【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及经过处理以防试剂在其表面上残留的实验室消耗品形式的新 ,品，以及该新奇产品的生产工艺。需要实验室设备，尤其是实验室消耗品对于试齐诉辭品来说^^可能不具 有黏着性的，以避免在这些设备上有残存物。例如，在研究或分析中所进行的 生物化学或化学反应，尤其是医疗或法医诊断，通常使用非常少量的样品或试 剂。在样品或试剂的处理过程中，与之直接接触的实验室设备的表面上残留的 任何数量可观的样品或试剂都会严重地影响最终的结果。而且，由于很多的试 剂是很昂贵的，因此，这样造成的试齐啲损失还有经济方面的含义。4柳了各种方法来解决这个问题。这些方飾括为降低残留而制造出极其 光滑表面或固体材料，例如用来制造吸头的固体材料的方法。其它的方法包括 加入添加剂以迁移经过在疏液性媒介中浸渍涂布吸头的聚合物。等离子体沉积技术广泛应用于将聚合物涂料沉积到各种表面上，尤其是织 物表面上。这种技术被认为是一种与传统的湿化学法相比产生很少废物的清洁 的，千燥的技术。使用这种方法，等离子体从被置于电场中的有机分子中产生 出来。当在基底存在的情况下，使用这种方法，等离子体中的化合物的自由基 ...
【技术保护点】
一种具有聚合物涂层的实验室消耗品，它通过将所述消耗品暴露于脉冲等离子体足够时间使得在实验室消耗品的表面上形成聚合物层而形成，所述等离子体含有化学式（Ⅰ）的化合物 ＊＊＊ （Ⅰ） 其中Ｒ↑［１］，Ｒ↑［２］和Ｒ↑［３］独立地选自氢原子，烷基，卤烷基或可任选地被卤素取代的芳基；和Ｒ↑［４］是Ｘ－Ｒ↑［５］基团，其中Ｒ↑［５］是烷基或卤烷基，且Ｘ是化学键；化学式－Ｃ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ↓［２］）↓［ｎ］Ｙ－的基团，其中ｎ是１－１０的整数，Ｙ是化学键或磺酰胺基团；或化学式－（Ｏ）↓［ｐ］Ｒ↑［６］（Ｏ）↓［ｑ］（ＣＨ↓［２］）↓［ｔ］－的基团，其中Ｒ↑［６］是任选地被卤素取代的芳基，ｐ是...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
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