光阻烘烤设备制造技术

本发明专利技术提供了一种光阻烘烤设备，该设备包括烘烤腔体，所述烘烤腔体上分别设有进风口以及出风口，所述烘烤腔体上设有与其密封连接的上盖，所述上盖用于对进入烘烤腔体内的热风进行导向，所述上盖上设有用于保持热风温度的加热装置。与现有技术相比，通过在上盖上设置加热装置，从而使吹向上盖的热风能够被加热，并使流向出风口时，热风的温度始终保持一致，从而避免光阻挥发物在接触到上盖后由于温度的改变导致冷凝滴落，影响产品的品质，而且也保证了烘烤腔体中温度的均一性。

Light resistance baking equipment

The present invention provides a photoresist baking device, the device includes a baking cavity, the baking cavity are respectively provided with an air inlet and an air outlet, wherein the baking cavity is provided with a sealed upper cover, the upper cover is used to guide into the baking cavity of hot air, the upper cover is provided with a to keep the hot air temperature heating device. Compared with the prior art, the heating device is arranged on the upper cover, so that the hot air blowing cover can be heated, and the flow of the air outlet, the air temperature is always consistent, so as to avoid the photoresist volatiles in contact with the top cover due to temperature changes resulting in condensation dripping, affect the quality of products, but also to ensure the uniformity of the temperature in the baking cavity.

