The present invention relates to the spice field. More specifically, relates to a copolymer derived from aspartic acid and contains at least one can release active molecules such as alpha, beta unsaturated alpha or beta aspartic acid derivative ketone or aldehyde. The invention also relates to the use of polymer or copolymer, used in perfumes as part of perfuming or odor offset compositions, and flavoring compositions comprising the compounds of the invention or fragranced products.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于加香成分受控释放的由聚(天冬氨酸)衍生的共聚物
本专利技术涉及香料领域。更具体而言,涉及一种共聚物,其衍生自天冬氨酸并且包含至少一种能够释放活性分子例如α,β-不饱和酮或醛的α-或β-天冬氨酸衍生物。本专利技术还涉及聚合物或共聚物的用途,用于香料中作为加香或恶臭抵消组合物的一部分,以及包含本专利技术化合物的加香组合物或已加香制品。
技术介绍
香料行业对于能够延长一定时间内活性成分的效果(例如前体芳香料)的衍生物尤其感兴趣,例如为了克服当使用过度挥发性或具有差的留香性的加香成分时遇到的问题。特别地,该行业对具有改进的嗅觉性能的衍生物感兴趣。所述改进可以在所释放的活性化合物的时间方面、强度方面或有效量方面。所释放的活性化合物的强度或量方面的改善也可以减少恶臭的感觉。专利申请WO03/049666描述了能够延长活性成分的效果的一类化合物。在这些化合物中,提到了聚合物,作为具体例子列举了几种苯乙烯共聚物。然而,尽管几种单体衍生物在实施例中描述的性能相当好,但是描述苯乙烯共聚物的性能相对一般。因此,仍然需要改善能够延长活性成分的效果的基于聚合物的成分的释放性质。此外,现 ...
【技术保护点】
一种衍生自聚(天冬氨酸)的共聚物,其能够以受控的方式释放有气味的α,β‑不饱和酮或醛,并且包含至少一个式(I‑α)和/或(I‑β)的重复单元:
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.02.17 EP 15155340.11.一种衍生自聚(天冬氨酸)的共聚物,其能够以受控的方式释放有气味的α,β-不饱和酮或醛,并且包含至少一个式(I-α)和/或(I-β)的重复单元:该重复单元为其任何一种对映体的形式或这些对映体的混合物的形式,其中m为1或2,并且其中波浪线(对于所有描述)表示与另一重复单元键合,和-P表示容易产生有气味的α,β-不饱和酮或醛的自由基,由下式表示:其中阴影线表示所述P与X之间的键的位置;R2表示氢原子、C1至C15的直链、环状或支链的烷基、烯基或链二烯基,任选被一至四个C1至C4烷基取代;和R3、R4和R5表示氢原子、C6至C10芳环或C1至C15的直链、环状或支链的烷基、烯基或链二烯基,可能被C1至C4烷基取代;或者R1至R4基团中的两个或三个结合在一起形成具有5至20个碳原子的饱和或不饱和环,并且包括与所述R2、R3、R4或R5基团结合的碳原子,该环可以被C1至C8直链、支链或环状的烷基或烯基取代;并且条件是至少一个P基团满足如上所定义的式(II);-X表示从由式i)至iii)构成的群组中选出的官能团:式中阴影线如上所定义,粗线表示所述X与G之间的键的位置;G表示任选地包含1或2个氧、硫和/或氮原子的C2-C8烃基;-Y表示氧原子、硫原子或NR6基团,R6表示氢原子或C1-C4烷基。2.根据权利要求1的共聚物,其特征在于P表示式(P-1)至(P-12)的基团,为其任何一种异构体的形式:式中阴影线具有上述含义,虚线表示单键或双键,R9表示氢原子或甲基,R10表示氢原子、羟基或甲氧基或C1-C4的直链或支链烷基。3.根据权利要求1的共聚物,其特征在于所述X表示式ii)的官能团。4.根据权利要求1的共聚物,其特征在于所述Y表示氧原子或NR6基团,R6表示氢原子或甲基。5.根据权利要求1的共聚物,其特征在于m为1。6.根据权利要求1的共聚物,其特征在于所述G表示C2-C5烷二基,其任选地包含从醚、羧酸酯或酯中选出的一个官能团。7.根据权利要求1的共聚物,其特征在于所述共聚物包含至少...
【专利技术属性】
技术研发人员:D·贝尔捷,D·本茨赛蒂,A·赫尔曼,
申请(专利权)人:弗门尼舍有限公司,
类型:发明
国别省市:瑞士,CH
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