具有像素结构的基板、含其的光电器件和打印方法技术

本申请提供了一种具有像素结构的基板、含其的光电器件和打印方法。该具有像素结构的基板中的像素结构包括具有子像素的像素单元，每个子像素包括像素隔离区域和发光区域，发光区域为位于像素隔离区域的像素隔离结构和基板围成的凹陷所在区域，凹陷用于盛放喷墨打印装置喷出的液体材料，凹陷底面的形状为第一平面图形S1，1≤S2的面积/S1的面积≤1.5，且S2与S1具有交集，交集为S1，S2为喷墨打印装置在与测试基板距离特定高度下单次打印喷出的液体材料、在测试基板的平坦表面上干燥后形成的第二平面图形，测试基板为未设置有像素隔离层结构的导电基板。本申请实现了提高发光区域的膜层均匀性和发光器件发光均匀性的效果。

【技术实现步骤摘要】
具有像素结构的基板、含其的光电器件和打印方法
本申请涉及像素设计
，具体而言，涉及一种具有像素结构的基板、含其的光电器件和打印方法。
技术介绍
近些年，溶液法逐渐替代传统的蒸镀法成为制作电致发光器件的研究热点，制作电致发光器件的过程主要包括将相应功能墨水设置到对应的像素中，一般像素包括像素界定层和发光区域，发光区域是像素界定层和基板围成的凹坑，该凹坑用于盛放墨水，墨水干燥后形成各个膜层(各个功能层和发光层)，各膜层与上下电极构成发光器件。溶液法中的喷墨打印法因可适用于大规模发光器件的生产，而被视为最具前景的方法之一。然而现有的喷墨打印法所制备的发光器件由于像素发光区域设计的局限性容易出现膜层不均匀的现象。现有的发光区域通常呈圆角矩形，如图1所示，发光区域1’由像素界定层2’隔离开，发光区域1’可容纳墨水的体积相对较大，需要打印设备打印多滴墨水3’于发光区域，以满足设置要求，在此过程中由于打印的墨滴在发光区域内有重叠，需要依靠墨滴的自然流动而铺展，往往在发光区域的上下两头(近似半圆形)出现墨滴空白，或者出现在交叉部位墨水固含量高于非交叉部位的现象，这样的发光区域设计会加重膜层不均本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有像素结构的基板，所述像素结构包括一个或多个像素单元，每个所述像素单元包括一个或多个子像素，每个所述子像素包括像素隔离区域和发光区域，所述像素隔离区域对应的基板上设置有像素隔离结构，所述发光区域为所述像素隔离结构和所述基板围成的凹陷所在区域，其特征在于，所述凹陷用于盛放喷墨打印装置喷出的液体材料，所述发光区域的所述凹陷底面的形状为第一平面图形S1，所述S1的大小由如下公式确定：1≤S2的面积/S1的面积≤1.5，且S2与S1具有交集，所述交集为S1，其中，所述S2为所述喷墨打印装置在与测试基板距离特定高度下单次打印喷出的所述液体材料在所述测试基板的平坦表面上干燥后形成的第二平面图形，所述...

【技术特征摘要】
1.一种具有像素结构的基板，所述像素结构包括一个或多个像素单元，每个所述像素单元包括一个或多个子像素，每个所述子像素包括像素隔离区域和发光区域，所述像素隔离区域对应的基板上设置有像素隔离结构，所述发光区域为所述像素隔离结构和所述基板围成的凹陷所在区域，其特征在于，所述凹陷用于盛放喷墨打印装置喷出的液体材料，所述发光区域的所述凹陷底面的形状为第一平面图形S1，所述S1的大小由如下公式确定：1≤S2的面积/S1的面积≤1.5，且S2与S1具有交集，所述交集为S1，其中，所述S2为所述喷墨打印装置在与测试基板距离特定高度下单次打印喷出的所述液体材料在所述测试基板的平坦表面上干燥后形成的第二平面图形，所述测试基板为未设置有像素结构的导电基板。2.根据权利要求1所述的具有像素结构的基板，其特征在于，每个所述像素单元包括多个子像素，多个所述发光区域对应的多个第一平面图形S1的形状选自圆形、椭圆形和正n边形中的一种或多种，其中，n为大于等于6的整数。3.根据权利要求2所述的具有像素结构的基板，其特征在于，在所述发光区域为椭圆形的情况下，所述椭圆形的长轴的长度2a和短轴的长度2b满足如下公式：b≤a≤2b。4.根据权利要求1所述的具有像素结构的基板，其特征在于，所述特定高度为所述喷墨打印装置打印时喷嘴距离所述具有像素结构的基板的凹陷底面的高度，优选所述特定高度大于等于0.4mm，且小于等于1mm。5.根据权利要求1所述的具有像素结构的基板，其特征在于，所述子像素中发光区域对应凹陷的容积为V1，所述单次喷射出的液体材料的体积为V2，则V2≤V1≤10V2，优选1pL≤V2≤10pL。6.根据权利要求1所述的具有像素结构的基板...

【专利技术属性】
技术研发人员：彭军军，
申请(专利权)人：纳晶科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江,33