用于对光学物品进行反射镜涂覆的方法技术

技术编号:16110732 阅读:30 留言:0更新日期:2017-08-30 04:11
提供了一种用于制造光学物品的方法和系统。该方法可以包括:提供具有表面的至少一个眼科镜片基材;向该眼科镜片基材的至少一部分施加至少一个导电涂层;并且对该眼科镜片基材进行电镀以形成镀层,该镀层与该光学物品的导电涂层处于接触关系。还可以施加其他层。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于对光学物品进行反射镜涂覆的方法相关申请的交叉引用本申请要求于2014年12月31日提交的美国临时申请号62/098,966的权益和优先权,该申请的披露内容通过援引以其全文并入本文。背景
本披露总体上涉及一种用于对光学物品进行反射镜涂覆的方法。更具体地,除其他特征之外,本披露涉及一种用于对眼科镜片进行电镀的方法。
技术介绍
真空蒸发涂覆是常用于在眼科镜片上生产反射镜涂层的工艺。在这个工艺的过程中,在高真空室内,将电子束聚焦到光学澄清的材料例如硅、锆和钛的氧化物上。这些材料蒸发并且接着粘附至悬挂在涂覆室内的支架上的镜片表面上。该涂覆工艺要求使用包括超声波清洗机的多步骤过程将镜片进行细致清洗、并进行热干燥以便从这些镜片上去除任何水分。也可以使用其他昂贵的材料。并且,涂覆室大、昂贵且复杂。这种工艺可能是不利的,因为它要求使用真空室并且使用大量昂贵材料,例如金和银。这些要求导致要使用珍贵的资源和设备。并且,在使用物理气相沉积(PVD)的标准电镀工艺中,对被涂覆物的控制可能极少。需要一种解决了这些问题的用于对镜片进行反射镜涂覆的替代性方法。本文提出了一种对镜片进行电镀的方法,该方法不要求使用真空室并且使用较少量的昂贵材料。电镀是使用电流来还原溶解的金属阳离子以使其在电极上形成相干金属涂层的工艺。类似的工艺被称为电沉积或脉冲电镀。有待镀覆的部件典型地是电路的阴极。在一种技术中,阳极可以由有待镀覆在部件上的金属制成。将这两个部件浸入含有一种或多种溶解的金属盐以及准许电流流动的其他离子的溶液中。电源向阳极提供直流电,从而氧化构成该阳极的金属原子并且允许它们溶解在该溶液中。在阴极处,电解质溶液中的溶解的金属离子在溶液与阴极之间的界面处被还原,使得它们“镀出”到阴极上。在电流流经电路时,阳极被溶解的速率等于阴极被镀覆的速率。以此方式,电解质浴中的离子连续地被阳极补充。其他电镀工艺可以使用非消耗性阳极,例如,铅或碳。在这些技术中,有待镀覆的金属的离子必须在浴中被周期性地补充,因为它们从该溶液中被取出。本文所提出的电镀工艺是针对眼科镜片反射镜涂层定制的并且允许选择性地涂覆镜片基材,因此不存在材料浪费。本文所提出的工艺还允许使用较不复杂和较不昂贵的设备、并且使用较少的昂贵材料。这种工艺可以用于任何类型的眼科镜片。本专利技术的其他目的、特征和优点将从下面的详细描述中变得明显。然而,应该理解详细描述和特定实例,虽然说明本专利技术的特定实施例,但仅是通过举例给出,因为根据这种详细描述,在本专利技术的精神和范围内的各种变化和修改对于本领域技术人员将变得明显。
技术实现思路
在一方面,提供了一种用于制造光学物品的方法,其中,该方法包括:提供具有表面的至少一个眼科镜片基材;向该眼科镜片基材的至少一部分施加至少一个导电涂层;并且对该眼科镜片基材进行电镀以形成镀层,该镀层与该光学物品的导电涂层处于接触关系。该方法在施加该第一导电涂层之后还可以包括以下步骤中的一个或多个步骤:将该镜片基材除油;预蚀刻该镜片基材;蚀刻该镜片基材;漂洗该镜片基材;以及施加SiO2层。该方法还可以包括:在施加该至少一个导电涂层之后施加第二SiO2层以便提供与随后层的改善的粘附性。随后层可以包括以下各项中的至少一项:防雾涂层、防污涂层、和基于特氟隆的涂层。在一方面,提供了一种眼科物品,该眼科物品包括:具有表面的眼科镜片基材;在该光学基材的至少一部分上形成的第一导电层;以及第二镀层,该第二镀层形成在该基材上,使该第二镀层与该第一层具有接触关系,其中该第二镀层通过下组中的至少一项来沉积,该组包括:电镀、无电沉积、脉冲电镀、以及刷涂。该第一导电层可以是透光的。该第二镀层可以是透光的。该第一导电层可以包括至少一种过渡金属或后过渡金属。该第一导电层可以包括下组中的任一项,该组包括:铟锡氧化物(ITO)、钛、铬、铁、镍、铜、锌、铑、钯、银、钽、钨、铂、金、铝、镓、铟、锡、铊、铅、铋、及其组合。该第一导电涂层和该镀层可以包括反射镜涂层。该第一导电层可以直接在该光学基材的至少一部分上形成。在一方面,提供了一种眼科物品,该眼科物品包括:具有表面的眼科镜片基材;被施加在该眼科镜片的该表面上的SiO2层;在该SiO2层上形成的第一导电层;以及第二镀层,该第二镀层形成在该第一导电层上,使得该第二镀层与该第一导电层具有接触关系,其中该第二镀层通过下组中的至少一项来沉积,该组包括:电镀、无电沉积、脉冲电镀、以及刷涂。在一方面,提供了一种用于对眼科镜片基材进行电镀的系统,其中,该系统包括:包括至少一种电镀溶液的浸渍浴;至少一个眼科镜片基材,其中该基材被浸渍在该浸渍浴中;被配置成至少部分地浸入该浸渍浴之中的阴极;以及被配置成至少部分地浸入该浸渍浴之中并且可操作地连接至该镜片基材上的阳极。附图说明在考虑到现将结合附图详细描述的说明性实施例时,如在此所述的优点、性质和各种额外的特征将更加充分地显现。在附图中,贯穿这些视图类似的参考标号表示类似的部件。图1展示了根据本披露原理配置的电镀系统。图2展示了用于对镜片进行电镀的过程,其步骤是根据本披露原理执行的。图3A示出了根据本披露原理配置的镜片基材以及不同层的实例。图3B示出了根据本披露原理配置的具有不同层、但是没有镀层的镜片基材的实例。图3C示出了根据本披露原理配置的具有不同层的镜片基材、但是在该镜片基材上没有SiO2层的实例。具体实施方式除了在本披露中明确地和清楚地定义的范围之外或除非特定背景另外要求不同的含义,否则在此使用的词语或术语具有其在本披露的领域中的普通、平常的含义。如果在本披露和可以通过引用结合的一个或多个专利或其他文件中的词语或术语的使用上存在任何冲突,则应采用与本说明书一致的定义。不定冠词“一个(种)(a/an)”意指一个(种)或多于一个(种)的该冠词所引入的组分、零件或步骤。每当披露具有下限和上限的程度或测量的数值范围时,还旨在具体地披露落入该范围内的任何数字和任何范围。例如,每一值范围(呈“从a至b”、或“从约a至约b”、或“从约a至b”、“从大约a至b”以及任何类似表述的形式,其中“a”和“b”表示程度或测量的数值)应被理解为阐明涵盖于更广泛的值范围内并且包括值“a”和“b”本身的每一个数字和范围。术语如“第一”、“第二”、“第三”等可以被任意指定并且仅旨在区分以其他方式在性质、结构、功能或作用方面类似或对应的两个或更多个组分、零件或步骤。例如,词语“第一”和“第二”不用于其他目的并且不是以下名称或描述性术语的名称或描述的一部分。仅仅使用术语“第一”不要求存在任何“第二”类似的或对应的组分、零件或步骤。类似地,仅仅使用词语“第二”不要求存在任何“第一”或“第三”类似的或对应的组分、零件或步骤。此外,应理解仅仅使用术语“第一”不要求元素或步骤是任何顺序中的正好第一个,而是仅仅要求它是这些元素或步骤中的至少一个。类似地,仅仅使用术语“第一”和“第二”不一定要求任何顺序。因此,仅仅使用这类术语不排除在“第一”与“第二”元素或步骤之间的中间元素或步骤等等。本文中,术语“镜片”指有机或无机玻璃镜片,优选地有机镜片,该镜片包括具有一个或多个表面的镜片基底(可以涂覆有一个或多个具有不同性质的涂层)。如在此使用的,“镜片毛坯”指具有已知基础曲线的透明本文档来自技高网
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用于对光学物品进行反射镜涂覆的方法

