The invention discloses a manufacturing method of an ornamental metal pattern and an electronic device. The manufacturing method comprises the following steps. A housing is provided in which the shell has a surface, then a metal layer is formed on the surface of the case, and thereafter a first etch mask is formed on the metal layer. The photoresist will be exposed to the metal layer outside the first etching mask to remove or reduce. Finally, remove the first etch mask by photo etching way local area in the shell made of decorative metal pattern, so that the housing has a metallic luster and patterns, and make the antenna signal through the signal transmission housing. The invention also provides an electronic device including the decorative metal pattern.
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种金属图案的制造方法及电子装置,且特别是涉及一种装饰性金属图案的制造方法及包括装饰性金属图案的电子装置。
技术介绍
现今,为了增进商品美观,在商品的壳体上形成图案已是相当常见的一种方式。通常可利用在商品的壳体上喷涂油墨或是利用热转印膜片来将油墨层热转印到产品的壳体表面等方式完成。随着制作工艺进步与美感提升,产品外观的质感提升越来越多被重视。目前,若欲在商品的壳体外观上表现出金属质感,一般是直接使用金属外壳或是将金属利用电镀方式镀到壳体上。但这样的壳体若是应用于移动电话上,则会限制天线的设计。若是将仿金属的材料利用喷漆、喷墨或是热转印的方式,喷涂到局部的壳体上,则又因为材料质感的限制,而无法表现出真实的金属光泽。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种装饰性金属图案的制造方法,可将装饰性金属图案设置于壳体的局部表面,以在商品的壳体外观上表现出金属质感,并且可避开特定元件的位置。本专利技术的再一目的在于提供一种电子装置,包括上述的装饰性金属图案。为达上述目的,本专利技术提出一种装饰性金属图案的制造方法,包括:提供一壳体,其中壳体具有一表面;形成一金属层于壳体的表面;形成一第一蚀刻掩模至金属层上;蚀刻部分暴露于第一蚀刻掩模外的金属层以形成一装饰性金属图案;移除第一蚀刻掩模。在本专利技术的一实施例中,上述的形成第一蚀刻掩模的步骤包括形成一第一光致抗蚀剂层至金 ...
【技术保护点】
一种装饰性金属图案的制造方法,包括:提供一壳体,其中该壳体具有一表面;形成一金属层于该壳体的该表面;形成一第一蚀刻掩模至该金属层上;蚀刻部分暴露于该第一蚀刻掩模外的该金属层以形成一装饰性金属图案;以及移除该第一蚀刻掩模。
【技术特征摘要】
1.一种装饰性金属图案的制造方法,包括:
提供一壳体,其中该壳体具有一表面;
形成一金属层于该壳体的该表面;
形成一第一蚀刻掩模至该金属层上;
蚀刻部分暴露于该第一蚀刻掩模外的该金属层以形成一装饰性金属图
案;以及
移除该第一蚀刻掩模。
2.如权利要求1所述的装饰性金属图案的制造方法,其中形成该第一蚀
刻掩模的步骤包括:
形成一第一光致抗蚀剂层至该金属层上;
曝光该第一光致抗蚀剂层;以及
显影已曝光的该第一光致抗蚀剂层以形成该第一蚀刻掩模。
3.如权利要求2所述的装饰性金属图案的制造方法,其中形成该第一蚀
刻掩模的步骤还包括:
设置一第一光掩模在位于该表面的一第一区域上的该第一光致抗蚀剂
层上;
曝光该第一区域上的该第一光致抗蚀剂层;
设置一第二光掩模在位于该表面的一第二区域上的该第一光致抗蚀剂
层上,其中该第一区域与该第二区域位于该表面的不同的平面;以及
曝光该第二区域上的该第一光致抗蚀剂层。
4.如权利要求1所述的装饰性金属图案的制造方法,其中该壳体的该表
面具有一凹槽,且该装饰性金属图案位于该凹槽。
5.如权利要求1所述的装饰性金属图案的制造方法,还包括:
形成一第二蚀刻掩模至该装饰性金属图案上;
蚀刻部分暴露于该第二蚀刻掩模外的该装饰性金属图案以形成一凸版
图案或一凹版图案于该装...
【专利技术属性】
技术研发人员:胡智凯,庄益诚,
申请(专利权)人:宏达国际电子股份有限公司,
类型:发明
国别省市:中国台湾;71
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