Yttrium oxide film porosity is below 1.5%, the ratio of monoclinic crystal yttrium oxide accounts for the sum of the film in the monoclinic crystal of yttrium oxide and yttrium oxide in cubic crystal is above 1% and below 30%. For example, the coating containing yttrium oxide particles and a dispersion medium spraying material spraying forming.
【技术实现步骤摘要】
氧化钇皮膜本申请是申请日为2012年12月26日、申请号为2012800645373、专利技术名称为“氧化钇皮膜”的申请的分案申请。
本专利技术涉及氧化钇皮膜。
技术介绍
氧化钇(Y2O3)皮膜在具有高介质击穿电压(单位：kV)的方面具有较高的技术上的价值，例如已经在需要电绝缘的用途中被利用(例如参照专利文献1和专利文献2)。作为提高氧化钇皮膜的介质击穿电压的手段之一，增大皮膜的厚度是有效的。在该方面，与化学气相沉积法、电子束蒸镀法相比，喷镀由于容易形成厚度大的皮膜，因而作为介质击穿电压优异的氧化钇皮膜的形成方法是有利的。但是，喷镀皮膜的孔隙率较高。因此，氧化钇的喷镀皮膜的介质击穿强度(单位：kV/mm)比氧化钇的化学气相沉积膜的介质击穿强度即45kV/mm(例如参照非专利文献1)、氧化钇的电子束蒸镀膜的介质击穿强度即280kV/mm(例如参照非专利文献2)差。在需要电绝缘的用途中使用氧化钇皮膜时，为了更可靠地防止皮膜的介质击穿，要求皮膜不仅介质击穿电压高而且介质击穿强度也要高。需要说明的是，皮膜的介质击穿电压是指能够施加于皮膜而不发生介质击穿的最高的电压，皮膜的...
【技术保护点】
一种喷镀材料，其含有氧化钇颗粒和分散介质，所述氧化钇颗粒的体积平均直径为1.5μm以下，所述喷镀材料的固体成分含量为30质量％以上且60质量％以下。
【技术特征摘要】
2011.12.28 JP 2011-2882781.一种喷镀材料，其含有氧化钇颗粒和分散介质，所述氧化钇颗...
【专利技术属性】
技术研发人员：北村顺也，水野宏昭，菲洛夫泰亚劳拉·托马，斯蒂芬·兰纳，卢兹迈克尔·伯杰，安内格特·波特霍夫，
申请(专利权)人：福吉米株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP
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