电子产品类护盖用清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种电子产品类护盖用清洗装置，该装置包括：第一清洗槽、第二清洗槽、第三清洗槽、絮凝池、过滤池和消毒池，第一清洗槽和第二清洗槽底部均设置有右斜式凹凸面，第二清洗槽内设置有进气管，第三清洗槽内设置有右斜面和通过升降装置设置在右斜面上的清洗篮，第一清洗槽、第二清洗槽、第三清洗槽右侧底部分别通过出水管道、水泵连通至絮凝池顶部，絮凝池右下侧设置有管道与过滤池底部连通，过滤池顶部设置有管道与消毒池顶部连通，消毒池底部通过进水管道、水泵分别连通至第一清洗槽、第二清洗槽、第三清洗槽，所述进水管道上设置有外进水管。本实用新型专利技术的结构设计较为合理，方便实用，适宜进一步推广应用。

【技术实现步骤摘要】
电子产品类护盖用清洗装置
本技术涉及清洗装置的结构设计
，更具体地说，涉及一种电子产品类护盖用清洗装置。
技术介绍
现代社会的电子产品均设置有护盖，比如在手机外壳生产过程中，水洗工序是整个手机外壳生产过程的重要环节，也是大量消耗水的工艺过程，一般包括一次水洗、二次水洗和三次水洗，以确保产品质量。目前的做法一般是通过单个清洗水池独立工作，一旦清洗水池里的清水浑浊后，为不影响产品质量，就直接排掉。由于清洗水池的容量具有几立方到十几立方之大，水资源浪费较大，容易增加企业生产成本。针对以上问题，开发一种结构设计合理，方便实用的电子产品类护盖用清洗装置是本领域技术人员要解决的技术问题。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是：为克服上述
技术介绍
中提到的技术问题，现提供一种结构设计合理，方便实用的电子产品类护盖用清洗装置。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是：一种电子产品类护盖用清洗装置，该装置包括：第一清洗槽、第二清洗槽、第三清洗槽、絮凝池、过滤池和消毒池，第一清洗槽和第二清洗槽底部均设置有右斜式凹凸面，第一清洗槽内壁设置有超声波发生器，第二清洗槽内设置有进气管，第三清洗槽内设置有右斜面和通过升降装置设置在右斜面上的清洗篮，所述进气管上设置有与轴向垂直的豁口，清洗篮内底面设置有凹凸面；第一清洗槽、第二清洗槽、第三清洗槽右侧底部分别通过出水管道、水泵连通至絮凝池顶部，絮凝池右下侧设置有管道与过滤池底部连通，过滤池顶部设置有管道与消毒池顶部连通，消毒池底部通过进水管道、水泵分别连通至第一清洗槽、第二清洗槽、第三清洗槽，所述进水管道上设置有外进水管。进一步，上述技术方案中所述絮凝池底部为漏斗式结构的沉淀部，沉淀部底设置有排污口，絮凝池内设置有搅拌装置；过滤池内设置有由下而上密度数值逐渐增大的五层过滤填料层；消毒池中部设置有消毒用紫外灯。有益效果：与现有技术相比，本技术的电子产品类护盖用清洗装置的结构设计较为合理，右斜式凹凸面的设置可方便护盖或手机壳的取出，避免护盖或手机壳与槽底贴合；进气管和升降装置上的清洗篮的设置均可有效去除经第一清洗槽超声后振动下来的污垢；絮凝池、过滤池、消毒池的设置可方便对槽体内的废水的回收利用；外进水管的设置可方便实时往槽体中添加清洗用水，可有效减少水资源浪费情况，降低企业生产成本，方便实用，适宜进一步推广应用。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图做简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他附图。图1是本技术的结构示意图；图中，1.第一清洗槽，10.右斜式凹凸面，11.超声波发生器，2.第二清洗槽，21.进气管，22.豁口，3.第三清洗槽，31.右斜面，32.升降装置，33.清洗篮，4.絮凝池，41.进水管道，42.出水管道，43.外进水管，44.沉淀部，45.搅拌装置，5.过滤池，51.过滤填料层，6.消毒池,61.紫外灯。具体实施方式下面结合附图和实施例对本技术进一步说明，下面所示的实施例不对权利要求所记载的
技术实现思路
起任何限定作用，并且，下面实施例所表示的构成的全部内容不限于作为权利要求所记载的技术的解决方案所必须的。实施例一如附图所示的一种手机壳用清洗装置，该装置包括：第一清洗槽1、第二清洗槽2、第三清洗槽3、絮凝池4、过滤池5和消毒池6，第一清洗槽1和第二清洗槽2底部均设置有右斜式凹凸面10，第一清洗槽1内壁设置有超声波发生器11，第二清洗槽2内设置有进气管21，第三清洗槽3内设置有右斜面31和通过升降装置32设置在右斜面31上的清洗篮33，所述进气管21上设置有与轴向垂直的豁口22，清洗篮33内底面设置有凹凸面；第一清洗槽1、第二清洗槽2、第三清洗槽3右侧底部分别通过出水管道42、水泵连通至絮凝池4顶部，絮凝池4右下侧设置有管道与过滤池5底部连通，过滤池5顶部设置有管道与消毒池6顶部连通，消毒池6底部通过进水管道41、水泵分别连通至第一清洗槽1、第二清洗槽2、第三清洗槽3，所述进水管道41上设置有外进水管43。进一步，所述絮凝池4底部为漏斗式结构的沉淀部44，沉淀部44底设置有排污口，絮凝池4内设置有搅拌装置45；过滤池5内设置有由下而上密度数值逐渐增大的五层过滤填料层51；消毒池6中部设置有消毒用紫外灯61。对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本技术。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本技术的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本技术将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电子产品类护盖用清洗装置，其特征是：该装置包括：第一清洗槽、第二清洗槽、第三清洗槽、絮凝池、过滤池和消毒池，第一清洗槽和第二清洗槽底部均设置有右斜式凹凸面，第一清洗槽内壁设置有超声波发生器，第二清洗槽内设置有进气管，第三清洗槽内设置有右斜面和通过升降装置设置在右斜面上的清洗篮，所述进气管上设置有与轴向垂直的豁口，清洗篮内底面设置有凹凸面；第一清洗槽、第二清洗槽、第三清洗槽右侧底部分别通过出水管道、水泵连通至絮凝池顶部，絮凝池右下侧设置有管道与过滤池底部连通，过滤池顶部设置有管道与消毒池顶部连通，消毒池底部通过进水管道、水泵分别连通至第一清洗槽、第二清洗槽、第三清洗槽，所述进水管道上设置有外进水管。

【技术特征摘要】
1.一种电子产品类护盖用清洗装置，其特征是：该装置包括：第一清洗槽、第二清洗槽、第三清洗槽、絮凝池、过滤池和消毒池，第一清洗槽和第二清洗槽底部均设置有右斜式凹凸面，第一清洗槽内壁设置有超声波发生器，第二清洗槽内设置有进气管，第三清洗槽内设置有右斜面和通过升降装置设置在右斜面上的清洗篮，所述进气管上设置有与轴向垂直的豁口，清洗篮内底面设置有凹凸面；第一清洗槽、第二清洗槽、第三清洗槽右侧底部分别通过出水管道、水泵连通至絮...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄滢芝，
申请(专利权)人：黄滢芝，
类型：新型
国别省市：江苏,32