相机模组及电子装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种相机模组及电子装置。相机模组包括两个镜头模组，每个镜头模组包括影像传感器，每个影像传感器包括像素阵列和控制电路。像素阵列包括多个行像素和多个列像素。控制电路用于控制影像传感器工作于成像模式或光感模式，控制电路还用于接收光感指令以控制部分行像素及部分列像素的交叉区域检测光照强度，以使所述影像传感器工作于所述光感模式；接收成像指令以控制像素阵列获取影像，以使所述影像传感器工作于所述成像模式。本发明专利技术实施方式的相机模组和电子装置中，由于同一个影像传感器具有成像模式和光感模式，避免手机等电子装置同时设置一个摄像元件及一个光感元件，使得手机等电子装置中用于布置显示屏的空间较大，手机等电子装置的屏占比较高。

【技术实现步骤摘要】
相机模组及电子装置
本专利技术涉及电子
，特别涉及一种相机模组及电子装置。
技术介绍
现有的手机通常均设置有用于自拍的前置摄像头以及用于感测环境光亮度以实现根据环境光亮度调节显示屏亮度的光感器。但目前大多数手机将前置摄像头和光感器分开设置，导致手机中可用于布置显示屏的空间的比例较小，手机屏占比低。
技术实现思路
本专利技术实施方式提供一种相机模组和一种电子装置。本专利技术实施方式的相机模组包括两个镜头模组，每个所述镜头模组包括影像传感器，每个所述影像传感器包括：像素阵列，所述像素阵列包括多个行像素和多个列像素；和控制电路，所述控制电路用于控制所述影像传感器工作于成像模式或光感模式，所述控制电路还用于：接收光感指令以控制所述像素阵列中的部分所述行像素及部分所述列像素的交叉区域检测光照强度，以使所述影像传感器工作于所述光感模式；和接收成像指令以控制所述像素阵列获取影像，以使所述影像传感器工作于所述成像模式。在某些实施方式中，所述交叉区域为环形交叉区域，所述环形交叉区域环绕所述像素阵列的中心设置。在某些实施方式中，所述环形交叉区域以所述中心呈中心对称设置。在某些实施方式中，所述环形交叉区域呈圆环形或方环形。在某些实施方式中，所述交叉区域的数量为多个，全部的所述交叉区域绕所述像素阵列的中心均匀间隔分布。在某些实施方式中，全部的所述交叉区域的面积均相等。在某些实施方式中，所述交叉区域位于所述像素阵列的中心位置。在某些实施方式中，所述交叉区域的面积与所述像素阵列的面积的比值范围为[0.1，0.4]。在某些实施方式中，每个镜头模组设置于所述影像传感器上方的滤光片。在某些实施方式中，每个所述镜头模组包括设置于所述滤光片上方的镜头，所述镜头的光轴与所述影像传感器的中心对齐。在某些实施方式中，两个所述影像传感器中的交叉区域彼此远离地设置在对应的所述影像传感器的一侧。本专利技术实施方式的电子装置包括以上任一实施方式的相机模组和处理器，所述处理器用于生成所述光感指令和所述成像指令。在某些实施方式中，所述相机模组的数量为单个，单个所述相机模组为前置相机模组，在两个所述影像传感器的所述像素阵列中的所述交叉区域分别检测光照强度以得到第一光照强度和第二光照强度时，所述处理器用于从所述第一光照强度和所述第二光照强度中选取较大者以作为最终光照强度；或所述处理器用于计算所述第一光照强度和所述第二光照强度的平均值以得到最终光照强度。在某些实施方式中，所述相机模组的数量为两个，其中一个所述相机模组为前置相机模组，另一个所述相机模组为后置相机模组，在所述前置相机模组的两个所述像素阵列中的所述交叉区域分别检测光照强度以得到第一光照强度和第二光照强度，且在所述后置相机模组的两个所述像素阵列中的所述交叉区域分别检测光照强度以得到第三光照强度和第四光照强度时，所述处理器用于从所述第一光照强度、所述第二光照强度、所述第三光照强度及所述第四光照强度中选取较大者以作为最终光照强度；或所述处理器用于计算所述第一光照强度和所述第二光照强度的平均值以得到前置光照强度，及计算所述第三光照强度和所述第四光照强度的平均值以得到后置光照强度，及从所述前置光照强度及所述后置光照强度中选取较大者以作为最终光照强度；所述处理器用于从所述第一光照强度和所述第二光照强度中选取较大者以作为前置光照强度，及计算所述第三光照强度和所述第四光照强度的平均值以得到后置光照强度，及从所述前置光照强度及所述后置光照强度中选取较大者以作为最终光照强度；或所述处理器用于计算所述第一光照强度和所述第二光照强度的平均值以得到前置光照强度，及从所述第三光照强度和所述第四光照强度中选取较大者以作为后置光照强度，及从所述前置光照强度及所述后置光照强度中选取较大者以作为最终光照强度。