一种镂空透明珐琅首饰的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种镂空透明珐琅首饰的制备方法，包括以下步骤：1)结构优化：制版时用筋线对镂空部位进行分割；2)珐琅釉料处理：在釉料中添加羧甲基纤维素调整浆料的粘度；3)安放假托：在直径小于5mm或宽度小于2.5mm的镂空位的底部贴上箔片；4)填珐琅釉料：将珐琅釉料均匀填充到镂空部位；5)烧制：填料后的珐琅首饰先在790～810℃下烧制60～100秒，再取出工件用已预热到500～600℃的硅酸铝纤维筒罩住，自然冷却；6)打磨处理：去除箔片假托，对珐琅首饰进行镶嵌、打磨、抛光、电镀。本发明专利技术的方法制作的镂空透明珐琅首饰上的珐琅层具有很好的透明度，气泡和杂质少，釉层稳定，不易开裂崩落，操作简便，生产效率高。

A preparation method of hollow transparent Enamel Jewelry

The invention discloses a method for preparing hollow transparent Enamel Jewelry, which comprises the following steps: 1) structure optimization: seihan with band line of the hollow part segmentation; 2) enamel glaze treatment: adding carboxymethyl cellulose in the glaze adjust slurry viscosity; 3) placed on the pretext of: in less than 5mm in diameter or width. Less than 2.5mm is attached to the bottom of the hollow position on the foil; 4) fill enamel glaze: enamel glaze evenly filled into the hollow part; 5) firing: packing after the Enamel Jewelry in 790 ~ 810 DEG C, firing 60 ~ 100 seconds, and then remove the workpiece with preheated to 500 to cover the 600 cylinder aluminum silicate fiber. C natural cooling; 6) grinding processing: remove foil on masquerade, Enamel Jewelry mosaic, grinding, polishing, electroplating. The enamel layer on the hollow transparent enamel jewelry made by the method has good diaphaneity, less air bubbles and impurities, stable glaze layer, hard cracking and caving, simple operation and high production efficiency.

【技术实现步骤摘要】
一种镂空透明珐琅首饰的制备方法
本专利技术涉及一种镂空透明珐琅首饰的制备方法。
技术介绍
