高性能阻隔膜的制备方法及产品技术

本发明专利技术公开了一种高性能阻隔膜的制备方法及产品，其制备方法包括以下步骤：1)将2张以上包装用阻隔薄膜通过粘合胶水贴合，固化后，得复合基膜；2)在步骤1)的复合基膜上涂布一层热固化胶水，并烘干固化，即在复合基膜的基础上增加了一层底涂层；3)复合基膜的另一面涂布包含扩散粒子的胶水法，或激光刻印，或UV胶水压印，对复合基膜胶水表面进行粗糙处理，使复合基膜具有粗糙层；得到高性能阻隔基膜。本发明专利技术制备的高性能阻隔膜由表面粗糙层、复合基膜层、底涂层构成，具有阻隔率高，厚度薄，生产成本低的优势，可直接用于各种类型的量子点膜的制备。

Preparation method and products of high performance barrier

The invention discloses a high performance barrier film preparation method and product, its preparation method includes the following steps: 1) will be more than 2 pieces of packaging barrier film through glue adhesive bonding, after curing, the composite membrane; 2) in step 1) composite film coated with a layer of thermosetting glue. And dry curing, that adds a layer of primer based on composite membrane; 3) composite membrane on the other side of the particle diffusion coating containing glue, or laser engraving or embossing, UV glue, glue on the surface of the composite membrane rough treatment, the composite membrane has a rough layer; high performance barrier film. High performance barrier film prepared by the invention is composed of rough surface composite layer, basal layer, bottom coating, with barrier thickness, high rate, low production cost advantages, can be directly used for various types of quantum dot films.

【技术实现步骤摘要】
高性能阻隔膜的制备方法及产品
本专利技术属于阻隔膜的加工制造领域，具体涉及一种高性能阻隔膜的制备方法及产品。
技术介绍
量子点薄膜配合蓝色光源使用，可以有效提高显示元件的色域值。由于量子点材料对水氧敏感，很容易衰减，因此制成膜片时需要采用水氧阻隔膜封装，避免量子点材料与空气的直接接触，提高量子点膜使用过程中的稳定性和使用寿命。目前，市面上量子点膜的厚度在300-360μm，可将显示色域值从70％左右的NTSC1931标准提高到100％左右的NTSC1931标准，但是这种厚度的量子点膜仅适用于大尺寸的TV显示。对于中小尺寸的量子点膜的应用，会严格要求膜片厚度在75-200μm之间，而其中的量子点材料层因其发光原理决定其最佳厚度应在50-125μm，实际应用中如果该层厚度每减少25μm，量子点材料的发光性能将会下降20％以上。因此，适用于中小屏显示的量子点膜所采用的水氧阻隔膜的厚度要求控制在80μm以下，对于手机显示，要求其厚度在30μm以下。应用于量子点膜的水氧阻隔膜，需要满足以下要求：(1)为保障量子点膜的稳定性，阻隔膜水汽透过率应小于0.08g/m2·day；(2)为了使阻膜易与量本文档来自技高网...

【技术保护点】
高性能阻隔膜的制备方法，包括以下步骤：1)将至少两张包装用阻隔薄膜通过粘合胶水贴合，固化后，得复合基膜；2)在步骤1)得到的复合基膜一面涂布一层热固化底涂胶水，烘干固化后，得到具有底涂层的复合基膜；3)在步骤2)得到的具有底涂层的复合基膜的另一面通过采用下面三种方法中的任意一种进行表面粗糙处理：第一种方法：涂布一层含有扩散粒子的胶水；第二种方法：涂布一层UV固化胶水并进行UV胶水压印；第三种方法：涂布一层热固化胶水并进行激光刻印；使复合基膜具有粗糙层。

【技术特征摘要】
1.高性能阻隔膜的制备方法，包括以下步骤：1)将至少两张包装用阻隔薄膜通过粘合胶水贴合，固化后，得复合基膜；2)在步骤1)得到的复合基膜一面涂布一层热固化底涂胶水，烘干固化后，得到具有底涂层的复合基膜；3)在步骤2)得到的具有底涂层的复合基膜的另一面通过采用下面三种方法中的任意一种进行表面粗糙处理：第一种方法：涂布一层含有扩散粒子的胶水；第二种方法：涂布一层UV固化胶水并进行UV胶水压印；第三种方法：涂布一层热固化胶水并进行激光刻印；使复合基膜具有粗糙层。2.根据权利要求1所述的高性能阻隔膜的制备方法，其特征在于，所述步骤1)中的包装用阻隔薄膜为PET阻隔膜、PC阻隔膜、EVOH多层共挤阻隔膜、尼龙多层共挤阻隔膜中的一种或一种以上。3.根据权利要求1或2所述的高性能阻隔膜的制备方法，其特征在于，所述步骤1)中粘合胶水为甲基丙烯酸树脂类UV固化胶水、聚氨酯类热固化胶水、压敏胶中的一种。4.根据权利要求1所述的高性能阻隔膜的制备方法，其特征在于，所述步骤2)中底涂胶水为聚氨酯类热固化胶水...

【专利技术属性】
技术研发人员：向爱双，王石，
申请(专利权)人：向爱双，
类型：发明
国别省市：湖南,43