电容器真空含浸吸拭一体结构制造技术

本实用新型专利技术系揭露一种电容器真空含浸吸拭一体结构，其包括一真空槽机构、一转盘、一浸渍机构、一吸拭机构、数个第一移动机构、一第二移动机构、一转动机构及一第三移动机构。浸渍机构及吸拭机构配合第三移动机构，可上下位移的设置于真空槽机构，而转盘则配合第一移动机构及一转动机构，设置于真空槽机构上方，藉由第一移动机构使转盘可选择性的盖合真空槽机构，并藉由转动机构选择性的翻转转盘，另外，第二移动机构部份构件，分别配置于真空槽机构、第一移动机构及转盘，除提供转盘夹持电容器外，并可位移电容器分别对应浸渍机构及吸拭机构，使电容器可于真空槽机构内，以及负大气压力的环境下，同时完成电容器含浸吸拭等加工需求。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

Capacitor Vacuum immersion suction and wipe integrated structure

The utility model relates to a vacuum suction swab impregnated capacitor integrated structure, which comprises a vacuum tank, a turntable, a mechanism, a wiping mechanism, impregnation mechanism first moving mechanism, a second moving mechanism, a rotary mechanism and a moving mechanism third. Impregnation mechanism and suction mechanism with third swab moving mechanism, on the displacement of the vacuum tank is arranged on the body, and the turntable is matched with a first moving mechanism and a rotation mechanism is arranged in the vacuum groove mechanism above the first moving mechanism the turntable can selectively cover the vacuum groove mechanism, and by turning wheel, rotating mechanism selective second in addition, some members of the mobile mechanism, are respectively arranged on the first moving mechanism and a rotary vacuum slot mechanism, in addition to providing rotary clamping capacitor, and capacitor displacement respectively corresponding impregnation mechanism and suction swab mechanism, so that the capacitor can be in vacuum tank within the organization, as well as environmental negative atmospheric pressure. At the same time the capacitor containing soaked swab processing needs.

【技术实现步骤摘要】

本技术系关于一种电容器含浸装置，特别是指于负大气压力下进行电容器含浸加工之一种电容器真空含浸吸拭一体结构。
技术介绍
