一种触控屏及电子设备制造技术

本实用新型专利技术涉及触控技术领域，特别涉及一种触控屏及电子设备，触控屏包括显示模组、光学胶层及触控模组，显示模组与触控模组之间通过光学胶层贴合，触控模组包括依次设置的基体、感应层及消影层，光学胶层位于消影层远离感应层一侧，且消影层和光学胶层之间设置一屏蔽层，以阻隔消影层受外界紫外光线激发产生的游离电子进入光学胶层。触控屏及电子设备具有触控功能稳定，且寿命长的优点。

【技术实现步骤摘要】
一种触控屏及电子设备
本技术涉及触控
，特别涉及一种触控屏及电子设备。
技术介绍
触控技术已经被广泛使用，目前大部分的触控屏采用OGS(oneglasssolution，一体化触控)、TOL(touchonlens，覆盖层触摸)式的触控屏，由于触控屏中的感应层的图形区和非图形区存在反射率差异较大，会导致图形区可视。人们通常采用设置消影层来降低图形区的可视性，该消影层通常由金属化合物组成。而采用了该消影层的触控屏在被太阳光照射后，太阳光中紫外光线入射触控屏，紫外光线激发消影层中金属化合物发生光化学反应，从而产生游离电子，该游离电子存在于消影层附近并很难散开，因此易出现触控屏的区域性或者整体电容值偏高、电路短路、触控功能失效等问题。
技术实现思路
为克服现有触控屏之诸多缺陷，本技术提供了一种触控功能稳定的触控屏及电子设备。本技术解决技术问题的方案是提供一种触控屏，所述触控屏包括显示模组、光学胶层及触控模组，所述显示模组与触控模组之间通过光学胶层贴合，所述触控模组包括依次设置的基体、感应层及消影层，所述光学胶层位于所述消影层远离感应层一侧，且所述消影层和所述光学胶层之间设置一屏蔽层，以阻隔所述消影层受外界紫外光线激发产生的游离电子进入所述光学胶层。优选地，所述屏蔽层的折射率大于等于1.5。优选地，所述屏蔽层的厚度为20nm－100nm。优选地，所述消影层包括第一匹配层和第二匹配层，所述第一匹配层为金属化合物层，所述第二匹配层为二氧化硅层，所述第一匹配层位于所述第二匹配层与所述屏蔽层之间。优选地，所述消影层还包括一第三匹配层，所述第三匹配层位于所述第一匹配层远离所述第二匹配层的一面，所述第三匹配层也为二氧化硅层优选地，所述屏蔽层至少包覆所述第一匹配层的侧面。优选地，所述屏蔽层的折射率大于所述第三匹配层。优选地，所述触控屏还包括一抗紫外层，所述抗紫外层位于所述基体远离所述感应层的一侧或者所述抗紫外层位于所述基体与所述感应层之间。优选地，所述抗紫外层为无机膜层、有机膜层或透明金属层。本技术还提供一种电子设备，其包括外壳和嵌入在该外壳中的上述触控屏。与现有技术相比，本技术提供的触控模组具有以下优点：为了解决现有触控屏中感应层的可视性问题，在触控屏中设置消影层来降低可视性，进一步设置屏蔽层可有效的阻隔紫外光线激发消影层产生的游离电子，避免游离电子对触控屏的干扰，从而保证触控模组触控功能的稳定性，并有效延长触控屏的使用寿命。与现有技术相比，本技术提供的电子设备均采用了上述触控屏，电子设备具有触控功能稳定，使用寿命较长的优点。【附图说明】图1是本技术第一实施例中触控屏的层结构示意图。图2是本技术第一实施例中触控屏的感应层的平面示意图。图3A是本技术第二实施例中触控屏的层结构示意图。图3B是图3A中C处的放大示意图。图4是图3B的变形实施例示意图。图5是本技术第三实施例中触控屏的层结构示意图。图6是本技术第四实施例中触控屏的层结构示意图。图7是本技术第四实施例的第一变形实施例示意图。图8是本技术第四实施例的第二变形实施例示意图。图9是本技术第五实施例中触控屏的层结构示意图。图10是本技术第六实施例中电子设备的层结构示意图。【具体实施方式】为了使本技术的目的，技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施实例，对本技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。请参阅图1，本技术的第一实施例提供一种可以应用于电子设备的触控屏1，其可应用但不限于智能手机、平板电脑、媒体播放器等。触控屏1包括显示模组30、光学胶层20及触控模组10，显示模组30用于显影成像，触控模组10用于提供触控感应功能。触控模组10包括依次设置的基体11、感应层12、消影层13及屏蔽层14，消影层13旨在降低感应层12的可视问题，光学胶层30位于屏蔽层14远离消影层13的一侧，以通过屏蔽层14阻隔消影层13受外界紫外光线激发产生的游离电子进入光学胶层30，因此游离电子不会游离在消影层13和光学胶层30之间，避免了消影层13和光学胶层30之间产生电性接触的干扰，该干扰具体可为导致触控屏1的电容值偏高，电路短路或触控失效等问题。