一种电解锰片清洗装置制造方法及图纸

技术编号:16571154 阅读:35 留言:0更新日期:2017-11-17 22:41
本实用新型专利技术公开了一种电解锰片清洗装置,包括承托台、清洗装置和传送装置,承托台的两侧为水平承托台部且两侧水平承托台部之间开设有一方形体凹槽,清洗装置包括一清洗水槽,清洗水槽的底端嵌设于凹槽内,清洗水槽的顶端开口且顶端开口与承托台的上表面相平齐,清洗水槽的内部腔体为四棱台结构,传送装置包括第一传送装置、第二传送装置和第三传送装置,第一传送装置、第二传送装置和第三传送装置均包括若干个滚筒、以及环绕设于若干个滚筒上的传送带。本实用新型专利技术提供的一种电解锰片清洗装置,结构简单合理,操作方便,能有效降低电解锰片含硫量,从而提高生产效益。

Cleaning device for electrolytic manganese flakes

The utility model discloses an electrolytic manganese cleaning device, comprising a support table, a cleaning device and a transmission device, a supporting platform for both sides of a square shape groove is arranged between the supporting part and the level of Taiwan on both sides of a horizontal supporting Taiwan, cleaning device comprises a cleaning tank, cleaning tank bottom installed inside the groove at the top. The opening and cleaning the sink surface and the top opening supporting Taiwan flush, internal cavity cleaning water tank is four prism structure, transmission device comprises a first transmission device and the second transmission device and the third transmission device, the first transmission device and the second transmission device and the third transmission device comprises a plurality of rollers, and a plurality of transmit surround a roller belt. The electrolytic manganese plate cleaning device provided by the utility model has the advantages of simple and reasonable structure, convenient operation, and can effectively reduce the sulfur content of the electrolytic manganese slice, thereby improving the production benefit.

【技术实现步骤摘要】
一种电解锰片清洗装置
本技术涉及一种清洗装置,尤其是一种电解锰片清洗装置。
技术介绍
我国电解锰300多万吨产能,除少数几家达到5万吨以上外,大部分均处于技术装备、产品质量、生产规模的中下水平。其中70-75%电解锰用于钢铁行业,目前依据我国电解金属锰质量标准:YBT051-2003,钢铁含硫、含磷越少钢的品质就越好,因为这两样元素会引起钢的冷脆和热脆,我国要生产好的钢铁,应从提高各增加组成质量开始。当电解锰片生产出来之后,目前采用手工用水枪集中清洗,因堆放问题,存在相互压放的情况,清洗不彻底,特别是夏季,容易出现硫超标的情况,而在市场上,在铁合金生产中S>0.03%的电解锰片与S<0.02%的电解锰片价差在200元/吨,后者价格较高。因此,如何提供一种电解锰片硫清洗装置,以实现使电解锰片含硫量由0.035%±0.01%下降至<0.015%,是目前本领域技术人员亟待解决的技术问题。
技术实现思路
有鉴于此,本技术的目的在于提供一种电解锰片清洗装置,结构简单合理,操作方便,能有效降低电解锰片含硫量,从而提高生产效益。本技术的技术方案为:一种电解锰片清洗装置,包括承托台、清洗装置和传送装置,所述清洗装置和传送装置设于所述承托台上,所述承托台的两侧为水平承托台部且两侧水平承托台部之间开设有一方形体凹槽,所述清洗装置包括一清洗水槽,所述清洗水槽的底端嵌设于所述凹槽内,所述清洗水槽的顶端开口且顶端开口与承托台的上表面相平齐,所述清洗水槽的内部腔体为四棱台结构,所述传送装置包括第一传送装置、第二传送装置和第三传送装置,所述第一传送装置、第二传送装置和第三传送装置均包括若干个滚筒、以及环绕设于若干个滚筒上的传送带,所述第一传送装置的若干个滚筒依次沿着水平承托台部的两端、以及清洗水槽内部腔体表面的转折端设置,所述传送带环绕设于第一传送装置的若干个滚筒上使传送带分为水平带和倾斜带,所述第二传送装置的若干个滚筒依次沿着清洗水槽内部腔体表面的水平端设置,所述传送带环绕设于第二传送装置的若干个滚筒上使传送带分为水平带,所述第三传送装置的若干个滚筒依次沿着清洗水槽内部腔体表面的转折端、以及水平承托台部的两端设置,所述传送带环绕设于第三传送装置的若干个滚筒上使传送带分为倾斜带和水平带。优选地,所述传送带的一端设有进料口。优选地,所述传送带上开设有防滑凹槽,所述防滑凹槽为浅口燕尾槽。优选地,所述清洗水槽内沿着内部腔体表面还设有多个斜向导流板,所述斜向导流板的倾斜设置方向与传送装置的传送装置一致。优选地,所述第一传送装置的滚筒为三个,所述第二传送装置的滚筒为两个,所述第三传送装置的滚筒为三个。优选地,所述第二传送装置的传送带位置设于第一传送装置的传送带位置的斜下方,所述第三传送装置的传送带位置设于第二传送装置的传送带位置的斜下方。与现有技术相比,本技术具有如下有益效果:本技术的一种电解锰片清洗装置,结构简单合理,操作方便,电解锰片通过传送装置传送至水槽中,进行浸透清洗,清洗力度大且不浪费水资源,待清洗水槽内清水污染到一定程度后换掉重装清水即可;同时清洗水槽内沿着内部腔体设有多个导流板,导流板的倾斜方向设置为与传送装置的传送装置一致,如此水流在导流板的作用下能起到漩涡作用,对电解锰片含硫量再一次起到冲刷作用,从而大大降低了电解锰片含硫量,提高生产效益。附图说明图1为本技术的结构示意图。具体实施方式下面结合附图以及具体实施方式,对本技术做进一步说明。如图1所示,一种电解锰片清洗装置,包括承托台1、清洗装置和传送装置3,清洗装置和传送装置3设于承托台1上。具体的,承托台1的两侧为水平承托台部11且两侧水平承托台部11之间开设有一方形体凹槽,清洗装置包括一清洗水槽2,清洗水槽2的底端嵌设于凹槽内,清洗水槽2的顶端开口且顶端开口与承托台1的上表面相平齐,清洗水槽2的内部腔体为四棱台结构。传送装置3包括第一传送装置31、第二传送装置32和第三传送装置33。第一传送装置31、第二传送装置32和第三传送装置33均包括三个滚筒、以及环绕设于三个滚筒上的传送带,第一传送装置31的三个滚筒311依次沿着水平承托台部的两端、以及清洗水槽2内部腔体表面的转折端设置,如此传送带环绕设于第一传送装置31的若干个滚筒311上使传送带分为水平传送带312和倾斜传送带312。第二传送装置32的两个滚筒321依次沿着清洗水槽2内部腔体表面的水平端设置,如此传送带环绕设于第二传送装置32的若干个滚筒321上使传送带分为水平传送带带322。第三传送装置33的三个滚筒332依次沿着清洗水槽2内部腔体表面的转折端、以及水平承托台部的两端设置,如此传送带环绕设于第三传送装置33的若干个滚筒332上使传送带分为倾斜传送带331和水平传送带331。为了更好的传送效果,第二传送装置32的传送带位置设于第一传送装置31的传送带位置的斜下方,以使电解锰片物料能很好地从第一传送装置31传送至第二传送装置32;第三传送装置33的传送带位置设于第二传送装置32的传送带位置的斜下方,以使电解锰片物料能很好地从第二传送装置32传送至第三传送装置33。传送带的一端设有进料口。为了防止电解锰片在梯形传送带上下滑,上述传送带上开设有防滑凹槽,防滑凹槽为浅口燕尾槽,防滑效果更加显著。清洗水槽2内沿着内部腔体表面还设有多个斜向导流板,斜向导流板的倾斜设置方向与传送装置的传送装置一致。上述的实施例仅为本技术的优选实施例,不能以此来限定本技术的权利范围,因此,依本技术申请专利范围所作的修改、等同变化、改进等,仍属本技术所涵盖的范围。本文档来自技高网...
一种电解锰片清洗装置