按，一般电子电路中，多会使用到电容器；因此，电容器对电子类产品来说，虽然不是关键的零组件，但其质量却直接影响到使用该电容器的电子产品良率。而电容器在制造的过程中，其中一个工序需将电容器进行浸渍，用以进行物理特性的处理，传统电容器的含浸装置作业方式，皆在正常的大气压力环境下，将电容器先经过浸渍后，再移置另一区域进行吸拭，将多余的浸渍液回收。然而，习知浸渍作业因在正常的大气压力环境；故电容器插入浸渍液时，会有压差的产生，以致电容器内形成微小气泡，而这些气泡会造成电容器无法完全被浸渍的缺失，导致电容器的不良。再者，在正常的大气压力下，要将浸渍液完全的渗入电容器，或将多余的浸渍液自电容器上吸拭，由于压差的关系，都需耗费相当的时间，造成作业与工序的冗长。且在习知技艺的吸拭过程中，电容器与空气完全接触，因浸渍液的特性，会导致含浸后的电容器与空气接触时间过长，容易吸收空气中的水分子，导致电容器质量不稳定，降低电容器寿命。
技术实现思路
有鉴于上述习知技艺之问题与缺失，本技术之主要目的，就是在于提供一种电容器真空含浸吸拭一体结构，使电容器进行浸渍的工序中，可于负大气压力的环境下，同时完成浸渍与吸拭的动作，避免习知电容需分别作业的麻烦，与造成浸渍或吸拭的不良与电容器与含水空气接触之缺失。根据本技术上述目的，提供一种电容器真空含浸吸拭一体结构，所述结构包括：一真空槽机构，至少包含一真空槽，该真空槽具有一朝上开放之容置空间，以及数个贯穿该真空槽槽底之穿孔；一转盘，兼具盖板功能，对应该真空槽而可选择性的开闭该真空槽之开放端，该转盘两侧分别设有一传动枢轴及一被动枢轴，且该传动枢轴与该被动枢轴位于同一轴线；一浸渍机构，包含；一浸渍槽，系设置于该容置空间，具有一朝上开放之储液空间，该浸渍槽底部贯穿设有一入液孔及一出液孔；一进液管，为一中空之管体，该进液管一端与该入液孔连接，另端可活动的自各该穿孔其中之一穿伸出该真空槽机构，并与一入液阀连接，而可选择性的开闭该进液管；以及一出液管，为一中空之管体，该出液管一端与该出液孔连接，另端可活动的自各该穿孔其中之一穿伸出该真空槽机构，并与一出液阀连接，而可选择性的开闭该出液管；一吸拭机构，包含；一吸拭座，设置于该容置空间，该吸拭座贯穿设有至少一吸气穿孔；以及至少一吸气管，该吸气管为一中空之管体，一端连接该吸气穿孔，另端则可活动的自各该穿孔其中之一穿伸出该真空槽机构，并与一真空泵连接；数个第一移动机构，系对称设置于该真空槽相对之两侧，包含；数个导杆座，各该导杆座对称设置于该真空槽外侧；数支导杆，各该导杆可活动的垂直穿伸相对应之各该导杆座，且各该导杆至少一未端分别与一横杆连结；以及一第一压力缸，该第一压力缸与相对应之该横杆连接，以连动各该导杆同步上、下位移；一第二移动机构，包含；至少一滑轨组，该滑轨组分别设置于该转盘；至少一夹具组，该夹具组系设置蓝该滑轨组，并受该滑轨组选择性的于第一位置与第二位置之间位移；以及一下压力缸，该下压力缸设置于该真空槽外侧，且该下压力缸之顶杆穿伸该真空槽，并并选择性的与该转盘朝下面对应，而选择性的推顶该夹具组藉由该滑轨组，由第一位置位移至第二位置；一转动机构，至少包含数个轴座，各该轴座分别设置于相对应之该横杆，提供该传动枢轴、及该被动枢轴枢接；以及一第三移动机构，包含；一三角盘，该三角盘具有数个连接孔，各该连接孔分别与该进液管及该出液管一端套接，且该三角盘外周缘并与各该吸气管一端之外缘靠抵；一平衡杆，该平衡杆两端分别套衔各该吸气管一端；一调整螺栓，该调整螺栓分别贯穿并螺合该三角盘及该平衡杆，使该平衡杆与该三角盘同步连动；以及一第二压力缸，该第二压力缸系设置于该真空槽外侧底部，并与该三角盘连结，藉由该第二压缸之作动，连动该三角盘上、下位移，并同步连动该进液管、该出液管及各该吸气管上、下位移，使该进液管、该出液管及各该吸气管另端连接之该浸渍槽及该吸拭座，可选择性的于第一高度位置与第二高度位置之间上、下位移。藉由上述机构之组成，使电容器可于真空槽机构内，以及负大气压力的环境下，同时完成电容器含浸吸拭之加工需求。较佳的，上述滑轨组包含数支滑轨、数个滑座以及至少一弹性组件；滑座设置于各滑轨，并沿各滑轨于第一位置及第二位置间移动，而弹性组件一端对应各滑轨第一位置而固设于转盘上，另端则固设于滑座，使滑座常态抵靠于各滑轨之第一位置。较佳的，上述真空槽机构进一步设有一泄气阀，泄气阀贯穿真空槽设置于真空槽外侧，而可选择性的解除真空槽的真空状态。较佳的，上述真空槽进一步于底部贯穿设有一泄液孔，并配合泄液孔设有一电磁阀闸口，而可选择性的开闭泄液孔，方便真空槽之清洁。较佳的，上述浸渍槽进一步包含有数个锁合件，各锁合件穿伸入、出液孔而分别与进、出液管连接，且各锁合件具有一流道，该流道连通浸渍槽及进液管与出液管。