一种具有表面光学扩散微结构模具辊的制作工艺制造技术

本发明专利技术涉及一种具有表面光学扩散微结构模具辊的制作工艺，所述制作工艺包括如下步骤：（1）预处理；（2）电沉积硫酸铜；（3）电沉积氟硼酸盐铜；（4）化学刻蚀；（5）后处理。本发明专利技术的优点在于：本发明专利技术制作工艺结合电化学沉积和化学刻蚀，通过定向调节电化学沉积参数控制金属金相结构和晶体大小，进一步通过合适的化学刻蚀技术剥离表面金属，裸露出金相结构，得到类似自组织微纳表面结构；此结构具有在一定范围里随机的颗粒直径分布和表面高度发布，具有很好的漫反射光学效果；该制作工艺制得的具有表面光学扩散微结构模具辊，通过紫外成形技术制造的光学扩散膜在取得可调节的扩散性能的同时，又不会降低入射光的透过率。

Fabrication process of die roller with micro structure of surface optical diffusion

The present invention relates to a production process of surface micro structure and optical diffusion mold, the production process comprises the following steps: (1) pretreatment; (2) electrodeposition of copper sulfate; (3) electrodeposition of copper fluoroborate; (4) chemical etching; (5) postprocessing. The present invention has the advantages that the production process of the invention is combined with electrochemical deposition and chemical etching, electrochemical deposition parameters through directional adjusting control of metal metallographic structure and crystal size, further through appropriate technology stripping bare metal surface chemical etching, metallographic structure, similar self-organized micro nano surface structure; this structure is in a certain range of random the particle diameter distribution and the surface height, with the diffuse reflection optical effect is good; the production process with surface diffusion optical micro structure die roll by UV forming technology of manufacturing the optical diffusion film made in the diffusion performance can be adjusted at the same time, and will not reduce the incident light transmittance.

【技术实现步骤摘要】
一种具有表面光学扩散微结构模具辊的制作工艺
本专利技术属于微纳结构和光学膜的制作
，特别涉及一种具有表面光学扩散微结构模具辊的制作工艺。
技术介绍
光学薄膜一般是指在光学级薄膜基材上通过真空镀膜技术、涂布技术等各种工艺制作一层或多层介质以改变光的波导特性。具有光学扩散效果的光学薄膜广泛用于平板显示器背光模组中。常见的技术是利用各种具有光学扩散效果的颗粒或者片状物涂布或者夹持在膜表面或者中间。如专利CN100381836C公开了一种扩散膜，其包含一基材，且至少有一基材表面包含含表面官能基的光学扩散微粒、接合剂和硬化剂的涂层，其中该光学扩散微粒是由多元醇聚合物所组成，且具有1～50µm的粒径，该接合剂是选自由丙烯酸树脂、聚酰胺树脂、环氧树脂、聚酰亚胺树脂及聚酯树脂所组成的群组；专利CN104797962A公开了光扩散膜，其是用于使入射光光扩散成椭圆形的光扩散膜，其中，在膜内具有将折射率相对较高的多个薄片状物沿着沿膜面的任一方向在折射率相对较低的区域中排列多列而成的结构。但是，上述两种结构的扩散膜存在一定的缺点：由于起扩散作用的颗粒或多或少对入射光的吸收和阻挡作用，进而会降低光线透过本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有表面光学扩散微结构模具辊的制作工艺，其特征在于：所述制作工艺包括如下步骤：(1)预处理：对成型的辊坯依次进行表面除油和快速镀铜处理，得到一次预备辊；(2)电沉积硫酸铜：将步骤（1）得到的一次预备辊进行硫酸铜电沉积处理，以含磷铜板为阳极，浓度为220～250g/L CuS04·5H2O、60～70g/L H2S04和0.5～1.5ml/L十二烷基硫酸钠的混合液为电沉积液，设置阴极电流密度为3～10A/dm

【技术特征摘要】
1.一种具有表面光学扩散微结构模具辊的制作工艺，其特征在于：所述制作工艺包括如下步骤：(1)预处理：对成型的辊坯依次进行表面除油和快速镀铜处理，得到一次预备辊；(2)电沉积硫酸铜：将步骤（1）得到的一次预备辊进行硫酸铜电沉积处理，以含磷铜板为阳极，浓度为220～250g/LCuS04·5H2O、60～70g/LH2S04和0.5～1.5ml/L十二烷基硫酸钠的混合液为电沉积液，设置阴极电流密度为3～10A/dm2，溶液温度为20～40℃，实施电沉积硫酸铜，且电沉积硫酸铜在搅拌过程中进行，沉积出一层厚度为50～100µm的金相结构，得到二次预备辊；(3)电沉积氟硼酸盐铜：将步骤（2）得到的二次预备辊进行氟硼酸盐铜电沉积处理，以浓度为440～450g/LCu(BF4)2、20～30g/LH3B03和0.5～1.5ml/LpH值添加剂的混合液为电沉积液，设置阴极电流密度为10～45A/dm2，溶液温度为20～40℃，实施电沉积氟硼酸盐铜，且电沉积氟硼酸盐铜在搅拌过程中进行，形成一层细密的厚度为50～100µm的金相颗粒填充，得到三次预备辊；(4)化学刻蚀：将步骤（3）得到的三次预备辊进行化学刻蚀，剥离表面金属层；即采用浓度为500～800ml/L的氨水和200～500ml/L的双氧水的混合液进行刻蚀处理30～60s，处理后过5%稀磷酸溶液，并用纯水彻底冲洗，使金相结构裸露，得到四次预备辊；(5)后处理：将步骤（4）的四次预备辊依次经过电解抛光和抗氧化处理，得到具有表面光学扩散微结构的成形辊。2.根据权利要求1所述的具有表面光学扩散微结构模具辊的制作工艺，其特征在于：所述步骤（1）中的表面除油可以为酸洗除油，也可以为皂化除油。3.根据权利要求2所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：邱晓华，王新辉，
申请(专利权)人：南通天鸿镭射科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32