珐琅又称佛郎、拂郎、发蓝，是由硅、铅丹、硼砂、长石、石英、金属氧化物等原料烧制而成，具有宝石般的独特光泽与透明感，且不透气、不渗水、不褪色、质地坚硬。珐琅有很多种类，依据透明度可以分为：透明珐琅、半透明珐琅和不透明珐琅，依据制作方法可以分为：内填珐琅、掐丝珐琅、画珐琅、镂空珐琅等。其中，无底托的镂空透明珐琅因为在施釉和烧制时没有支撑，珐琅成型的难度很大，特别是在比较大的工件中，当开设的镂空部分尺寸较大时，操作时很容易出现一边施釉一边掉落的情况，甚至一个轻微的抖动就会使前面的操作瞬间崩溃。目前，业界内烧制镂空透明珐琅主要有以下几种方法：1)在珐琅釉料中加入黄芪粉：该方法是在釉料浆中加入一定量的黄芪粉，用以增加釉料的粘度，在釉料颗粒之间产生粘滞力，使釉料浆填到镂空部位时有一定的向上张力，不会像单纯的釉料那样容易崩塌。然而，黄芪粉的粘性非常有限，必须添加大量的黄芪粉量才能获得足够的粘性，而烧制过程中，黄芪粉会产生大量气体，导致珐琅层包裹气泡，且釉层内部的黄芪粉会部分炭化，导致釉层中出现黑褐斑点，影响透亮度和外观效果；2)工件分段填釉烧制：该方法是将工件的珐琅分成几段烧制，每次选择部分镂空位填釉，烧制后再进行其他部位的填釉烧制，直到所有部位的釉层烧制完成，该方法可以减少填釉和托送入炉的过程中釉料的坍塌。然而，填好釉的部位与镂空未填釉部位需要同时入炉烧制，在高温下K金、银合金等首饰坯件容易氧化，使得未填釉部位必须先进行打磨才能填釉，分段越多，打磨次数越多，耗时耗料，且已经烧制好的釉层在反复打磨过程中易出现破损；3)同一个镂空部位分次填釉烧制：该方法是在同一个镂空部位，从易到难依次填釉，填完一部分先入炉烧制，然后再填其他部分并烧制，可以减少填釉和托送入炉的过程中釉料的坍塌。然而，烧制后金属边框会氧化变色，对于尚未填釉的部位，必须进行仔细打磨，否则分次填釉的珐琅层之间易产生色差，特别是在分次填釉的界面边缘易产生变色界限，且在同一个镂空部位，由于空间很有限，打磨的难度很大，容易伤及已烧制的釉层。因此，有必要开发一种高效、稳定的烧制镂空透明珐琅的方法。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种镂空透明珐琅首饰的制备方法。本专利技术所采取的技术方案是：一种镂空透明珐琅首饰的制备方法，包括以下步骤：1)结构优化：制版时用筋线对镂空部位进行分割；2)珐琅釉料处理：针对直径小于5mm或宽度小于2.5mm的镂空位，在釉料中添加羧甲基纤维素调整浆料的粘度；3)安放假托：依据烧制时珐琅首饰的放置方向，在直径超过5mm或宽度超过2.5mm的镂空位的底部贴上箔片；4)填珐琅釉料：将珐琅釉料均匀填充到镂空部位；5)烧制：填料后的珐琅首饰先在790～810℃下烧制60～100秒，再取出工件用已预热到500～600℃的硅酸铝纤维筒罩住，自然冷却；6)打磨处理：去除箔片假托，对珐琅首饰进行镶嵌、打磨、抛光、电镀，得到镂空透明珐琅首饰。步骤1)所述的筋线的厚度不小于0.4mm，镂空部位的边框宽度不小于0.8mm。步骤2)所述的羧甲基纤维素的质量占釉料质量的0.08％～0.12％。步骤2)所述的羧甲基纤维素的粘度为10000～15000mPa·s。步骤3)所述的箔片为纯金箔片或纯银箔片。所述的纯金箔片的厚度为0.05～0.1mm。所述的纯银箔片的厚度为0.05～0.1mm。本专利技术的有益效果是：本专利技术的方法制作的镂空透明珐琅首饰上的珐琅层具有很好的透明度，气泡和杂质少，釉层稳定，不易开裂崩落，操作简便，生产效率高。附图说明图1为实施例1的镂空透明珐琅胸针。图2为实施例2的镂空透明珐琅耳环。图3为实施例3的镂空透明珐琅吊坠。具体实施方式一种镂空透明珐琅首饰的制备方法，包括以下步骤：1)结构优化：制版时用筋线对镂空部位进行分割；2)珐琅釉料处理：针对直径小于5mm或宽度小于2.5mm的镂空位，在釉料中添加羧甲基纤维素调整浆料的粘度；3)安放假托：依据烧制时珐琅首饰的放置方向，在直径超过5mm或宽度超过2.5mm的镂空位的底部贴上箔片；4)填珐琅釉料：将珐琅釉料均匀填充到镂空部位；5)烧制：填料后的珐琅首饰先在790～810℃下烧制60～100秒，再取出工件用已预热到500～600℃的硅酸铝纤维筒罩住，自然冷却；6)打磨处理：去除箔片假托，对珐琅首饰进行镶嵌、打磨、抛光、电镀，得到镂空透明珐琅首饰。优选的，步骤1)所述的筋线的厚度不小于0.4mm，镂空部位的边框宽度不小于0.8mm。优选的，步骤2)所述的羧甲基纤维素的质量占釉料质量的0.08％～0.12％。优选的，步骤2)所述的羧甲基纤维素的粘度为10000～15000mPa·s。优选的，步骤3)所述的箔片为纯金箔片或纯银箔片。优选的，所述的纯金箔片的厚度为0.05～0.1mm。优选的，所述的纯银箔片的厚度为0.05～0.1mm。