故，本技术所提供的触控屏1具有触控功能稳定，使用寿命长的优点。请一并参阅图2，感应层12包括图形区121和非图形区122，由于图形区121与非图形区122之间存在光线反射率差值较大，因此导致图形区121可视，因此通过设置消影层13以降低图形区121和非图形区122的反射率差值，从而降低图形区13的可视性。基体11为玻璃、塑胶、蓝宝石或聚酯薄膜以起到承载作用，为了达到整体结构的强度，优选基体11为玻璃。消影层13的材料选择需综合考虑可见光范围内材料的透过率、消光系数、折射率、稳定性等因素，消影层的材料可选用但不限于：二氧化钛、五氧化二铌、氧化铌、三氧化二铌、二氧化硅、氟化镁、氮化铝、三氧化二铝、硫化锌、氟化钡、五氧化二钽中的一种或者几种的组合，通过对消影层13材料的选择以及对其厚度进行调节，以获得与感应层12折射率匹配的消影层13，从而使感应层12上图形区121和非图形区122的反射率非常相近，以降低图形区121的可视。请参阅图3A及图3B，本技术中触控屏的第二实施例中，消影层13包括两个匹配层，即第一匹配层131和第二匹配层132，其中第一匹配层131为金属化合物层，其材料选用五氧化二铌、氧化铌或者三氧化二铌中的一种或者几种的组合，第一匹配层131具有较高的折射率，光学波导损耗小，紫外吸收能力强，第一匹配层131的厚度介于4nm－50nm之间，折射率介于2.2－2.8之间。第二匹配层132为二氧化硅层，其材料选用二氧化硅，第二匹配层132具有优良的光学特性，且抗腐蚀性，耐磨擦性优良，第二匹配层132的厚度介于10－100nm之间，折射率介于1.4－1.8之间。第一匹配层131和第二匹配层132的折射率相匹配以实现降低图形区的可视。由于太阳光照射触控屏1时，太阳光中紫外光线引起消影层13中五氧化二铌、氧化铌或者三氧化二铌发生光化学反应，在第一匹配层131附近出现游离电子。由于屏蔽层14位于第一匹配层131远离第二匹配层132的一面，因此屏蔽层14可以阻隔游离电子进入光学胶层20，避免游离电子对触控屏1的干扰，从而保证触控屏1触控功能的稳定性。屏蔽层14为致密的二氧化硅层。由于二氧化硅层可通过其折射率反应其致密程度，因此定义致密的二氧化硅层为其折射率大于等于1.5。由于第二匹配层132与屏蔽层14尽管均为二氧化硅层，但第二匹配层132的作用仅为了匹配第一匹配层131及感应层12以获得较优的折射率值，从而实现感应层12图形区的不可视。而屏蔽层14的作用为隔绝由紫外光线激发第一匹配层131产生的游离电子，从而避免触控屏1受到游离电子的干扰。另外，第二匹配层132和屏蔽层14的厚度、致密程度等均不一致。屏蔽层14的厚度太厚不利于触控屏1的轻薄化发展趋势，而且会使光透过性降低，而屏蔽层14厚度太薄，则不利于充分的阻隔游离电子，因此，优选屏蔽层14的厚度为20nm－100nm。请参阅图本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种触控屏，所述触控屏包括显示模组、光学胶层及触控模组，所述显示模组与触控模组之间通过光学胶层贴合，其特征在于：所述触控模组包括依次设置的基体、感应层及消影层，所述光学胶层位于所述消影层远离感应层一侧，且所述消影层和所述光学胶层之间设置一屏蔽层，以阻隔所述消影层受外界紫外光线激发产生的游离电子进入所述光学胶层。

【技术特征摘要】
1.一种触控屏，所述触控屏包括显示模组、光学胶层及触控模组，所述显示模组与触控模组之间通过光学胶层贴合，其特征在于：所述触控模组包括依次设置的基体、感应层及消影层，所述光学胶层位于所述消影层远离感应层一侧，且所述消影层和所述光学胶层之间设置一屏蔽层，以阻隔所述消影层受外界紫外光线激发产生的游离电子进入所述光学胶层。2.如权利要求1所述的触控屏，其特征在于：所述屏蔽层的折射率大于等于1.5。3.如权利要求2所述的触控屏，其特征在于：所述屏蔽层的厚度为20nm－100nm。4.如权利要求1所述的触控屏，其特征在于：所述消影层包括第一匹配层和第二匹配层，所述第一匹配层为金属化合物层，所述第二匹配层为二氧化硅层，所述第一匹配层位于所述第二匹配层与所述屏蔽层之间。5.如权...

【专利技术属性】
技术研发人员：熊俊，何加友，连少芳，
申请(专利权)人：宸鸿科技平潭有限公司，
类型：新型
国别省市：福建,35