一种阵列基板及其制备方法、液晶显示面板技术

本发明专利技术实施例提供了一种阵列基板及其制备方法、液晶显示面板，涉及显示技术领域，提出一种新的具有半透半反功能的阵列基板结构。所述阵列基板包括阵列排布的多个像素单元，每个所述像素单元包括反射区和透射区；针对任一个像素单元，所述阵列基板包括衬底基板、设置在所述衬底基板上的薄膜晶体管、以及相互电连接的反射电极和第一透明电极；在所述反射电极和所述第一透明电极之间还设置第一有机透明绝缘层，且所述反射电极位于所述第一有机透明绝缘层靠近所述衬底基板的一侧；其中，所述反射电极位于所述反射区，所述第一透明电极位于所述透射区。用于显示装置的制造。

Array substrate and preparation method thereof, liquid crystal display panel

The embodiment of the invention provides an array substrate and a preparation method thereof, and a liquid crystal display panel, which relates to the display technology field, and presents a new structure of an array substrate with transflective function. The array substrate comprises a plurality of pixel units arranged in arrays, wherein each pixel unit includes a reflection area and a transmission area; for any pixel unit, an array substrate includes a substrate, a thin film transistor is arranged on the substrate, the substrate and the reflection electrode are electrically connected with the first transparent electrode and the first organic; the transparent insulating layer is also arranged between the reflective electrode and the first transparent electrode and the reflective electrode is positioned on the first organic transparent insulating layer near the substrate side; among them, the reflection electrode in the reflection region, the first transparent electrode is positioned in the transmission area. Used for the manufacture of display devices.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种阵列基板及其制备方法、液晶显示面板。
技术介绍
所述半透半反式液晶显示装置在构成其液晶显示面板的显示区域内包括透射区和反射区；其中，所述透射区通过对来自背光源的光的透射量进行控制而实现透射型显示，所述反射区通过对来自外部环境的光的反射量进行控制而实现反射型显示。即，所述半透半反式液晶显示装置在较暗的环境下主要通过透射型显示，而在较亮的环境下主要通过反射型显示，从而确保显示图像的视认性。在设计半透半反式液晶显示装置时，需要将透射区和反射区的相位延迟R设置为相差2倍，例如可以将所述透射区的相位延迟设置为λ/2，将所述反射区的相位延迟设置为λ/4；其中，λ为对显示有贡献的光的波长。目前，主要是通过控制所述透射区和所述反射区液晶层厚度d的不同，即控制所述透射区的液晶层厚度为所述反射区的液晶层厚度的2倍，来实现半透半反式显示的。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种阵列基板及其制备方法、液晶显示面板，提出一种新的具有半透半反功能的阵列基板结构。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案：一方面，提供一种阵列基板，包括阵列排布的多个像素单元，每个所述像素单元包括反射区和透射区；针对任一个像素单元，所述阵列基板包括衬底基板、设置在所述衬底基板上的薄膜晶体管、以及相互电连接的反射电极和第一透明电极；在所述反射电极和所述第一透明电极之间还设置第一有机透明绝缘层，且所述反射电极位于所述第一有机透明绝缘层靠近所述衬底基板的一侧；其中，所述反射电极位于所述反射区，所述第一透明电极位于所述透射区。优选的，所述反射区与所述薄膜晶体管的位置对应。进一步优选的，所述第一透明电极通过设置在所述第一有机透明绝缘层中的过孔与所述反射电极接触。可选的，所述反射电极和所述第一透明电极与所述薄膜晶体管的漏极电连接。进一步可选的，所述阵列基板还包括设置在所述薄膜晶体管与所述反射电极之间的第二有机透明绝缘层；其中，所述反射电极通过设置在所述第二有机透明绝缘层中的过孔与所述漏极接触。进一步的，所述阵列基板还包括依次设置在所述第一透明电极上方的钝化层和第二透明电极；其中，在所述反射电极和所述第一透明电极与所述薄膜晶体管的漏极之间无电连接的情况下，所述第二透明电极与所述漏极电连接。另一方面，提供一种液晶显示面板，包括对盒成型的阵列基板和彩膜基板，以及位于两基板之间的液晶层；所述阵列基板为上述的阵列基板。可选的，所述液晶显示面板还包括设置在所述阵列基板背离所述液晶层一侧的第一偏光片以及设置在所述彩膜基板背离所述液晶层一侧的第二偏光片，所述第一偏光片和所述第二偏光片的透过轴相互垂直；其中，所述第一偏光片还包括内置的第一λ/4相位延迟膜；所述第二偏光片还包括内置的第二λ/4相位延迟膜。