较佳的，上述浸渍机构进一步包含有至少一液面传感器，液面传感器系设置于真空槽，并与浸渍槽位置相对应，且与进液阀或(及)出液阀电性连接，以感测浸渍槽之液面，而使进液阀或(及)出液阀可选择性的开闭。较佳的，上述第二移动机构，进一步包含有一上压力缸，上压力缸设置于预设之横杆，并选择性的与转盘朝上面对应，而选择性的推顶夹具组藉由滑轨组，由第一位置位移至第二位置。较佳的，上述转动机构进一步包含有一马达，马达系设置于预设之横杆，并与传动枢轴连接，而可选择性的翻转转盘。较佳的，上述转动机构进一步包含有一准位盘及一传感器，准位盘同轴设置于马达；传感器，电性连接马达，并设置于各轴座其中之一，且位置与准位盘相对应，配合准位盘及传感器，以控制马达旋转之角度。较佳的，上述吸拭机构，进一步包含有一吸拭面盖，该吸拭面盖设有数道穿槽。较佳的，上述吸拭座进一步设有一集液凹槽，且集液凹槽与各穿槽配合，提升真空泵于穿槽位置之吸力。附图说明通过参照附图更详细地描述本技术的示例性实施例，本技术的以上和其它方面及优点将变得更加易于清楚，在附图中：第1图本技术电容器真空含浸吸拭一体结构实施例示意图一。第2图本技术电容器真空含浸吸拭一体结构实施例示意图二。第3图本技术电容器真空含浸吸拭一体结构实施例部份分解示意图一。第4图本技术电容器真空含浸吸拭一体结构实施例部份分解示意图二。第5图本技术电容器真空含浸吸拭一体结构实施例作动示意图一。第6图本技术电容器真空含浸吸拭一体结构实施例作动示意图二。第7图本技术电容器真空含浸吸拭一体结构实施例剖面作动示意图一。第8图本技术电容器真空含浸吸拭一体结构实施例剖面作动示意图二。第9图本实用本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电容器真空含浸吸拭一体结构，其特征在于，所述结构包括： 一真空槽机构，至少包含一真空槽，该真空槽具有一朝上开放之容置空间，以及数个贯穿该真空槽槽底之穿孔； 一转盘，兼具盖板功能，对应该真空槽而可选择性的开闭该真空槽之开放端，该转盘两侧分别设有一传动枢轴及一被动枢轴，且该传动枢轴与该被动枢轴位于同一轴线； 一浸渍机构，包含； 一浸渍槽，系设置于该容置空间，具有一朝上开放之储液空间，该浸渍槽底部贯穿设有一入液孔及一出液孔； 一进液管，为一中空之管体，该进液管一端与该入液孔连接，另端可活动的自各该穿孔其中之一穿伸出该真空槽机构，并与一入液阀连接，而可选择性的开闭该进液管；以及 一出液管，为一中空之管体，该出液管一端与该出液孔连接，另端可活动的自各该穿孔其中之一穿伸出该真空槽机构，并与一出液阀连接，而可选择性的开闭该出液管； 一吸拭机构，包含； 一吸拭座，设置于该容置空间，该吸拭座贯穿设有至少一吸气穿孔；以及 至少一吸气管，该吸气管为一中空之管体，一端连接该吸气穿孔，另端则可活动的自各该穿孔其中之一穿伸出该真空槽机构，并与一真空泵连接； 数个第一移动机构，系对称设置于该真空槽相对之两侧，包含； 数个导杆座，各该导杆座对称设置于该真空槽外侧； 数支导杆，各该导杆可活动的垂直穿伸相对应之各该导 杆座，且各该导杆至少一未端分别与一横杆连结；以及 一第一压力缸，该第一压力缸与相对应之该横杆连接，以连动各该导杆同步上、下位移； 一第二移动机构，包含； 至少一滑轨组，该滑轨组分别设置于该转盘； 至少一夹具组，该夹具组系设置蓝该滑轨组，并受该滑轨组选择性的于第一位置与第二位置之间位移；以及 一下压力缸，该下压力缸设置于该真空槽外侧，且该下压力缸之顶杆穿伸该真空槽，并并选择性的与该转盘朝下面对应，而选择性的推顶该夹具组藉由该滑轨组，由第一位置位移至第二位置； 一转动机构，至少包含数个轴座，各该轴座分别设置于相对应之该横杆，提供该传动枢轴及该被动枢轴之枢接；以及一第三移动机构，包含； 一三角盘，该三角盘具有数个连接孔，各该连接孔分别与该进液管及该出液管一端套接，且该三角盘外周缘并与各该吸气管一端之外缘靠抵； 一平衡杆，该平衡杆两端分别套衔各该吸气管一端； 一调整螺栓，该调整螺栓分别贯穿并螺合该三角盘及该平衡杆，使该平衡杆与该三角盘同步连动；以及 一第二压力缸，该第二压力缸系设置于该真空槽外侧底部，并与该三角盘连结，藉由该第二压缸之作动，连动该三角盘上、下位移，并同步连动该进液管、该出 液管及各该吸气管上、下位移，使该进液管、该出液管及各该吸气管另端连接之该浸渍槽及该吸拭座，可选择性的于第一高度位置与第二高度位置之间上、下位移。...