下面结合具体实施例对本专利技术作进一步的解释和说明。实施例1：镂空透明珐琅蜻蜓胸针(如图1所示)：材质为18K黄金，镶嵌钻石和碧玺，翅膀烧制镂空透明珐琅，蜻蜓两翅膀的展开长度约为80mm，宽度约为17mm，镂空位的最大宽度约为3.1mm。其制作方法如下：1)结构优化：将蜻蜓的结构拆解为三部分，两对翅膀各为一部分，剩余的为一部分。蜻蜓的翅膀为镂空部位，在制版时采用厚度为0.6mm的筋线将翅膀分割成若干个区域，分割方式类似蜻蜓翅膀的实际结构，翅膀与珐琅直接接触的边框宽度控制在0.8～1mm；2)安放假托：在翅膀镂空部位的底部贴上厚度为0.07mm的纯金箔片，箔片的外形尺寸比镂空区域大5mm，多出的箔片翻卷扣紧在镂空区边缘(每边2.5mm)，保证箔片不会掉落，贴箔片时从镂空部位中部开始，用毛扫、海绵等工具依次推压箔片，使之紧贴箔片的底部；3)填珐琅釉料：采用湿釉料浆，用勾线笔蘸釉料均匀填到翅膀镂空部位，操作过程中保证工件无大的震动；4)烧制：翅膀镂空珐琅先在800℃下烧制70秒，烧制后取出并立即用已预热到570℃的硅酸铝纤维筒罩住，使珐琅翅膀缓慢冷却；5)打磨处理：去除箔片假托，对珐琅翅膀进行打磨，然后将其与蜻蜓身体部分组装在一起，并将胸针的插针、转筒、卡轮等用激光焊接，对整个货件抛光、电镀，得到镂空透明珐琅蜻蜓胸针。实施例2：镂空透明珐琅耳环(如图2所示)：材质为930银合金，耳环的外形尺寸约为50mm×20mm，镂空位的最大宽度约为3.6mm。其制作方法如下：1)结构优化：制版时用厚度为0.8mm的筋线将镂空部位分割，将边框宽度控制在1.2～2mm；2)安放假托：在镂空部位的底部贴上厚度为0.1mm的纯银箔片，箔片的外形尺寸比镂空区域大6mm，多出的箔片翻卷扣紧在镂空区边缘，保证箔片不会掉落，贴箔片时从镂空部位中部开始，用毛扫、海绵等工具依次推压箔片，使之紧贴箔片的底部；3)填珐琅釉料：采用湿釉料浆，用勾线笔蘸釉料均匀填到翅膀镂空部位，操作过程中保证工件无大的震动；4)烧制：镂空珐琅先在790℃下烧制100秒，烧制后取出并立即用已预热到500℃的硅酸铝纤维筒罩住，使珐琅翅膀缓慢冷却；5)打磨处理：去除箔片假托，将耳钩扣接到耳环上，对耳环进行打磨、抛光、电镀等加工，得到镂空透明珐琅耳环。实施例3：镂本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种镂空透明珐琅首饰的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：1)结构优化：制版时用筋线对镂空部位进行分割；2)珐琅釉料处理：针对直径小于5mm或宽度小于2.5mm的镂空位，在釉料中添加羧甲基纤维素调整浆料的粘度；3)安放假托：依据烧制时珐琅首饰的放置方向，在直径超过5mm或宽度超过2.5mm的镂空位的底部贴上箔片；4)填珐琅釉料：将珐琅釉料均匀填充到镂空部位；5)烧制：填料后的珐琅首饰先在790～810℃下烧制60～100秒，再取出工件用已预热到500～600℃的硅酸铝纤维筒罩住，自然冷却；6)打磨处理：去除箔片假托，对珐琅首饰进行镶嵌、打磨、抛光、电镀，得到镂空透明珐琅首饰。

【技术特征摘要】
1.一种镂空透明珐琅首饰的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：1)结构优化：制版时用筋线对镂空部位进行分割；2)珐琅釉料处理：针对直径小于5mm或宽度小于2.5mm的镂空位，在釉料中添加羧甲基纤维素调整浆料的粘度；3)安放假托：依据烧制时珐琅首饰的放置方向，在直径超过5mm或宽度超过2.5mm的镂空位的底部贴上箔片；4)填珐琅釉料：将珐琅釉料均匀填充到镂空部位；5)烧制：填料后的珐琅首饰先在790～810℃下烧制60～100秒，再取出工件用已预热到500～600℃的硅酸铝纤维筒罩住，自然冷却；6)打磨处理：去除箔片假托，对珐琅首饰进行镶嵌、打磨、抛光、电镀，得到镂空透明珐琅首饰。2.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：袁军平，陈令霞，马春宇，陈德东，
申请(专利权)人：广州番禺职业技术学院，
类型：发明
国别省市：广东,44