【技术实现步骤摘要】
光阻烘烤设备
本专利技术涉及一种液晶面板技术，特别是一种光阻烘烤设备。
技术介绍
液晶显示器具有机身薄、省电、无辐射等众多优点，得到了广泛的应用，如：移动电话、个人数字助理、数码相机等，现有的液晶面板制作过程中，形成某一膜层时，通常需要经过涂布、曝光、显影工艺形成光阻图案，其中在光阻涂布之后，还需要通过抽真空单元抽出PR中的部分溶剂(Solvent)，再经过烘烤设备对其进行干燥和固化，去除经VCD环节后PR中残留的溶剂，以增强PR与基板的粘着性，从而达到更好的显影效果。烘烤设备在加热过程中，目前业界内主要是通过热风或者红外线辐射加热基板，烘烤设备的烘烤腔体内的温度通常在90-120度之间，加热固化光阻同时会使光阻中的溶剂挥发，在采用热风的加热方式时，由于热风在进入烘烤腔体后与烘烤腔体内的温度接触，从而使烘烤腔体内出现两种温度，位于进风口处的温度会高于出风口处的问题，导致上盖以及烘烤腔体内会出现光阻挥发物受较低温度的影响冷凝后滴落在基板上，从而造成基板污染。
技术实现思路
为克服现有技术的不足，本专利技术提供一种光阻烘烤设备，降低烘烤腔体内温度的差异，从而避免因温度下降造成冷凝后滴落在基板上，影响产品品质。本专利技术提供了一种光阻烘烤设备，该设备包括烘烤腔体，所述烘烤腔体上分别设有进风口以及出风口，所述烘烤腔体上设有与其密封连接的上盖，所述上盖用于对进入烘烤腔体内的热风进行导向，所述上盖上设有用于保持热风温度的加热装置。进一步地，所述加热装置为设于上盖上的电阻线圈。进一步地，所述加热装置为PTC加热板。进一步地，所述加热装置设置在上盖靠近出风口的一侧。进一步地，所述加热装置设于上盖背离烘烤腔体的一侧表面上。进一步地，所述进风口和出风口分别设置在烘烤腔体相对的两侧上。进一步地，所述烘烤腔体内位于进风口上设有用于将热风朝上盖方向引导的第一导流通道，所述第一导流通道的进口与进风口密封连接，出口与上盖相对。进一步地，所烘烤腔体内位于出风口上设有用于对热风进行回收的第二导流通道，所述第二导流通道的进口与上盖相对，出口与出风口密封连接。进一步地，所述设备还包括以热量回收装置，所述热量回收装置经管道与出风口连接。进一步地，所述设备还包括热风发生装置，所述热风发生装置经管道与进风口连接。本专利技术与现有技术相比，通过在上盖上设置加热装置，从而使吹向上盖的热风能够被加热，并使流向出风口时，热风的温度始终保持一致，从而避免光阻挥发物在接触到上盖后由于温度的改变导致冷凝滴落，影响产品的的品质，而且也保证了烘烤腔体中温度的均一性。附图说明图1是本专利技术光阻烘烤设别的结构示意图；图2是本专利技术加热装置设置位置的结构示意图；图3是本专利技术加热装置的第一种设置方式的结构示意图；图4是本专利技术加热装置的第二种设置方式的结构示意图。具体实施方式下面结合附图和实施例对本专利技术作进一步详细说明。如图1所示，本专利技术公开了一种光阻烘烤设备该设备包括烘烤腔体1，烘烤腔体1的大小根据实际情况设置，在此不做限定；在烘烤腔体1的上端设置有一上盖11，上盖11与烘烤腔体1之间采用密封连接；在烘烤腔体1上分别设有进风口2以及出风口3，进风口2经管道与热风发生装置6连接，从而将热风发生装置6所产生的热风送入烘烤腔体1中，出风口3经管道与排气装置5连接，这里需要注意的是，热风发生装置6以及排气装置5均为烘烤设备的常规部件，在此不作具体限定；进风口2和出风口3分别设置在烘烤腔体1相对的两侧上；所述烘烤腔体1内位于进风口2上设有用于将热风朝上盖11方向引导的第一导流通道21，所述第一导流通道21的进口与进风口2密封连接，出口与上盖11相对；所烘烤腔体1内位于出风口3上设有用于对热风进行回收的第二导流通道31，所述第二导流通道31的进口与上盖11相对，出口与出风口3密封连接。本专利技术通过上盖11将热风导向，使热风从上盖11位于第一导流通道21的一端朝位于第二导流通道31的一端方向流去，这样能够保持烘烤腔体1内的温度。本专利技术中，上盖11上设有用于保持热风温度的加热装置4，由于在热风流向第二导流通道31的途中，温度会发生改变，这样的改变导致光阻挥发物由于温度的降低出现冷凝后滴落的问题，从而造成基板污染，在上盖11上设置加热装置4，能够使热风的温度保持一致，有效改善了位于第一导流通道21侧与第二导流通道31侧温度均一。作为本专利技术的一种优选方式，如图2所示，加热装置4设置在上盖11靠近出风口3的一侧，从而可以实现仅对温度较低的一侧进行加热，使得烘烤腔体1位于进风口2一侧的热风的温度与烘烤腔体1位于出风口3一侧的热风的温度保持一致，从而减少需要加热的面积，从而降低能耗。为了保证加热效果，上盖11可由具有良好导热效果的导热材料制成，如金属材料或陶瓷，在此不做具体限定。如图1所示，第一导流通道21包括一S形通道211以及倾斜设置的第一延伸通道212，第一延伸通道212的最低点与S形通道211的一端连接，S形通道211的另一端与进风口2连接；第一延伸通道212的最高点与上盖11相对。第二导流通道31包括一倾斜设置的第二延伸通道311以及一直通腔312，所述第二延伸通道311的最低点与直通腔312的一端连通，直通腔312的另一端与出风口3连通，第二延伸通道311的最高点与上盖11相对。如图3所示，加热装置4设置在上盖11远离烘烤腔体1的一侧表面上且靠近出风口3的位置处，这种加热方式，可以通过上盖11进行导热，从而实现加热，但本专利技术不限于此，例如直接设置在上盖11与烘烤腔体1相对的一侧表面。如图4所示，所述上盖11设有中空的腔体111，加热装置4设于腔体111中，且靠近出风口3的位置处，这种方式能够提高加热效果，而且也避免了热装置4与光阻挥发物接触问题。本专利技术中，所述加热装置4为设于上盖11上的电阻线圈，电阻线圈均匀分布在上盖11上或腔体111中，从而使加热时的温度能够均匀，优选地，电阻线圈以蛇形迂回设置或为螺旋形设置；当然，加热装置4还可以采用PTC加热板。本专利技术有效控制温度保持高温，不会因温度下降差异造成光阻挥发物冷凝后滴落影响产品。对烘烤腔体的上盖温度均一性有效改善，使得位于出风口以及进风口两侧温度可均匀受热，有效改善现有烘烤腔体的温度差异性，同时也对制程基板产品稳定性、均一性获得有效改善。虽然已经参照特定实施例示出并描述了本专利技术，但是本领域的技术人员将理解：在不脱离由权利要求及其等同物限定的本专利技术的精神和范围的情况下，可在此进行形式和细节上的各种变化。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光阻烘烤设备，该设备包括烘烤腔体(1)，其特征在于：所述烘烤腔体(1)上分别设有进风口(2)以及出风口(3)，所述烘烤腔体(1)上设有与其密封连接的上盖(11)，所述上盖(11)用于对进入烘烤腔体(1)内的热风进行导向，所述上盖(11)上设有用于保持热风温度的加热装置(4)。

【技术特征摘要】
1.一种光阻烘烤设备，该设备包括烘烤腔体(1)，其特征在于：所述烘烤腔体(1)上分别设有进风口(2)以及出风口(3)，所述烘烤腔体(1)上设有与其密封连接的上盖(11)，所述上盖(11)用于对进入烘烤腔体(1)内的热风进行导向，所述上盖(11)上设有用于保持热风温度的加热装置(4)。2.根据权利要求1所述的光阻烘烤设备，其特征在于：所述加热装置(4)为设于上盖(11)上的电阻线圈。3.根据权利要求1所述的光阻烘烤设备，其特征在于：所述加热装置(4)为PTC加热板。4.根据权利要求1所述的光阻烘烤设备，其特征在于：所述加热装置(4)设置在上盖(11)靠近出风口(3)的一侧。5.根据权利要求4所述的光阻烘烤设备，其特征在于：所述加热装置(4)设于上盖(11)背离烘烤腔体(1)的一侧表面上。6.根据权利要求4所述的光阻烘烤设备，其特征在于：所述进风口(...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈仲仁，林明文，蔡在秉，李彦泽，伍池林，吴智坤，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44