【技术保护点】
一种电解锰片清洗装置,其特征在于:包括承托台、清洗装置和传送装置,所述清洗装置和传送装置设于所述承托台上,所述承托台的两侧为水平承托台部且两侧水平承托台部之间开设有一方形体凹槽,所述清洗装置包括一清洗水槽,所述清洗水槽的底端嵌设于所述凹槽内,所述清洗水槽的顶端开口且顶端开口与承托台的上表面相平齐,所述清洗水槽的内部腔体为四棱台结构,所述传送装置包括第一传送装置、第二传送装置和第三传送装置,所述第一传送装置、第二传送装置和第三传送装置均包括若干个滚筒、以及环绕设于若干个滚筒上的传送带,所述第一传送装置的若干个滚筒依次沿着水平承托台部的两端、以及清洗水槽内部腔体表面的转折端设置,所述传送带环绕设于第一传送装置的若干个滚筒上使传送带分为水平带和倾斜带,所述第二传送装置的若干个滚筒依次沿着清洗水槽内部腔体表面的水平端设置,所述传送带环绕设于第二传送装置的若干个滚筒上使传送带分为水平带,所述第三传送装置的若干个滚筒依次沿着清洗水槽内部腔体表面的转折端、以及水平承托台部的两端设置,所述传送带环绕设于第三传送装置的若干个滚筒上使传送带分为倾斜带和水平带。

【技术特征摘要】
1.一种电解锰片清洗装置,其特征在于:包括承托台、清洗装置和传送装置,所述清洗装置和传送装置设于所述承托台上,所述承托台的两侧为水平承托台部且两侧水平承托台部之间开设有一方形体凹槽,所述清洗装置包括一清洗水槽,所述清洗水槽的底端嵌设于所述凹槽内,所述清洗水槽的顶端开口且顶端开口与承托台的上表面相平齐,所述清洗水槽的内部腔体为四棱台结构,所述传送装置包括第一传送装置、第二传送装置和第三传送装置,所述第一传送装置、第二传送装置和第三传送装置均包括若干个滚筒、以及环绕设于若干个滚筒上的传送带,所述第一传送装置的若干个滚筒依次沿着水平承托台部的两端、以及清洗水槽内部腔体表面的转折端设置,所述传送带环绕设于第一传送装置的若干个滚筒上使传送带分为水平带和倾斜带,所述第二传送装置的若干个滚筒依次沿着清洗水槽内部腔体表面的水平端设置,所述传送带环绕设于第二传送装置的若干个滚筒上使传送带分为水平带,所述第三传送装置的若干个滚筒依次沿着...

【专利技术属性】
技术研发人员:王国宁杨家冬李绍东刘汉勇
申请(专利权)人:湘西自治州丰达合金科技有限公司
类型:新型
国别省市:湖南,43

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