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一种水滴法胶质量子点微盘的制备方法技术

技术编号:16329399 阅读:53 留言:0更新日期:2017-09-29 20:35
本发明专利技术公开了一种水滴法胶质量子点微盘的制备方法。本发明专利技术将胶质量子点溶解在两种具有不同链长的有机溶剂中,控制两种有机溶剂的体积比和环境温度滴涂在成膜基底上,烘烤使混合溶剂完全挥发后,形成高质量的胶质量子点薄膜;通过在胶质量子点薄膜表面滴水,利用水滴的表面张力释放胶质量子点薄膜内部的残余应力,胶质量子点薄膜在胶质量子点薄膜‑水‑空气三相接触线位置破裂成大量形状不同的小块,形成微米尺寸的胶质量子点微盘,移到表面洁净的转移基底上,在泵浦光的作用下实现了单模和多模室温片上激光器,并与波导实现片上集成;本发明专利技术的胶质量子点微盘在恶劣环境下也十分稳定;本发明专利技术的方法简单廉价,在固态小尺寸激光器领域具有重要意义。

【技术实现步骤摘要】
一种水滴法胶质量子点微盘的制备方法
本专利技术涉及胶质量子点微盘激光器,具体涉及一种水滴法胶质量子点微盘的制备方法。
技术介绍
由于胶质量子点制作成本低,量子产率高(~100%),以及调辐射波长可调,在过去的十多年中,可溶液处理的胶质量子点在激光领域得到了广泛研究。胶质量子点可以通过廉价的化学合成方法制作。通过改变胶质量子点的尺寸和成分,胶质量子点激光器的辐射波长已经覆盖整个可见区和近红外。因此,胶质量子点解决了传统半导体材料在蓝光波段遇到的问题,并且它们还能被制作成致密堆积的量子点固体。此外,胶质量子点的性质非常稳定,它们在恶劣的环境下或经历过极端条件处理后,比如水、氧、热等,依然可以实现激光输出,而此时其它一些增益材料不再工作。因此,人们采用不同的微腔结构实现了胶质量子点激光器,这些微腔结构包括法布里-珀罗(FP)腔、回音壁模式(WGM)腔、分布反馈(DFB)腔、随机腔和光子晶体腔。在这些激光器中,微腔仅提供光学反馈,而填充在微腔中的胶质量子点薄膜或溶液用来提供增益。但是,上述FP腔、随机腔以及中空光纤WGM腔体积很大,导致它们很难在片上集成。而DFB腔和光子晶体腔需要昂贵和高真本文档来自技高网...
一种水滴法胶质量子点微盘的制备方法

【技术保护点】
一种水滴法胶质量子点微盘的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括以下步骤:1)把胶质量子点溶解在第一有机溶剂中,然后将第二有机溶剂与第一有机溶剂混合,形成混合溶剂胶质量子点溶液,第一有机溶剂与第二有机溶剂具有不同的链长,并且需要控制这两种溶剂的比例;2)提供表面洁净的成膜基底;3)控制环境温度,将混合溶剂胶质量子点溶液滴涂在成膜基底上,由于第一有机溶剂与第二有机溶剂具有不同的链长,混合溶剂胶质量子点溶液均匀分散在整个成膜基底的表面;4)在大气环境中,当混合溶剂挥发完毕,胶质量子点会堆积成致密的胶质量子点薄膜,胶质量子点薄膜的厚度通过滴涂过程中混合溶剂量子点溶液的浓度和体积来控制;5)将具有胶质...

【技术特征摘要】
1.一种水滴法胶质量子点微盘的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括以下步骤:1)把胶质量子点溶解在第一有机溶剂中,然后将第二有机溶剂与第一有机溶剂混合,形成混合溶剂胶质量子点溶液,第一有机溶剂与第二有机溶剂具有不同的链长,并且需要控制这两种溶剂的比例;2)提供表面洁净的成膜基底;3)控制环境温度,将混合溶剂胶质量子点溶液滴涂在成膜基底上,由于第一有机溶剂与第二有机溶剂具有不同的链长,混合溶剂胶质量子点溶液均匀分散在整个成膜基底的表面;4)在大气环境中,当混合溶剂挥发完毕,胶质量子点会堆积成致密的胶质量子点薄膜,胶质量子点薄膜的厚度通过滴涂过程中混合溶剂量子点溶液的浓度和体积来控制;5)将具有胶质量子点薄膜的成膜基底进行烘烤,控制烘烤温度和时间,使残留在胶质量子点薄膜内的第一有机溶剂和第二有机溶剂完全挥发,此时胶质量子点薄膜内部存在残余应力;6)在胶质量子点薄膜的表面滴水,水滴部分覆盖胶质量子点薄膜的表面,水滴的表面张力将胶质量子点薄膜内部的残余应力释放;7)胶质量子点薄膜沿着胶质量子点薄膜-水-空气三相接触线的位置破裂成大量的小块;这些小块脱离成膜基底后漂浮在水滴表面,形成大量形状不同的微米尺寸的胶质量子点微盘;8)将漂浮胶质量子点微盘的水滴分散到盛有水的烧杯中;9)用旋涂、滴涂或浸涂的方式把烧杯中的胶质量子点微盘转移到表面洁净的...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈建军容科秀孙成伟施可彬龚旗煌
申请(专利权)人:北京大学
类型:发明
国别省市:北京,11

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