双重固化纳米结构转印膜制造技术

本发明专利技术公开了一种转印膜，所述转印膜包括具有第一主表面和相对的第二主表面的模板层。所述第二主表面包括结构化的不平坦剥离表面。将回填层置于所述不平坦结构化表面上并适形于所述不平坦结构化表面。所述回填层包含第一交联聚合物和多种多官能单体，它们经由不同且独立的固化机制进行固化。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】双重固化纳米结构转印膜
技术介绍
玻璃基板上的纳米结构和微观结构用于例如显示、照明、建筑和光伏装置中的多种应用。在显示装置，结构可用于光提取或光分布。在照明装置中，结构可用于光提取、光分布和装饰效果。在光伏装置中，结构可用于太阳能聚集和抗反射。在大的玻璃基板上图案化或换句话讲形成纳米结构和微观结构可能困难且成本效益不高。已经公开了在纳米结构化牺牲模板层中使用结构化回填层作为光刻蚀刻掩模的叠层转印方法。回填层可为玻璃样材料。然而，这些方法需要将牺牲模板层从回填层去除，同时基本上完整地保留回填层的结构化表面。牺牲模板层通常通过利用氧等离子体的干蚀刻方法、热分解方法、或溶解方法去除。
技术实现思路
本公开涉及双重固化结构化转印膜。结构化转印膜进行部分固化以形成稳定的粘性膜。将这种粘性膜层合到受体基板上并完全固化以赋予受体基板稳定的纳米结构和/或微观结构。通过固化第一多官能单体或第二多官能单体中的一个来形成结构化转印膜。将结构化转印膜层合至受体基板并且随后固化其它多官能单体以形成互穿网络。第一多官能单体用自由基或阳离子固化机制中的一者进行固化，并且第二多官能单体用自由基或阳离子固化机制中的一者进行固化本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种转印膜，包括：模板层，所述模板层具有第一主表面和相对的第二主表面，所述第二主表面包括结构化不平坦剥离表面；回填层，所述回填层置于所述不平坦结构化表面上并适形于所述不平坦结构化表面，所述回填层包含：交联环氧聚合物；和多种多官能丙烯酸酯单体。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.03.31 US 14/674,8191.一种转印膜，包括：模板层，所述模板层具有第一主表面和相对的第二主表面，所述第二主表面包括结构化不平坦剥离表面；回填层，所述回填层置于所述不平坦结构化表面上并适形于所述不平坦结构化表面，所述回填层包含：交联环氧聚合物；和多种多官能丙烯酸酯单体。2.根据权利要求1所述的转印膜，其中所述交联环氧聚合物和所述多官能丙烯酸酯单体具有不同且独立的固化机制，并且所述回填层包含阳离子引发剂和自由基引发剂。3.根据权利要求1所述的转印膜，其中所述回填层包含具有丙烯酸酯和环氧官能团的分子。4.根据权利要求1所述的转印膜，其中所述转印膜具有小于25摄氏度的玻璃化转变温度值。5.根据权利要求1所述的转印膜，其中所述交联环氧聚合物包含脂环族多官能环氧基团。6.根据权利要求1所述的转印膜，其中所述多官能丙烯酸酯单体包含脂环族多官能丙烯酸酯基团。7.根据权利要求1所述的转印膜，其中所述交联环氧聚合物具有经由阳离子机制可固化的环氧部分，并且所述多官能丙烯酸酯单体经由自由基机制可固化。8.根据权利要求1所述的转印膜，还包括置于所述回填层的平坦主表面上的剥离衬件，其中所述回填层在所述剥离衬件和所述结构化不平坦剥离表面之间。9.一种转印膜，包括：模板层，所述模板层具有第一主表面和相对的第二主表面，所述第二主表面包括结构化不平坦剥离表面；回填层，所述回填层置于所述不平坦结构化表面上并适形于所述不平坦结构化表面，所述回填层包含：交联丙烯酸酯聚合物；多种多官能环氧化物单体。10.根据权利要求9所述的转印膜，其中所述交联丙烯酸酯聚合物和所述多官能环氧化物单体具有不同且独立的固化机制，并且所述回填层包含阳离子引发剂和自由基引发剂。11.根据权利要求9所述的转印膜，其中所述回填层包含具有丙烯酸酯和环氧官能团的分子。12.根据权利要求9所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：埃文·L·施瓦茨，克拉里·哈特曼汤普森，成湜婧，尼古拉斯·C·埃里克森，
申请(专利权)人：三M创新有限公司，
类型：发明
国别省市：美国,US