如权利要求1所述的湿制程除静电装置，其特征在于，所述湿制程除静电装置还包括一第一挡门板和一第二挡门板，所述第一挡门板设置于所述缓冲区间的入口处并用于封闭或者打开所述缓冲区间的入口，所述第二挡门板设置于所述缓冲区间的出口处并用于封闭或者打开所述缓冲区间的出口。4.如权利要求3所述的湿制程除静电装置，其特征在于，所述湿制程除静电装置还包括一排气机构，所述排气机构设置于所述缓冲区间内并用于排除所述缓冲区内的气体。5.如权利要求4所述的湿制程除静电装置，其特征在于，所述湿制程除静电装置还包括一控制机构，所述控制机构分别与所述气体送入机构、离子除静电机构、排气机构、第一挡门板以及第二挡门板信号连接，并用于控制所述气体送入机构、离子...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭建龙，金子善雄，
申请(专利权)人：昆山国显光电有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32