【技术保护点】
一种用于制造光学物品的方法,其中,该方法包括:提供具有表面的至少一个眼科镜片基材;向该眼科镜片基材的至少一部分施加至少一个导电涂层;并且对该眼科镜片基材进行电镀以形成镀层,该镀层与该光学物品的导电涂层处于接触关系。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.12.31 US 62/098,9661.一种用于制造光学物品的方法,其中,该方法包括:提供具有表面的至少一个眼科镜片基材;向该眼科镜片基材的至少一部分施加至少一个导电涂层;并且对该眼科镜片基材进行电镀以形成镀层,该镀层与该光学物品的导电涂层处于接触关系。2.如权利要求1所述的方法,其中,通过下组中的任一项来将该导电涂层施加到该眼科镜片基材的表面上,该组包括:物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)、溅射、浸涂、旋涂、和吸涨。3.如权利要求1所述的方法,其中,该方法还包括将该至少一个眼科镜片基材浸入浸渍浴中。4.如权利要求1所述的方法,其中,该至少一个眼科镜片基材用作阴极。5.如权利要求1所述的方法,其中,该至少一个眼科镜片基材用作阳极。6.如权利要求1所述的方法,其中,该电镀方法选自下组的方法中的至少一项,该组包括:无电沉积、脉冲电镀、以及刷涂沉积。7.如权利要求1所述的方法,其中,该方法在施加该至少一个导电涂层之前还包括以下步骤中的一个或多个步骤:将该镜片基材除油;预蚀刻该镜片基材;蚀刻该镜片基材;漂洗该镜片基材;以及施加SiO2层。8.如权利要求1所述的方法,其中,该方法在施加该导电涂层之后还包括以下步骤中的一个或多个步骤:...

【专利技术属性】
技术研发人员:W·伊格顿
申请(专利权)人:埃西勒国际通用光学公司
类型:发明
国别省市:法国,FR

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