扫描曝光装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种扫描曝光装置。为了改善扫描曝光装置的生产节拍时间并提高吞吐量，在进行光源的高照度化和扫描速度的高速化时，防止在基板的端部附近的曝光不均。扫描曝光装置(1)具备：载物台(2)，在与载物台表面(2A)之间设置间隙(2S)而支撑基板(W)；光源单元(3)，向沿基板(W)上的一方向延伸设置的光照射区域(3L)照射光；及扫描装置(4)，使载物台(2)与光源单元(3)的一方或双方沿与一方向交叉的扫描方向(S)相对移动，在扫描装置(4)中设置有从载物台(2)及光源单元(3)静止的位置直至被载物台(2)支撑的基板(W)进入到光照射区域(3L)的加速区间(F)，载物台(2)在其端部具备覆盖载物台表面(2A)与基板(W)之间的间隙(2S)的遮光体(20)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】扫描曝光装置
本专利技术涉及一种扫描曝光装置。
技术介绍
一种扫描曝光装置，所述扫描曝光装置为使光源单元与支撑基板的载物台相对移动的同时对基板进行曝光的装置，并且用在掩模图案的曝光(参考下述专利文献1)和光取向用曝光(参考下述专利文献2)等。该扫描曝光装置为具备沿基板平面的一方向延伸设置的光源单元，并且将与光源单元的延伸设置方向交叉的方向设为扫描方向，通过沿扫描方向限定光源单元的光照射区域，实现在该光照射区域中的均匀曝光的同时使对于该光照射区域的基板相对移动，从而对比较大的基板进行均匀曝光。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2009-295950号公报专利文献2：日本特开2014-174352号公报
技术实现思路
专利技术要解决的技术课题这些扫描曝光装置中，为了改善曝光处理的生产节拍时间(或提高吞吐量)而进行光源的高照度化和扫描速度的高速化。此时，为了得到均匀曝光，在基板进入到光源单元的光照射区域中直至基板脱离光照射区域的期间，需要维持一定的扫描速度，并为了实现扫描速度的高速化，需要设置从载物台或光源单元停止的状态直至达到一定的高扫描速度的加速区间(助跑区间)。并且，在基板进入到光本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种扫描曝光装置，其特征在于，具备：载物台，在与载物台表面之间设置间隙而支撑基板；光源单元，向沿所述基板上的一方向延伸设置的光照射区域照射光；及扫描装置，使所述载物台与所述光源单元的一方或双方沿与所述一方向交叉的扫描方向相对移动，所述扫描装置中设置有从所述载物台及所述光源单元静止的位置直至被所述载物台支撑的基板进入到所述光照射区域的加速区间，所述载物台在该载物台的端部具备覆盖所述载物台表面与所述基板之间的间隙的遮光体。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.02.18 JP 2015-0300251.一种扫描曝光装置，其特征在于，具备：载物台，在与载物台表面之间设置间隙而支撑基板；光源单元，向沿所述基板上的一方向延伸设置的光照射区域照射光；及扫描装置，使所述载物台与所述光源单元的一方或双方沿与所述一方向交叉的扫描方向相对移动，所述扫描装置中设置有从所述载物台及所述光源单元静止的位置直至被所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：吉田祐治，松本峰征，新井敏成，田中茂树，片寄敬太，铃木英幸，神户诚，
申请(专利权)人：株式会社V技术，夏普株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP