The invention provides a system (60) for removing impurities from the combustion gas (19). The system (60) comprises an oxidizer (64) and a reductor (62) which can be operatively connected to the oxidizer (64), and the reductor (62) is configured to receive the post combustion gas (19). The system also includes a CLOU material (66) that can be selectively circulate between the oxidizer (64) and the reductor (62). The CLOU material (66) further oxidize the impurities in the gas (19) after combustion in order to reduce or remove the impurities.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于减少化学循环燃烧系统中的排放物的系统和方法相关申请的交叉引用本专利申请要求于2015年3月12日提交的美国临时申请序列号62/132,205的权益,所述美国临时申请在此以引用的方式全文并入。
本公开内容一般涉及去除来自燃烧气体的杂质,并且更具体地,涉及通过氧化燃烧气体的未燃烧或部分氧化的气体种类来减少化学循环燃烧(CLC)系统的排放物的系统。
技术介绍
CLC(chemicalloopingcombustion)系统利用高温过程,由此固体(例如基于钙或金属的化合物)例如在称为氧化器的第一反应器和称为还原器的第二反应器之间“成循环”。在氧化器中,来自注入空气的氧被氧化反应中的固体捕获。被捕获的氧然后由被氧化的固体运送到还原器,用于燃料例如煤的燃烧或气化。在还原器中的还原反应后,被反应的固体和潜在的一些未反应的固体返回氧化器以再次被氧化,并且重复循环。在燃料例如煤的燃烧中,产生产物气体。这种气体通常含有污染物例如二氧化碳(CO2)、二氧化硫(SO2)和三氧化硫(SO3)。将这些污染物排放到大气的环境影响已得到广泛认识,并且已导致了适合于从煤和其他燃料燃烧生成的气体中去除污染物的工艺的开发。用于从气体流中去除CO2的系统和方法包括其中产物气体与CO2吸收器接触的CO2捕获系统。如应了解的,期望封存或潜在地再使用在CO2捕获过程中去除的CO2。事实上,CO2可再用作其他工业应用(例如塑料的制造)的原料、用于原油强化回收过程中或潜在地转化成高价值的可销售产品。对于封存和再使用,被捕获的CO2需要具有足够的质量/纯度。然而,获得高纯度CO2可能是具有挑战性的,因为 ...
【技术保护点】
一种用于氧化燃烧后气体中的杂质的系统,所述系统包括:氧化器;可操作地连接到所述氧化器的还原器,所述还原器构造成接收所述燃烧后气体;能够在所述氧化器和还原器之间选择性循环的CLOU材料;和其中所述CLOU材料氧化所述燃烧后气体中存在的杂质,以去除所述杂质。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.03.12 US 62/132205;2016.03.04 US 15/0612201.一种用于氧化燃烧后气体中的杂质的系统,所述系统包括:氧化器;可操作地连接到所述氧化器的还原器,所述还原器构造成接收所述燃烧后气体;能够在所述氧化器和还原器之间选择性循环的CLOU材料;和其中所述CLOU材料氧化所述燃烧后气体中存在的杂质,以去除所述杂质。2.根据权利要求1所述的系统,其中,所述还原器接收来自化学循环系统的燃烧后气体。3.根据权利要求1所述的系统,其中,所述杂质是C、CO、CH4或H2S。4.根据权利要求1所述的系统,其中,所述CLOU材料是锰、铜或钴。5.根据权利要求1所述的系统,其中,所述CLOU材料是氧化锰。6.根据权利要求1所述的系统,其中,所述CLOU材料连同固体氧载体一起存在。7.根据权利要求1所述的系统,其中,所述还原器可操作地连接到碳捕获系统。8.根据权利要求7所述的系统,其中,所述碳捕获系统包括:脱硫器,气体冷凝器;和气体处理单元。9.一种化学循环系统,所述化学循环系统包括:主化学循环燃烧系统,其燃烧产生含有未燃烧/部分氧化杂质的所得气体的燃料;和用于氧化所述所得气体中的所述部分氧化杂质的燃烧后系统,所述燃烧后系统可操作地连接到所述主化学循环燃烧系统,所述燃烧后系统包括还原器和氧化器,其中CLOU材料在还原器和氧化器之间循环,所述还原器接收来自所述主化学循环燃烧系统的所得气体,以进一步氧化其中的所述未燃烧/部分氧化杂质。10.根据权利要求9所述的系统,其中,所述未燃烧/部分氧化杂质是C、CO、CH4、H2S。11.根据权利要求9所述的系统,其中,所述CLOU材料是锰、铜或钴。12.根据权利要求9所述的系统,其中,所述CLOU材料是氧化锰。13.根据权利要求9所述的系统,其中,所述CLOU材料连同固体氧载体一起存在。14.根据权利要求9所述的系统,所述系统...
【专利技术属性】
技术研发人员:I阿布杜拉利,SG姜,
申请(专利权)人:通用电器技术有限公司,
类型:发明
国别省市:瑞士,CH
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