一种金属涂覆工艺制造技术

技术编号:16811230 阅读:47 留言:0更新日期:2017-12-16 07:03
一种在基底表面上涂覆金属的方法,所述方法包括在基底表面上涂覆溶剂、可聚合单体和光敏引发剂的混合物,其中光敏引发剂不与单体和溶剂一起形成两相,即形成没有任何结晶的非晶混合物。单体可聚合成包括至少一个羧基的聚合物。然后,蒸发掉溶剂。通过照射涂覆的干燥的混合物引发聚合反应。涂覆离子并将其还原至金属,其后,进一步可以将金属沉积。该方法可以用于工业化过程,2D和3D表面均可用金属涂覆。对标准接枝化学物质和/或含卤原子的聚合物感光的材料可被涂覆。

【技术实现步骤摘要】
一种金属涂覆工艺本申请是以下申请的分案申请:申请日:2013年05月07日;申请号:201380023532.0;专利技术名称“一种金属涂覆工艺”。
本专利技术主要涉及一种在基底表面上涂覆金属的方法。
技术介绍
现有技术中描述了很多不同的在基底表面上涂覆金属的方法。WO98/34446公开了一种在有机基底上以不同图案形式涂覆导电材料的方法,根据所述的不同图案对表面层进行化学修饰以获得不同粘合区域,然后将导电材料涂覆到这些区域。WO2007/116056公开了一种在基底上涂覆金属的方法,包括:a)在基底表面上制备聚合物,其中所述聚合物包括羧基和至少一种其他金属的吸附离子;b)将离子还原至第二金属;c)将第一金属沉积在被还原的离子上。等离子处理作为最初的步骤和清理步骤被提及,作为最初的步骤是为了提高后续涂覆到表面的溶液的湿度。WO2007/116057公开了上述工艺应用于纸。目前,一个大问题就是全加成工艺处理方面的工业化和生产中的产率。目前也使用湿化学接枝方法,但当考虑操作和鲁棒性时,这在生产线中出现问题。没有方法满足如下需求:工艺中的局部操作,鲁棒性。产率和线速度。在不同聚合物表面上的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种在基底表面上涂覆第一金属的方法,所述方法包括如下步骤:a)提供包括至少一种溶剂、至少一种可聚合单体和至少一种光敏引发剂的混合物,其中所述至少一种光敏引发剂、所述至少一种可聚合单体和所述至少一种溶剂形成没有任何结晶的非晶混合物,其中所述至少一种可聚合单体能聚合成包括至少一个羧基的聚合物,并且其中所述至少一种可聚合单体在所述混合物中是单体形式;b)将所述混合物至少部分地涂覆在所述基底表面上,所述基底表面包括共价结合的氢原子;c)蒸发掉所述至少一种溶剂的至少一部分;d)通过用与所述至少一种光敏引发剂相适应波长的光照射使所述至少一种光敏引发剂活化,以致所述至少一种光敏引发剂分解为至少一种自由基,以...

【技术特征摘要】
2012.05.07 SE 1250464-3;2012.05.07 US 61/643,3821.一种在基底表面上涂覆第一金属的方法,所述方法包括如下步骤:a)提供包括至少一种溶剂、至少一种可聚合单体和至少一种光敏引发剂的混合物,其中所述至少一种光敏引发剂、所述至少一种可聚合单体和所述至少一种溶剂形成没有任何结晶的非晶混合物,其中所述至少一种可聚合单体能聚合成包括至少一个羧基的聚合物,并且其中所述至少一种可聚合单体在所述混合物中是单体形式;b)将所述混合物至少部分地涂覆在所述基底表面上,所述基底表面包括共价结合的氢原子;c)蒸发掉所述至少一种溶剂的至少一部分;d)通过用与所述至少一种光敏引发剂相适应波长的光照射使所述至少一种光敏引发剂活化,以致所述至少一种光敏引发剂分解为至少一种自由基,以致所述至少一种自由基在所述至少一种可聚合单体间引发聚合反应并在所述基底表面上的所述共价结合的氢原子和所述至少一种可聚合单体的一部分之间诱导反应,以在所述基底表面上获得聚合物,其中,所述聚合物包括至少一个羧基,并且其中形成的所述聚合物的至少一部分共价结合到所述表面上;e)涂覆选自包括至少一种第二金属的离子和含有至少一种第二金属的纳米粒子的组中的至少一种,其中,所述纳米粒子具有1~100nm范围的平均直径;f)如果已经涂覆至少一种第二金属的离子,至少部分地将所述至少一种第二金属的离子还原为金属;g)将第一金属沉积在选自包括所述至少一种第二金属的还原离子和含有至少一种第二金属的纳米粒子的组中的至少一种上。2.一种如权利要求1所述的方法,其中所述至少一种溶剂在步骤c)中被蒸发掉按重量计大于80%。3.一种如权利要求1或2所述的方法,其中所述至少一种溶剂为选自包括甲醇、乙醇、丙酮、乙醋乙酯和乙二醇的组中的至少一种溶剂。4.一种如权利要求1-3中任一权利要求所述的方法,其中所述至少一种可聚合单体为选自包括甲基丙烯酸、丙烯酸和马来酸的组中...

【专利技术属性】
技术研发人员:思文·歌德比约恩·阿特霍夫
申请(专利权)人:凯普卓尼克技术公司
类型:发明
国别省市:塞浦路斯,CY

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