在某些实施方式中，所述相机模组的数量为两个，其中一个所述相机模组为前置相机模组，另一个所述相机模组为后置相机模组，在所述前置相机模组的其中一个所述像素阵列中的所述交叉区域检测光照强度以得到第一光照强度，且在所述后置相机模组的其中一个所述像素阵列中的所述交叉区域检测光照强度以得到第二光照强度时，所述处理器用于从所述第一光照强度和所述第二光照强度中选取较大者以作为最终光照强度。在某些实施方式中，所述相机模组的数量为两个，其中一个所述相机模组为前置相机模组，另一个所述相机模组为后置相机模组，在所述前置相机模组的两个所述像素阵列中的所述交叉区域分别检测光照强度以得到第一光照强度和第二光照强度，且在所述后置相机模组的其中一个所述像素阵列中的所述交叉区域检测光照强度以得到第三光照强度时，所述处理器用于从所述第一光照强度和所述第二光照强度中选取较大者以作为前置光照强度，及从所述前置光照强度及所述第三光照强度中选取较大者以作为最终光照强度；或所述处理器用于计算所述第一光照强度和所述第二光照强度的平均值以得到前置光照强度，及从所述前置光照强度及所述第三光照强度中选取较大者以作为最终光照强度。在某些实施方式中，所述相机模组的数量为两个，其中一个所述相机模组为前置相机模组，另一个所述相机模组为后置相机模组，在所述前置相机模组的其中一个所述像素阵列中的所述交叉区域检测光照强度以得到第一光照强度时，在所述后置相机模组的两个所述像素阵列中的所述交叉区域分别检测光照强度以得到第二光照强度和第三光照强度时，所述处理器用于从所述第二光照强度和所述第三光照强度中选取较大者以作为后置光照强度，及从所述后置光照强度及所述第一光照强度中选取较大者以作为最终光照强度；或所述处理器用于计算所述第二光照强度和所述第三光照强度的平均值以得到后置光照强度，及从所述后置光照强度及所述第一光照强度中选取较大者以作为最终光照强度。在某些实施方式中，所述电子装置还包括单个摄像模组，所述摄像模组包括：图像传感器，所述图像传感器包括：像素阵列，所述图像传感器的像素阵列包括多个行像素和多个列像素；和控制电路，所述图像传感器的控制电路用于控制所述图像传感器工作于成像模式或光感模式，所述图像传感器的控制电路还用于：接收所述图像传感器的光感指令以控制所述图像传感器的像素阵列的部分所述行像素及所述图像传感器的像素阵列的部分所述列像素的交叉区域检测光照强度，以使所述图像传感器工作于所述光感模式；和接收所述图像传感器的影像指令以控制所述图像传感器的像素阵列获取影像，以使所述图像传感器工作于所述成像模式。在某些实施方式中，所述相机模组的数量为单个，单个相机模组为前置相机模组，所述摄像模组为后置摄像模组；或所述相机模组的数量为单个，单个相机模组为后置相机模组，所述摄像模组为前置摄像模组。在某些实施方式中，所述相机模组的数量为两个，其中一个所述相机模组为前置相机模组，另一个所述相机模组为后置相机模组，在所述前置相机模组的两个所述影像传感器均工作于所述成像模式时，所述后置相机模组的两个所述影像传感器中的至少一个所述影像传感器工作于所述光感模式；或在所述后置相机模组的两个所述影像传感器均工作于所述成像模式时，所述前置相机模组的两个所述影像传感器中的至少一个所述影像传感器工作于所述光感模式。在某些实施方式中，所述相机模组的数量为两个，其中一个所述相机模组为前置相机模组，另一个所述相机模组为后置相机模组，在所述处理器未生成本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种相机模组，其特征在于包括两个镜头模组，每个所述镜头模组包括影像传感器，每个所述影像传感器包括：像素阵列，所述像素阵列包括多个行像素和多个列像素；和控制电路，所述控制电路用于控制所述影像传感器工作于成像模式或光感模式，所述控制电路还用于：接收光感指令以控制所述像素阵列中的部分所述行像素及部分所述列像素的交叉区域检测光照强度，以使所述影像传感器工作于所述光感模式；和接收成像指令以控制所述像素阵列获取影像，以使所述影像传感器工作于所述成像模式。