【技术特征摘要】
1.一种电容器真空含浸吸拭一体结构，其特征在于，所述结构包括：
一真空槽机构，至少包含一真空槽，该真空槽具有一朝上开放之容置空间，以及数个贯穿该真空槽槽底之穿孔；
一转盘，兼具盖板功能，对应该真空槽而可选择性的开闭该真空槽之开放端，该转盘两侧分别设有一传动枢轴及一被动枢轴，且该传动枢轴与该被动枢轴位于同一轴线；
一浸渍机构，包含；
一浸渍槽，系设置于该容置空间，具有一朝上开放之储液空间，该浸渍槽底部贯穿设有一入液孔及一出液孔；
一进液管，为一中空之管体，该进液管一端与该入液孔连接，另端可活动的自各该穿孔其中之一穿伸出该真空槽机构，并与一入液阀连接，而可选择性的开闭该进液管；以及
一出液管，为一中空之管体，该出液管一端与该出液孔连接，另端可活动的自各该穿孔其中之一穿伸出该真空槽机构，并与一出液阀连接，而可选择性的开闭该出液管；
一吸拭机构，包含；
一吸拭座，设置于该容置空间，该吸拭座贯穿设有至少一吸气穿孔；以及
至少一吸气管，该吸气管为一中空之管体，一端连接该吸气穿孔，另端则可活动的自各该穿孔其中之一穿伸出该真空槽机构，并与一真空泵连接；
数个第一移动机构，系对称设置于该真空槽相对之两侧，包含；
数个导杆座，各该导杆座对称设置于该真空槽外侧；
数支导杆，各该导杆可活动的垂直穿伸相对应之各该导
杆座，且各该导杆至少一未端分别与一横杆连结；以及
一第一压力缸，该第一压力缸与相对应之该横杆连接，以连动各该导杆同步上、下位移；
一第二移动机构，包含；
至少一滑轨组，该滑轨组分别设置于该转盘；
至少一夹具组，该夹具组系设置蓝该滑轨组，并受该滑轨组选择性的于第一位置与第二位置之间位移；以及
一下压力缸，该下压力缸设置于该真空槽外侧，且该下压力缸之顶杆穿伸该真空槽，并并选择性的与该转盘朝下面对应，而选择性的推顶该夹具组藉由该滑轨组，由第一位置位移至第二位置；
一转动机构，至少包含数个轴座，各该轴座分别设置于相对应之该横杆，提供该传动枢轴及该被动枢轴之枢接；以及一第三移动机构，包含；
一三角盘，该三角盘具有数个连接孔，各该连接孔分别与该进液管及该出液管一端套接，且该三角盘外周缘并与各该吸气管一端之外缘靠抵；
一平衡杆，该平衡杆两端分别套衔各该吸气管一端；
一调整螺栓，该调整螺栓分别贯穿并螺合该三角盘及该平衡杆，使该平衡杆与该三角盘同步连动；以及
一第二压力缸，该第二压力缸系设置于该真空槽外侧底部，并与该三角盘连结，藉由该第二压缸之作动，连动该三角盘上、下位移，并同步连动该进液管、该出液管及各该吸气管上、下位移，使该进液管、该出液管...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈皇壮，
申请(专利权)人：陈皇壮，
类型：新型
国别省市：中国台湾;71