具有改进投射性的磨粒制造技术

本发明专利技术提供具有在ＵＰ沉积过程中改进投射性的磨粒，它具有第一导电性涂层和包含含硅化合物的第二涂层。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

技术介绍
本专利技术涉及在制备涂覆磨料方面具有改进适宜性的磨粒。涂覆磨料的通常制法是在底材上沉积一层可固化的粘合剂树脂制剂(被称为“构造”涂层(＂maker＂coat))，然后再在未经固化或者未经完全固化的构造涂层上沉积磨粒。然后对粘上磨粒的构造涂层进行部分固化或完全固化，随后再施加另一层可固化的树脂粘合剂(“上胶”涂层(＂size＂coat))将磨粒覆盖住。该上胶涂层固化后是用来当涂覆磨粒使用时将其保持在位。本专利技术主要涉及用来在构造涂层上沉积磨粒的技术。存在两种基本的方法一种是磨粒通过重力作用落到构造涂层表面上；另一种是将磨粒射到构造涂层表面上。后一种技术得到了最广泛的使用，投射力在本性上是静电力。将磨粒放在床或盘上，使具有构造涂层的底材(构造涂层面朝下)从床上方经过。在底材背面的板(直接在床上方)和床本身下面的板之间施加静电电位差。磨粒就带电，因此射向构造涂层并粘合在上面。该技术通常被称为UP沉积。理论就是这样，它对于许多磨粒都是相当有效的。但是有一些磨粒(特别例如是氧化铝/氧化锆磨粒)在所带电荷量及电荷保持时间这两方面非常容易受到空气中湿气含量的影响。已知可用诸如氯化镁之类的盐本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有改进投射性的磨粒，该磨粒上具有含导电性材料的第一表面涂层和位于该第一表面涂层上的第二表面涂层，该第二表面涂层包含选自硅酸盐（酯）、氨基硅烷和它们的混合物的含硅化合物。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：J孙，
申请(专利权)人：圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]