优选的，与所述阵列基板的透射区对应的液晶层厚度等于与所述阵列基板的反射区对应的液晶层厚度。再一方面，提供一种阵列基板的制备方法，包括形成阵列排布的多个像素单元，每个所述像素单元包括透射区和反射区；针对任一个像素单元，所述方法包括：在衬底基板上形成薄膜晶体管、相互电连接的反射电极和第一透明电极、以及位于所述反射电极和所述第一透明电极之间的第一有机透明绝缘层；其中，所述反射电极位于所述第一有机透明绝缘层的下方，所述第一透明电极位于所述第一有机透明绝缘层的上方；所述反射电极形成在所述反射区，所述第一透明电极形成在所述透射区。优选的，所述反射区与所述薄膜晶体管的位置对应。进一步优选的，所述第一透明电极通过形成在所述第一有机透明绝缘层中的过孔与所述反射电极接触。可选的，所述反射电极和所述第一透明电极与所述薄膜晶体管的漏极电连接。进一步可选的，所述方法还包括在所述薄膜晶体管与所述反射电极之间形成第二有机透明绝缘层；其中，所述反射电极通过形成在所述第二有机透明绝缘层中的过孔与所述漏极接触。进一步的，所述方法还包括在所述第一透明电极上方依次形成钝化层和第二透明电极；其中，在所述反射电极和所述第一透明电极与所述薄膜晶体管的漏极之间无电连接的情况下，所述第二透明电极与所述漏极电连接。本专利技术实施例提供一种阵列基板及其制备方法、液晶显示面板；所述阵列基板包括阵列排布的多个像素单元，每个所述像素单元包括反射区和透射区；针对任一个像素单元，所述阵列基板包括衬底基板、设置在所述衬底基板上的薄膜晶体管、以及相互电连接的反射电极和第一透明电极；在所述反射电极和所述第一透明电极之间还设置第一有机透明绝缘层，且所述反射电极位于所述第一有机透明绝缘层靠近所述衬底基板一侧；其中，所述反射电极位于所述反射区，所述第一透明电极位于所述透射区。通过在所述反射区设置所述反射电极，在所述透射区设置所述第一透明电极，并使所述反射电极和所述第一透明电极不同层设置(所述反射电极靠近所述衬底基板，所述第一透明电极远离所述衬底基板)，来使所述反射区的所述反射电极和所述第二透明电极之间的间距大于所述透射区的所述第一透明电极和所述第二透明电极之间的间距；在此基础上，由于所述反射电极和所述第二透明电极之间的间距与所述第一透明电极和所述第二透明电极之间的间距的不同在于位于所述反射电极和所述第一透明电极之间的第一有机透明绝缘层，因此本专利技术实施例中，在所述反射电极和所述第二透明电极之间的电压与所述第一透明电极和所述第二透明电极之间的电压相等的情况下，通过控制该第一有机透明绝缘层的介电常数与厚度之间的关系，便可以使所述透射区的电场强度为所述反射区的电场强度的2倍，从而可以使所述透射区的液晶的相位延迟为所述反射区的液晶的相位延迟的2倍；基于此，当所述阵列基板应用于液晶显示面板时，便可以在较暗的环境下通过透射背光源的光进行显示，而在较亮的环境下通过反射外部环境的光进行显示，从而可以降低能耗，提高光的利用率。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例提供的一种阵列基板的结构示意图一；图2为本专利技术实施例提供的一种阵列基板的结构示意图二；图3为本专利技术实施本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阵列基板，包括阵列排布的多个像素单元，每个所述像素单元包括反射区和透射区；其特征在于，针对任一个像素单元，所述阵列基板包括衬底基板、设置在所述衬底基板上的薄膜晶体管、以及相互电连接的反射电极和第一透明电极；在所述反射电极和所述第一透明电极之间还设置第一有机透明绝缘层，且所述反射电极位于所述第一有机透明绝缘层靠近所述衬底基板的一侧；其中，所述反射电极位于所述反射区，所述第一透明电极位于所述透射区。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，包括阵列排布的多个像素单元，每个所述像素
单元包括反射区和透射区；其特征在于，
针对任一个像素单元，所述阵列基板包括衬底基板、设置在所述
衬底基板上的薄膜晶体管、以及相互电连接的反射电极和第一透明电
极；
在所述反射电极和所述第一透明电极之间还设置第一有机透明绝
缘层，且所述反射电极位于所述第一有机透明绝缘层靠近所述衬底基
板的一侧；
其中，所述反射电极位于所述反射区，所述第一透明电极位于所
述透射区。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述反射区与
所述薄膜晶体管的位置对应。
3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一透明
电极通过设置在所述第一有机透明绝缘层中的过孔与所述反射电极接
触。
4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述反射电极
和所述第一透明电极与所述薄膜晶体管的漏极电连接。
5.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板
还包括设置在所述薄膜晶体管与所述反射电极之间的第二有机透明绝
缘层；
其中，所述反射电极通过设置在所述第二有机透明绝缘层中的过
孔与所述漏极接触。
6.根据权利要求1至5任一项所述的阵列基板，其特征在于，所
述阵列基板还包括依次设置在所述第一透明电极上方的钝化层和第二
透明电极；
其中，在所述反射电极和所述第一透明电极与所述薄膜晶体管的
漏极之间无电连接的情况下，所述第二透明电极与所述漏极电连接。
7.一种液晶显示面板，包括对盒成型的阵列基板和彩膜基板，以
及位于两基板之间的液晶层；其特征在于，所述阵列基板为权利要求1
至6任一项所述的阵列基板。
8.根据权利要求7所述的液晶显示面板，其特征在于，所述液晶
显示面板还包括设置在所述阵列基板背离所述液晶层一侧的第一偏光
片以及设置在所述彩膜基板背离所述液晶层一侧的第二偏光片，...

【专利技术属性】
技术研发人员：崔贤植，李会，方正，王海燕，田允允，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11