【技术特征摘要】
1.一种相机模组，其特征在于包括两个镜头模组，每个所述镜头模组包括影像传感器，每个所述影像传感器包括：像素阵列，所述像素阵列包括多个行像素和多个列像素；和控制电路，所述控制电路用于控制所述影像传感器工作于成像模式或光感模式，所述控制电路还用于：接收光感指令以控制所述像素阵列中的部分所述行像素及部分所述列像素的交叉区域检测光照强度，以使所述影像传感器工作于所述光感模式；和接收成像指令以控制所述像素阵列获取影像，以使所述影像传感器工作于所述成像模式。2.根据权利要求1所述的相机模组，其特征在于，所述交叉区域为环形交叉区域，所述环形交叉区域环绕所述像素阵列的中心设置。3.根据权利要求2所述的相机模组，其特征在于，所述环形交叉区域以所述中心呈中心对称设置。4.根据权利要求2所述的相机模组，其特征在于，所述环形交叉区域呈圆环形或方环形。5.根据权利要求1所述的相机模组，其特征在于，所述交叉区域的数量为多个，全部的所述交叉区域绕所述像素阵列的中心均匀间隔分布。6.根据权利要求5所述的相机模组，其特征在于，全部的所述交叉区域的面积均相等。7.根据权利要求1所述的相机模组，其特征在于，所述交叉区域位于所述像素阵列的中心位置。8.根据权利要求1所述的相机模组，其特征在于，所述交叉区域的面积与所述像素阵列的面积的比值范围为[0.1，0.4]。9.根据权利要求1所述的相机模组，其特征在于，每个所述镜头模组包括设置于所述影像传感器上方的滤光片。10.根据权利要求8所述的相机模组，其特征在于，每个所述镜头模组包括设置于所述滤光片上方的镜头，所述镜头的光轴与所述影像传感器的中心对齐。11.根据权利要求1所述的相机模组，其特征在于，两个所述影像传感器中的交叉区域彼此远离地设置在对应的所述影像传感器的一侧。12.一种电子装置，其特征在于，包括权利要求1-11任意一项所述的相机模组，所述电子装置还包括处理器，所述处理器用于生成所述光感指令和所述成像指令。13.根据权利要求12所述的电子装置，其特征在于，所述相机模组的数量为单个，单个所述相机模组为前置相机模组，在两个所述像素阵列中的所述交叉区域分别检测光照强度以得到第一光照强度和第二光照强度时，所述处理器用于从所述第一光照强度和所述第二光照强度中选取较大者以作为最终光照强度；或所述处理器用于计算所述第一光照强度和所述第二光照强度的平均值以得到最终光照强度。14.根据权利要求12所述的电子装置，其特征在于，所述相机模组的数量为两个，其中一个所述相机模组为前置相机模组，另一个所述相机模组为后置相机模组，在所述前置相机模组的两个所述像素阵列中的所述交叉区域分别检测光照强度以得到第一光照强度和第二光照强度，且在所述后置相机模组的两个所述像素阵列中的所述交叉区域分别检测光照强度以得到第三光照强度和第四光照强度时，所述处理器用于从所述第一光照强度、所述第二光照强度、所述第三光照强度及所述第四光照强度中选取较大者以作为最终光照强度；或所述处理器用于计算所述第一光照强度和所述第二光照强度的平均值以得到前置光照强度，及计算所述第三光照强度和所述第四光照强度的平均值以得到后置光照强度，及从所述前置光照强度及所述后置光照强度中选取较大者以作为最终光照强度；所述处理器用于从所述第一光照强度和所述第二光照强度中选取较大者以作为前置光照强度，及计算所述第三光照强度和所述第四光照强度的平均值以得到后置光照强度，及从所述前置光照强度及所述后置光照强度中选取较大者以作为最终光照强度；或所述处理器用于计算所述第一光照强度和所述第二光照强度的平均值以得到前置光照强度，及从所述第三光照强度和所述第四光照强度中选取较大者以作为后置光照强度，及从所述前置光照强度及所述后置光照强度中选取较大者以作为最终光照强度。15.根据权利要求12所述的电子装置，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：周意保，成蛟，张海平，
申请(专利权)人：广东欧珀移动通信有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44