一种基质栽培供液的控制方法、控制系统及计算机装置制造方法及图纸

本发明专利技术提出了一种基质栽培供液的控制方法、控制系统、计算机装置及计算机可读存储介质，基质栽培供液的控制方法包括：获取作物的当前生长阶段，根据当前生长阶段从生长模型中查询当前生长阶段对应的水分参数阈值范围；检测基质的当前水分参数值；判断当前水分参数值是否处于水分参数阈值范围内；当当前水分参数值未处于水分参数阈值范围内时，控制向基质供液；当当前水分参数值处于水分参数阈值范围内时，停止向基质供液。本发明专利技术通过作物生长不同阶段对生长环境的要求(基质水分含量)判定触发供液和停止供液，不仅能够满足作物的生长需求，而且使对基质的供液过程更加智能化。

【技术实现步骤摘要】
一种基质栽培供液的控制方法、控制系统及计算机装置
本专利技术涉及基质栽培
，具体而言，涉及一种基质栽培供液的控制方法、控制系统、计算机装置及计算机可读存储介质。
技术介绍
目前，无土基质栽培已广泛应用于温室中进行种植各种果蔬，这种栽培方式具有精密控制植物生长全部环境的能力。基质栽培不需要土壤，减少了土壤中的各种草虫病害，避免了水分的大量渗透及流失。现有技术中，对机制栽培营养液的控制主要采取两种方法：方法一，采用定时器按照固定的时间间隔向基质内供给一定量的营养液；方法二，根据累计光照达到一定值时便向基质内按照经验供给一定量的营养液。但是，不论是定时供给还是在光照度满足一定条件时进行供给都没有与作物实际的生长需求结合在一起，即上述两种对机制栽培营养液的控制都不够智能化。
技术实现思路
本专利技术旨在至少解决现有技术或相关技术中存在的技术问题之一。为此，本专利技术的一个目的在于提出了一种基质栽培供液的控制方法。本专利技术的另一个目的在于提出了一种基质栽培供液的控制系统。本专利技术的再一个目的在于提出了一种计算机装置。本专利技术的又一个目的在于提出了一种计算机可读存储介质。有鉴于此，根据本本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基质栽培供液的控制方法，其特征在于，包括：获取作物的当前生长阶段，根据所述当前生长阶段从生长模型中查询所述当前生长阶段对应的水分参数阈值范围；检测基质的当前水分参数值；判断所述当前水分参数值是否处于所述水分参数阈值范围内；当所述当前水分参数值未处于所述水分参数阈值范围内时，控制向所述基质供液；当所述当前水分参数值处于所述水分参数阈值范围内时，停止向所述基质供液。

【技术特征摘要】
1.一种基质栽培供液的控制方法，其特征在于，包括：获取作物的当前生长阶段，根据所述当前生长阶段从生长模型中查询所述当前生长阶段对应的水分参数阈值范围；检测基质的当前水分参数值；判断所述当前水分参数值是否处于所述水分参数阈值范围内；当所述当前水分参数值未处于所述水分参数阈值范围内时，控制向所述基质供液；当所述当前水分参数值处于所述水分参数阈值范围内时，停止向所述基质供液。2.根据权利要求1所述的基质栽培供液的控制方法，其特征在于，所述当所述当前水分参数值未处于所述水分参数阈值范围内时，控制向所述基质供液的步骤，具体包括：当所述当前水分参数值未处于所述水分参数阈值范围内时，根据所述当前水分参数值，计算所需供液量；根据所述所需供液量，控制向所述基质供液。3.根据权利要求1所述的基质栽培供液的控制方法，其特征在于，所述停止向所述基质供液之后，还包括：获取所述基质的当前湿度、当前温度；根据所述当前湿度、所述当前温度及所述当前水分参数值计算下一供液时间；在到达所述下一供液时间时，再次检测所述当前水分参数值。4.根据权利要求3所述的基质栽培供液的控制方法，其特征在于，还包括：在到达所述下一供液时间之前，通过图像识别获取所述作物的当前生长信息；当与所述当前生长信息对应的所需水分参数值与所述基质的当前水分参数值不一致时，进行提示和/或控制向所述基质供液。5.根据权利要求1至4中任一项所述的基质栽培供液的控制方法，其特征在于，还包括：预存所述作物对应的生长模型；其中，所述生长模型包括所述作物的每个生长阶段、所述每个生长阶段的生长信息、所述每个生长阶段的水分参数阈值范围。6.一种基质栽培供液的控制系统，其特征在于，包括：第一获取单元，用于获取作物的当前生长阶段，根据所述当前生长阶段从生长模型中查询所述当前生长阶段对应的水分参数阈值范围；检测单元，用于检测基质的当前水分参数值；判断单元，用于判断所述当前水分参数值...

【专利技术属性】
技术研发人员：殷文涛，
申请(专利权)人：深圳前海弘稼科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44