一种TFT‑LCD显示屏基板清洗用光学清洗剂制造技术

本发明专利技术公开了一种TFT‑LCD显示屏基板清洗用光学清洗剂，由以下重量百分比的原料组成：氢氧化钾10‑14％、十二烷基硫酸铵7‑14％、葡萄糖酸钠5‑11％、一乙醇胺7‑12％、有机碱10‑20％、硫酸铵4‑9％、非离子表面活性剂6‑10％、脂肪醇聚氧乙烯醚3‑5％、三乙醇胺6‑8％、异构C13脂肪醇聚氧乙烯醚和/或乙氧基丙氧基化C8‑10脂肪醇7‑10％、渗透剂4‑6％、分散剂3‑7％、螯合剂5‑15％、余量为纯水。与现有技术相比，本发明专利技术通过对清洗剂的组分和含量的改善的协同配合，得到了TFT‑LCD显示屏基板表面无水印，快干，清洗后基板表面残留少的清洗剂；此外，本发明专利技术的清洗剂在稀释倍率为30倍以上时也能获得良好的清洗效果，从而能在很大程度上降低成本。

【技术实现步骤摘要】
一种TFT-LCD显示屏基板清洗用光学清洗剂
本专利技术涉及TFT-LCD显示屏
，具体涉及一种TFT-LCD显示屏基板清洗用光学清洗剂。
技术介绍
在TFT-LCD显示屏制程中必须将ITO玻璃清洗干净后才可涂光刻胶。目前这两种清洗所用清洗剂大多用水作为溶剂的清洗剂，但使用这些水基型清洗剂普遍存在清洗效果不佳、玻璃表面清洗剂液体残留量大、清洗后下一步工艺中镀膜在玻璃表面的附着力弱的问题，且这些水基型清洗剂只能在稀释倍率小的情况下才能获得相对较好的清洗效果。
技术实现思路
本专利技术旨在提供了一种TFT-LCD显示屏基板清洗用光学清洗剂。本专利技术提供如下技术方案：一种TFT-LCD显示屏基板清洗用光学清洗剂，由以下重量百分比的原料组成：氢氧化钾10-14％、十二烷基硫酸铵7-14％、葡萄糖酸钠5-11％、一乙醇胺7-12％、有机碱10-20％、硫酸铵4-9％、非离子表面活性剂6-10％、脂肪醇聚氧乙烯醚3-5％、三乙醇胺6-8％、异构C13脂肪醇聚氧乙烯醚和/或乙氧基丙氧基化C8-10脂肪醇7-10％、渗透剂4-6％、分散剂3-7％、螯合剂5-15％、余量为纯水。所述螯合剂为乙二胺本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种TFT‑LCD显示屏基板清洗用光学清洗剂，其特征在于，由以下重量百分比的原料组成：氢氧化钾10‑14％、十二烷基硫酸铵7‑14％、葡萄糖酸钠5‑11％、一乙醇胺7‑12％、有机碱10‑20％、硫酸铵4‑9％、非离子表面活性剂6‑10％、脂肪醇聚氧乙烯醚3‑5％、三乙醇胺6‑8％、异构C13脂肪醇聚氧乙烯醚和/或乙氧基丙氧基化C8‑10脂肪醇7‑10％、渗透剂4‑6％、分散剂3‑7％、螯合剂5‑15％、余量为纯水。

【技术特征摘要】
1.一种TFT-LCD显示屏基板清洗用光学清洗剂，其特征在于，由以下重量百分比的原料组成：氢氧化钾10-14％、十二烷基硫酸铵7-14％、葡萄糖酸钠5-11％、一乙醇胺7-12％、有机碱10-20％、硫酸铵4-9％、非离子表面活性剂6-10％、脂肪醇聚氧乙烯醚3-5％、三乙醇胺6-8％、异构C13脂肪醇聚氧乙烯醚和/或乙氧基丙氧基化C8-10脂肪醇7-10％、渗透剂4-6％、分散剂3-7％、螯合剂5-15％、余量为纯水...

【专利技术属性】
技术研发人员：白航空，
申请(专利权)人：合肥市惠科精密模具有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽,34